JPH05242802A - Method for manufacturing cathode ray tube - Google Patents

Method for manufacturing cathode ray tube

Info

Publication number
JPH05242802A
JPH05242802A JP4307092A JP4307092A JPH05242802A JP H05242802 A JPH05242802 A JP H05242802A JP 4307092 A JP4307092 A JP 4307092A JP 4307092 A JP4307092 A JP 4307092A JP H05242802 A JPH05242802 A JP H05242802A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ray tube
cathode ray
slurry
face glass
roller
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4307092A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Masayuki Takashima
正之 高島
Masanori Mukai
政憲 向井
Yoshio Ochi
与志夫 越智
Hiroshi Koizumi
浩 小泉
Masumi Kato
真澄 加藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
Priority to JP4307092A priority Critical patent/JPH05242802A/en
Publication of JPH05242802A publication Critical patent/JPH05242802A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 フェースガラスへの蛍光体スラリ等の塗布後
において、ファンネルガラスとの接合面の清浄度を向上
させ、かつ真空引き、または洗浄液流しかけ装置の当て
止め機構からシール面に対して起こる逆汚染、余剰スラ
リの不十分な除去を防止できる陰極線管の製造方法を得
る。 【構成】 陰極線管のフェースガラス6のファンネルガ
ラスとの接合面に付着した蛍光体スラリ等をその接合面
に摩擦ローラ1を回転して接合面を払拭することにより
除去する。 【効果】 余剰スラリの除去と余剰スラリ除去装置の当
て止め機構からシール面への逆汚染を大幅に減少でき
る。
(57) [Abstract] [Purpose] Improves the cleanliness of the joint surface with the funnel glass after applying phosphor slurry etc. to the face glass, and vacuums or seals from the stopper mechanism of the cleaning liquid pouring device. (EN) A method of manufacturing a cathode ray tube capable of preventing reverse contamination that occurs on a surface and insufficient removal of excess slurry. [Structure] A phosphor slurry or the like adhering to the joint surface of the face glass 6 of the cathode ray tube with the funnel glass is removed by rotating the friction roller 1 on the joint surface and wiping the joint surface. [Effect] Excessive slurry removal and reverse contamination from the contact stop mechanism of the excess slurry removal device to the seal surface can be greatly reduced.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、陰極線管のフェース
ガラスへの蛍光体スラリ塗布工程等において、ファンネ
ルガラスとの接合面に付着した蛍光体スラリ、フィルミ
ング剤、その他のシール面汚染物質を除去するに当っ
て、その表面を単数または複数の摩擦ローラで摩擦する
ことにより除去するようにした陰極線管の製造方法に関
するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention removes phosphor slurry, filming agent, and other contaminants on the sealing surface adhering to the joint surface with the funnel glass in the process of coating phosphor slurry on the face glass of a cathode ray tube. The present invention relates to a method for manufacturing a cathode ray tube in which the surface of the cathode ray tube is removed by rubbing the surface thereof with one or more friction rollers.

【0002】[0002]

【従来の技術】陰極線管の製造において、従来、蛍光体
スラリ(以下、単にスラリと称する)の塗着工程等にお
いて、陰極線管のフェースガラスのファンネルガラスと
の接合面(以下、シール面と略称する)に付着した余剰
スラリ等を除去する際、一般に純水等の洗浄液をかける
(リムウオッシュまたはトリミング、以下トリミングと
称す)か、または低圧ないし真空吸引を行う(以下、真
空ワイプと称する)か、またはこれらの方法を複数組み
合わせてこれを行っていた。
2. Description of the Related Art In the manufacture of a cathode ray tube, in the past, in a step of coating a phosphor slurry (hereinafter simply referred to as a slurry), the surface of the cathode ray tube that joins the funnel glass (hereinafter abbreviated as a sealing surface) In order to remove the excess slurry etc. adhering to (1)), generally, a cleaning solution such as pure water is applied (rim wash or trimming, hereinafter referred to as trimming), or low pressure or vacuum suction is performed (hereinafter referred to as vacuum wipe). , Or a combination of these methods.

