JPH05242831A - 特に陰極線管用の帯電防止被膜 - Google Patents
特に陰極線管用の帯電防止被膜Info
- Publication number
- JPH05242831A JPH05242831A JP24647692A JP24647692A JPH05242831A JP H05242831 A JPH05242831 A JP H05242831A JP 24647692 A JP24647692 A JP 24647692A JP 24647692 A JP24647692 A JP 24647692A JP H05242831 A JPH05242831 A JP H05242831A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- latex particles
- antistatic coating
- coating
- ray tube
- cathode ray
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 32
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 30
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 24
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 21
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims abstract description 21
- 239000004816 latex Substances 0.000 claims abstract description 19
- 229920000126 latex Polymers 0.000 claims abstract description 19
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 claims abstract description 11
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 claims abstract description 11
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 claims abstract description 9
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims abstract description 3
- 229920000128 polypyrrole Polymers 0.000 claims description 23
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- -1 alkyl radicals Chemical class 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 4
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 2
- 238000001246 colloidal dispersion Methods 0.000 description 2
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 150000005840 aryl radicals Chemical class 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 238000005119 centrifugation Methods 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 1
- 238000001493 electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 229920000767 polyaniline Polymers 0.000 description 1
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 1
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 229910021426 porous silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000035939 shock Effects 0.000 description 1
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J29/00—Details of cathode-ray tubes or of electron-beam tubes of the types covered by group H01J31/00
- H01J29/86—Vessels; Containers; Vacuum locks
- H01J29/867—Means associated with the outside of the vessel for shielding, e.g. magnetic shields
- H01J29/868—Screens covering the input or output face of the vessel, e.g. transparent anti-static coatings, X-ray absorbing layers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C1/00—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels
- C03C1/006—Ingredients generally applicable to manufacture of glasses, glazes, or vitreous enamels to produce glass through wet route
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
- C03C17/007—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character containing a dispersed phase, e.g. particles, fibres or flakes, in a continuous phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
- C03C17/006—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character
- C03C17/008—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating with materials of composite character comprising a mixture of materials covered by two or more of the groups C03C17/02, C03C17/06, C03C17/22 and C03C17/28
- C03C17/009—Mixtures of organic and inorganic materials, e.g. ormosils and ormocers
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
- G02B1/11—Anti-reflection coatings
- G02B1/111—Anti-reflection coatings using layers comprising organic materials
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/44—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the composition of the continuous phase
- C03C2217/45—Inorganic continuous phases
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
- C03C2217/00—Coatings on glass
- C03C2217/40—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer
- C03C2217/43—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase
- C03C2217/46—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase
- C03C2217/47—Coatings comprising at least one inhomogeneous layer consisting of a dispersed phase in a continuous phase characterized by the dispersed phase consisting of a specific material
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
- Y10T428/31551—Of polyamidoester [polyurethane, polyisocyanate, polycarbamate, etc.]
- Y10T428/31627—Next to aldehyde or ketone condensation product
- Y10T428/3163—Next to acetal of polymerized unsaturated alcohol [e.g., formal butyral, etc.]
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Elimination Of Static Electricity (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 下にある基体に強固に付着するとりわけ陰極
線管用の帯電防止被膜を得る。 【構成】 帯電防止被膜は、ポリピロール化合物よりの
ラテックス粒子（１２）を加水分解されたアルコキシシ
ラン化合物の水溶液に分散し、次いでこの分散体を基体
上に施すことによって設けられる。加水分解されたアル
コキシシラン化合物は高温での処理によって二酸化珪素
に変換され、それによって、中にラテックス粒子（１
２）が分散されたマトリックス（１４）が形成され、ま
たそれによってラテックス粒子が基体（１０）に接着的
に固定される。この帯電防止被膜は特に陰極線管の表示
スクリーン上に用いるのに適し、若し所望ならば、同時
に表示スクリーンの光透過を減少するのに用いることが
できる。
線管用の帯電防止被膜を得る。 【構成】 帯電防止被膜は、ポリピロール化合物よりの
ラテックス粒子（１２）を加水分解されたアルコキシシ
ラン化合物の水溶液に分散し、次いでこの分散体を基体
上に施すことによって設けられる。加水分解されたアル
コキシシラン化合物は高温での処理によって二酸化珪素
に変換され、それによって、中にラテックス粒子（１
２）が分散されたマトリックス（１４）が形成され、ま
たそれによってラテックス粒子が基体（１０）に接着的
に固定される。この帯電防止被膜は特に陰極線管の表示
スクリーン上に用いるのに適し、若し所望ならば、同時
に表示スクリーンの光透過を減少するのに用いることが
できる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、基体特に陰極線管の表
示スクリーン上の、導電性のポリピロール化合物(polyp
yrrole compound)を有する帯電防止被膜に関するもので
ある。本発明はまたこのような帯電防止被膜をつくる方
法に関するものである。
示スクリーン上の、導電性のポリピロール化合物(polyp
yrrole compound)を有する帯電防止被膜に関するもので
ある。本発明はまたこのような帯電防止被膜をつくる方
法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】帯電防止被膜は、例えば表示装置の表示
スクリーンに用いられる。このような被膜は、装置の外
表面に存する高い静電圧を数秒内に確実に除去するに十
分な導電性を有する。このため、使用者がスクリーンに
触れた場合にショックを受けることが防がれ、またその
上大気中のほこりの吸着が減少される。
スクリーンに用いられる。このような被膜は、装置の外
表面に存する高い静電圧を数秒内に確実に除去するに十
分な導電性を有する。このため、使用者がスクリーンに
触れた場合にショックを受けることが防がれ、またその
上大気中のほこりの吸着が減少される。
【０００３】ドイツ国特許出願第３８３４５２６号に
は、コロイド分散体より基体上に与えられ、しかる後付
着力をよくするために熱処理が行われるようにした例え
ばポリピロールより成る透明な帯電防止層の製造方法が
記載されている。
は、コロイド分散体より基体上に与えられ、しかる後付
着力をよくするために熱処理が行われるようにした例え
ばポリピロールより成る透明な帯電防止層の製造方法が
記載されている。
【０００４】この公知の方法の欠点は、つくられた層が
機械的に弱く、そして、例えば表示スクリーンのような
用途に対しては耐溶剤性が不十分なことである。使用さ
れるコロイド分散体はあまり安定性がなく、つくられた
後直ぐに処理されねばならない。
機械的に弱く、そして、例えば表示スクリーンのような
用途に対しては耐溶剤性が不十分なことである。使用さ
れるコロイド分散体はあまり安定性がなく、つくられた
後直ぐに処理されねばならない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、下の基体に
強固に付着する、ポリピロール化合物を有する帯電防止
被膜を得ることをとりわけその目的とするものである。
この被膜は著しい機械的な耐久性と耐引掻性を示し、溶
剤および洗浄剤に耐性を有せねばならない。その上、こ
の被膜は均質で、適切な光学特性を示さねばならず、ま
た特に表示装置の表示スクリーンに用いるのに適しなく
てはならない。この被膜は、光透過を所望の値にするの
に適さねばならない。本発明の別の目的は、特に陰極線
管の機械要素が損傷を受けることのない温度において実
行可能でなければならないこのような帯電防止被膜の簡
単な製造方法を得ることにある。
強固に付着する、ポリピロール化合物を有する帯電防止
被膜を得ることをとりわけその目的とするものである。
この被膜は著しい機械的な耐久性と耐引掻性を示し、溶
剤および洗浄剤に耐性を有せねばならない。その上、こ
の被膜は均質で、適切な光学特性を示さねばならず、ま
た特に表示装置の表示スクリーンに用いるのに適しなく
てはならない。この被膜は、光透過を所望の値にするの
に適さねばならない。本発明の別の目的は、特に陰極線
管の機械要素が損傷を受けることのない温度において実
行可能でなければならないこのような帯電防止被膜の簡
単な製造方法を得ることにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の目的は、冒頭に記
載したような基体特に陰極線管の表示スクリーン上の帯
電防止被膜において、被膜が二酸化珪素のマトリックス
内のラテックス粒子を有し、このラテックス粒子は、ポ
リピロール化合物より成るようにすることにより達成さ
れる。若し所望ならば、被膜は、反射防止または防眩効
果を有するそれ自体は公知の層或いは耐引掻性を更に増
す層を追加することができる。
載したような基体特に陰極線管の表示スクリーン上の帯
電防止被膜において、被膜が二酸化珪素のマトリックス
内のラテックス粒子を有し、このラテックス粒子は、ポ
リピロール化合物より成るようにすることにより達成さ
れる。若し所望ならば、被膜は、反射防止または防眩効
果を有するそれ自体は公知の層或いは耐引掻性を更に増
す層を追加することができる。
【０００７】ポリピロール、Ｎ−置換ポリピロールおよ
びβ−置換ポリピロールをポリピロール化合物として用
いることができる。若し所望ならば、ポリアニリン（po
lyaniline)を代わりに用いることができる。適当な置換
基は、例えば５炭素原子迄を有するアルキル基、アリー
ル基、アルコキシル基、ニトリル基およびハロゲン原子
である。このような材料は、米国特許明細書第４９５９
１６２号に特に帯電防止被膜としての用途に対して記載
されている。本発明の好ましい実施態様では、ラテック
ス粒子は非置換ポリピロールより成る。
びβ−置換ポリピロールをポリピロール化合物として用
いることができる。若し所望ならば、ポリアニリン（po
lyaniline)を代わりに用いることができる。適当な置換
基は、例えば５炭素原子迄を有するアルキル基、アリー
ル基、アルコキシル基、ニトリル基およびハロゲン原子
である。このような材料は、米国特許明細書第４９５９
１６２号に特に帯電防止被膜としての用途に対して記載
されている。本発明の好ましい実施態様では、ラテック
ス粒子は非置換ポリピロールより成る。
【０００８】層の光学特性および均一性と均質性を考慮
すると、ラテックス粒子が均一な寸法を有することが望
ましい。ラテックス粒子の平均寸法は５０から１５０ｎ
ｍの範囲が好ましい。
すると、ラテックス粒子が均一な寸法を有することが望
ましい。ラテックス粒子の平均寸法は５０から１５０ｎ
ｍの範囲が好ましい。
【０００９】陰極線管の表示スクリーンのうしろ側の光
の反射を抑えるために、表示スクリーンの光透過を減少
するのが有効である。表示管のけい光体よりの光とちが
って、反射光は、表示スクリーンとこのスクリーン上に
ある層を２回通過せねばならない。このため、特に、け
い光体の光出力を他の無関係な処置で大きくすることが
できれば相対的な改良が得られる。本発明による帯電防
止被膜は、陰極線管