【0003】トリミングの場合、蛍光体等が塗布された
フェースガラスの縁(以下、スカート部と称する)に、
適当な温度の純水等を流しかけ、スカート部からシール
面にかけて、付着した余剰スラリ等を除去していた。ま
た、真空ワイプの場合、スカート部に真空吸引装置を当
て、余剰スラリ等、また、必要であれば、上記の方法に
よって、かけられた洗浄液の残りを吸引させていた。
In the case of trimming, the edge of the face glass (hereinafter referred to as a skirt portion) coated with a fluorescent substance,
Pure water or the like at an appropriate temperature was poured onto the skirt portion and the sealing surface to remove the excess slurry that had adhered. Further, in the case of vacuum wipe, a vacuum suction device is applied to the skirt to suck excess slurry or the like, and if necessary, the rest of the applied cleaning liquid by the above method.

【0004】図8ないし図11は上記従来の方法によっ
てシール面に付着した余剰スラリの除去を行ったフェー
スガラスのスカート部Sを示すものであり、図8はスカ
ート部Sのコーナ部の外側を示し、図9は直線部の外側
を示し、図10はコーナ部の内側、図11は直線部の内
側をそれぞれ示している。
8 to 11 show a skirt portion S of the face glass in which the excess slurry adhering to the sealing surface has been removed by the above-mentioned conventional method. FIG. 8 shows the outside of the corner portion of the skirt portion S. 9 shows the outside of the straight line portion, FIG. 10 shows the inside of the corner portion, and FIG. 11 shows the inside of the straight line portion.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述の
いずれの方法によっても、スラリ等の付着状態によって
は、特にシール面では、十分な除去が行われず、また、
洗浄液を流しかけるノズルや真空吸引装置の吸入口の位
置を定める当て止め機構に余剰スラリ等が付着し、シー
ル面へ汚染が生じるという問題もあった。
However, even with any of the above-mentioned methods, depending on the adhered state of slurry or the like, particularly on the sealing surface, sufficient removal is not performed, and
There is also a problem that excessive slurry or the like adheres to the contact stop mechanism that determines the position of the nozzle for pouring the cleaning liquid or the suction port of the vacuum suction device, and the sealing surface is contaminated.

【0006】無論、洗浄液を適当な酸,塩基性の物質、
または界面活性剤等にするか、あるいは吸引力を大きく
する当て止め機構のシール面との接触部を取り替える
か、または、洗浄するか、さらには当て止め機構自体を
なくして、ノズル等の位置を数値制御する等の措置が考
えられるが、それぞれ薬液取り扱い上の問題と新たな汚
染に対する問題、装置としての能力の限界,費用と装置
の維持運用の手間等の問題を惹起することになるので、
いずれもあまり望ましい方法ではない。
As a matter of course, the washing liquid is a suitable acid or basic substance,
Alternatively, use a surfactant or the like, or replace the contact part with the sealing surface of the contact stop mechanism that increases the suction force, or wash it, or even remove the contact stop mechanism itself to position the nozzle, etc. Measures such as numerical control may be considered, but they cause problems such as handling of chemicals and new contamination, limit of capacity as a device, cost and trouble of maintenance and operation of the device.
Neither is the preferred method.

【0007】この発明は、かかる問題を解決するために
なされたものであり、シール面および当て止め機構を清
浄に保ち、かつ当て止め機構からシール面への逆汚染を
防止することができる陰極線管の製造方法を提供するこ
とを目的としている。
The present invention has been made to solve the above problems, and it is possible to keep the seal surface and the contact stop mechanism clean and prevent reverse contamination from the contact stop mechanism to the seal surface. It is intended to provide a manufacturing method of.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】この発明に係る陰極線管
の製造方法は、シール面を摩擦する単数あるいは複数の
摩擦ローラを用いて除去するようにしたものである。
In the method of manufacturing a cathode ray tube according to the present invention, the cathode ray tube is removed by using one or a plurality of friction rollers that rub the sealing surface.

【0009】[0009]

【作用】この発明においては、単数あるいは複数の摩擦
ローラによりシール面を摩擦し、シール面に付着した余
剰スラリ等を除去するとともに、このシール面から剥離
した物体によりシール面等に傷をつけないようにし、シ
ール面の残存付着物を少なくし、かつ当て止め機構の汚
染によって生じるシール面への逆汚染を大幅に減少する
ようにする。
In the present invention, the seal surface is rubbed by one or more friction rollers to remove excess slurry and the like adhering to the seal surface, and the seal surface and the like are not scratched by an object separated from the seal surface. In this way, the residual deposits on the seal surface are reduced, and the reverse contamination on the seal surface caused by the contamination of the stopper mechanism is significantly reduced.

【0010】[0010]

【実施例】図1は一実施例に適用されるシール面払拭機
構の概念図であり、図2はその側面図、図3はその正面
図であり、これらの図1〜図3はトリミングおよび真空
ワイプ機構と組み合わせたものである。この図1〜図3
において、1は摩擦ローラ、2は当て止め機構のロー
ラ、3は洗浄液を供給するノズル、4はこれらの支持構
造体である。この支持構造体4は図示のごとく、「コ」
字形に形成されており、この支持構造体4の上面と下面
間には、回転可能に摩擦ローラ1と当て止め機構のロー
ラ2とが支持されている。
FIG. 1 is a conceptual view of a seal surface wiping mechanism applied to one embodiment, FIG. 2 is a side view thereof, FIG. 3 is a front view thereof, and FIGS. It is a combination with a vacuum wipe mechanism. 1 to 3
In the figure, 1 is a friction roller, 2 is a roller of a stopper mechanism, 3 is a nozzle for supplying a cleaning liquid, and 4 is a support structure thereof. This support structure 4 is shown in FIG.
A friction roller 1 and a roller 2 of an abutting stop mechanism are rotatably supported between the upper surface and the lower surface of the support structure 4 in the shape of a letter.

【0011】また、当て止め機構のローラ2は他の余剰
スラリ除去装置の当て止め機構のローラであり、この当
て止め機構のローラ2の回転により、摩擦ローラ1と当
て止め機構のローラ2が摩擦して、摩擦ローラ1が回転
するようになっている。摩擦ローラ1は樹脂等の軟か
く、かつ摩耗しにくい物質で形成されており、これ自体
あるいはこの摩擦ローラ1の表面から剥離した物体によ
り、シール面に傷をつけないようにしている。
Further, the roller 2 of the contact stopping mechanism is a roller of the contact stopping mechanism of the other excess slurry removing device, and the rotation of the roller 2 of the contact stopping mechanism causes friction between the friction roller 1 and the roller 2 of the contact stopping mechanism. Then, the friction roller 1 is adapted to rotate. The friction roller 1 is formed of a material such as resin that is soft and does not easily wear, and the seal surface is not scratched by itself or by an object separated from the surface of the friction roller 1.

【0012】また、支持構造体4の上面の中央部には、
図1からも明らかなように、方形状の孔4aが形成され
ており、この孔4aを通して、上記ノズル3が挿入され
ている。このノズル3から供給される洗浄液や摩擦ロー
ラ1により、シール面から除去される余剰スラリを吸引
ノズル5で吸引されるようになっている。この吸引ノズ
ル5は当て止め機構のローラ2の外周面近傍に配置され
ている。6は洗浄を行う対象であるフェースガラスであ
る。
Further, in the central portion of the upper surface of the support structure 4,
As is clear from FIG. 1, a rectangular hole 4a is formed, and the nozzle 3 is inserted through the hole 4a. Excessive slurry removed from the seal surface is sucked by the suction nozzle 5 by the cleaning liquid supplied from the nozzle 3 and the friction roller 1. The suction nozzle 5 is arranged near the outer peripheral surface of the roller 2 of the contact stop mechanism. Reference numeral 6 is a face glass to be cleaned.

【0013】次に、余剰スラリの除去の仕方について説
明する。フェースガラス6は、シール面洗浄が行われる
際に、適当な速さで回転している。このフェースガラス
6に押し付けられる摩擦ローラ1は、ガラスとの動摩擦
係数を当て止め機構のローラ2のそれよりも小さくする
ことにより、当て止め機構のローラ2との摩擦によって
動力を得て、フェースガラス6のシール面に接触しなが
ら、フェースガラス6と反対の方向に回転する。これに
よって、シール面に付着した余剰スラリ等が除去され
る。
Next, a method of removing the surplus slurry will be described. The face glass 6 rotates at an appropriate speed when the seal surface is cleaned. The friction roller 1 pressed against the face glass 6 has a coefficient of kinetic friction with the glass smaller than that of the roller 2 of the contact stop mechanism, thereby obtaining power by friction with the roller 2 of the contact stop mechanism to obtain the face glass. While contacting the sealing surface of 6, the face glass 6 rotates in the opposite direction. As a result, excess slurry and the like attached to the sealing surface is removed.

【0014】また、このとき、各ローラ、すなわち摩擦
ローラ1、当て止め機構のローラ2の位置は概ね定めら
れており、したがって、シール面が摩擦ローラ1に接触
する位置は、フェースガラス6の回転に合わせて、上下
する。このことが余剰スラリ等の除去効果をさらに高め
る。さらに、この摩擦ローラ1には、適当な洗浄液、た
とえば、純水等が流し掛けられ、余剰スラリの除去を助
け、また、摩擦ローラ1が余剰スラリ等によって汚染さ
れることを防止する。
At this time, the position of each roller, that is, the friction roller 1 and the roller 2 of the abutting mechanism is generally determined, and therefore, the position where the seal surface contacts the friction roller 1 is the rotation of the face glass 6. Move up and down according to. This further enhances the effect of removing excess slurry and the like. Further, an appropriate cleaning liquid, for example, pure water, is poured onto the friction roller 1 to help remove excess slurry, and the friction roller 1 is prevented from being contaminated by excess slurry.

【0015】図4〜図7はフェースガラスに付着した余
剰スラリをこの発明により除去した状態を示すものであ
り、図4はフェースガラス6のスカート部Sのコーナ部
の外側を示す斜視図、図5は直線部の外側を示し、図6
はスカート部Sのコーナ部の内側を示し、図7は直線部
の外側を示し、図8〜図11の場合よりもシール面の洗
浄度が向上している。
4 to 7 show a state in which the excess slurry adhering to the face glass is removed by the present invention. FIG. 4 is a perspective view showing the outside of the corner portion of the skirt portion S of the face glass 6. 5 indicates the outside of the straight line portion, and FIG.
Shows the inside of the corner of the skirt S, and FIG. 7 shows the outside of the straight portion, and the degree of cleaning of the sealing surface is improved as compared with the case of FIGS.

【0016】この実施例では、他の余剰スラリ除去装置
の当て止め機構にローラを用いていることを利用して、
シール面摩擦用のローラを当て止め機構のローラに接触
させることによって、駆動している。これにより、この
発明による機構全体の構造を簡素化し、かつ当て止め機
構もある程度摩擦することによって、これの汚染を防ぐ
ことも得ているが、無論、この駆動力は適当な電動機等
を用いてもよい。
In this embodiment, by utilizing the fact that a roller is used as the contact stopping mechanism of the other excess slurry removing device,
Driving is performed by bringing the roller for friction on the seal surface into contact with the roller of the stopper mechanism. As a result, the structure of the entire mechanism according to the present invention is simplified, and the contact stop mechanism is also rubbed to some extent to prevent contamination of the mechanism. However, of course, this driving force can be obtained by using an appropriate electric motor or the like. Good.

【0017】また、上記実施例では、シール面摩擦用の
摩擦ローラ1は1個の場合を例示したが、勿論これを複
数にして、余剰スラリの除去能力を向上させることも可
能である。
Further, in the above embodiment, the case where the number of the friction roller 1 for the friction of the seal surface is one is exemplified, but of course, it is possible to improve the ability to remove the excess slurry by providing a plurality of friction rollers.

【0018】[0018]

【発明の効果】この発明は以上説明したように構成され
ているので、以下に記載されるような効果を奏する。
Since the present invention is configured as described above, it has the following effects.

【0019】従来の方法のみを用いる場合と比較して、
シール面の残存余剰スラリ等の付着物および当て止め機
構からシール面への逆汚染による付着物が大幅に減少
し、また、他の方法と組み合わせた場合、当て止め機構
のシール面への接触部の取り替え、またはこの接触部の
洗浄を行う頻度が減少する。
Compared with the case where only the conventional method is used,
Adhesion such as residual slurry on the seal surface and adherence due to reverse contamination from the contact stop mechanism to the seal surface is greatly reduced.When combined with other methods, the contact part of the contact stop mechanism with the seal surface The frequency of replacement or cleaning of this contact part is reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】この発明の一実施例による陰極線管の製造方法
に適用されるシール面払拭機構の概念図である。
FIG. 1 is a conceptual diagram of a seal surface wiping mechanism applied to a method of manufacturing a cathode ray tube according to an embodiment of the present invention.

【図2】同上シール面払拭機構の側面図である。FIG. 2 is a side view of the above seal surface wiping mechanism.

【図3】同上シール面払拭機構の正面図である。FIG. 3 is a front view of the above seal surface wiping mechanism.

【図4】同上実施例によってシール面に付着した余剰ス
ラリの除去を行ったフェースガラスのスカート部のコー
ナ部の内側の部分を示す斜視図である。
FIG. 4 is a perspective view showing a portion inside a corner portion of a skirt portion of a face glass in which an excess slurry attached to a sealing surface is removed according to the above embodiment.

【図5】同上フェースガラスのスカート部の直線部の内
側の部分を示す斜視図である。
FIG. 5 is a perspective view showing a portion inside a straight portion of a skirt portion of the face glass.

【図6】同上フェースガラスのスカート部のコーナ部の
外側の部分を示す斜視図である。
FIG. 6 is a perspective view showing a portion outside the corner portion of the skirt portion of the face glass.

【図7】同上フェースガラスのスカート部の直線部の外
側の部分を示す斜視図である。
FIG. 7 is a perspective view showing a portion outside the linear portion of the skirt portion of the same face glass.

【図8】従来の払拭方法によってシール面に付着した余
剰スラリの除去を行ったフェースガラスのスカート部の
コーナ部の外側の部分を示す斜視図である。
FIG. 8 is a perspective view showing a portion outside a corner portion of a skirt portion of a face glass in which excess slurry attached to a sealing surface is removed by a conventional wiping method.

【図9】従来の払拭方法によってシール面に付着した余
剰スラリの除去を行った直線部の外側の部分を示す斜視
図である。
FIG. 9 is a perspective view showing a portion outside a straight line portion where excess slurry attached to a sealing surface has been removed by a conventional wiping method.

【図10】従来の払拭方法によってシール面に付着した
余剰スラリの除去を行ったフェースガラスのスカート部
のコーナ部の内側の部分を示す斜視図である。
FIG. 10 is a perspective view showing a portion inside a corner portion of a skirt portion of a face glass in which excess slurry attached to a sealing surface is removed by a conventional wiping method.

【図11】従来の払拭方法によってシール面に付着した
余剰スラリの除去を行ったフェースガラスのスカート部
の直線部の内側の部分を示す斜視図である。
FIG. 11 is a perspective view showing an inner portion of the straight portion of the skirt portion of the face glass in which the excess slurry attached to the sealing surface has been removed by the conventional wiping method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 摩擦ローラ 2 当て止め機構のローラ 3 洗浄液供給ノズル 4 支持構造体 5 吸引ノズル 6 フェースガラス S スカート部 1 Friction Roller 2 Roller for Stopping Mechanism 3 Cleaning Liquid Supply Nozzle 4 Support Structure 5 Suction Nozzle 6 Face Glass S Skirt

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小泉 浩 京都府長岡京市馬場図所1番地 三菱電機 株式会社京都製作所内 (72)発明者 加藤 真澄 京都府長岡京市馬場図所1番地 三菱電機 株式会社京都製作所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Hiroshi Koizumi No. 1 Baba Institute, Nagaokakyo, Kyoto Prefecture Mitsubishi Electric Corporation Kyoto Works (72) Inventor Masumi Kato No. 1 Baba Institute, Nagaokakyo Kyoto Prefecture Mitsubishi Electric Corporation Kyoto Works

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 陰極線管のフェースガラスへの蛍光体ス
ラリ塗布工程等においてファンネルガラスとの接合面に
付着した蛍光体スラリ、フィルミング剤、およびその他
のシール面汚染物質をこのシール面を摩擦する単数ある
いは複数の摩擦ローラで除去することを特徴とする陰極
線管の製造方法。
1. A phosphor slurry, a filming agent, and other contaminants on the seal surface adhered to the surface to be joined with the funnel glass are rubbed against the seal surface in the step of applying the phosphor slurry to the face glass of the cathode ray tube. A method of manufacturing a cathode ray tube, which comprises removing with one or more friction rollers.
JP4307092A 1992-02-28 1992-02-28 Method for manufacturing cathode ray tube Pending JPH05242802A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4307092A JPH05242802A (en) 1992-02-28 1992-02-28 Method for manufacturing cathode ray tube

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4307092A JPH05242802A (en) 1992-02-28 1992-02-28 Method for manufacturing cathode ray tube

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH05242802A true JPH05242802A (en) 1993-09-21

Family

ID=12653598

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4307092A Pending JPH05242802A (en) 1992-02-28 1992-02-28 Method for manufacturing cathode ray tube

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH05242802A (en)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63318041A (en) * 1987-06-18 1988-12-26 Toshiba Corp Panel cleaning device for cathode-ray tube

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63318041A (en) * 1987-06-18 1988-12-26 Toshiba Corp Panel cleaning device for cathode-ray tube

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101437630B (en) Apparatus for isolated bevel edge clean and method for using the same
US6186873B1 (en) Wafer edge cleaning
TW406216B (en) Apparatus for coating resist on substrate
US4811443A (en) Apparatus for washing opposite surfaces of a substrate
JP3679871B2 (en) Polishing apparatus and transfer robot
US6918864B1 (en) Roller that avoids substrate slippage
US5425813A (en) Apparatus and method for cleaning the surface of a web
US6200201B1 (en) Cleaning/buffer apparatus for use in a wafer processing device
JPH05242802A (en) Method for manufacturing cathode ray tube
JP3936904B2 (en) Nozzle cleaning apparatus and substrate processing apparatus provided with the nozzle cleaning apparatus
JPH08164370A (en) Cleaning device and cleaning method for plate material having many fine holes, and cleaning device and cleaning method for chuck plate of vacuum chuck
JP4031629B2 (en) Substrate cleaning apparatus and method
JPH05347287A (en) Cleaning equipment
JP2000150441A (en) Roller brush washing device
JP2005012238A (en) Method and apparatus for cleaning substrate
JP2003309097A (en) Method for cleaning scrub brush and cleaning dummy wafer for use therein
JP2005310941A (en) Spin coater cup cleaning method, spin coater, and brush jig for cup cleaning
JP7274883B2 (en) Cleaning equipment for cleaning members and substrate processing equipment
JP2004089807A (en) Cleaning devices and cleaning method
JPH0936076A (en) Cleaning equipment
JPH01258951A (en) Printer
JP3658953B2 (en) Method for manufacturing cathode ray tube
JPH10109074A (en) Washing method of washing member and device therefor
KR200153782Y1 (en) Soft edge cleaning device of panel
JP3410530B2 (en) Coater roll cleaning method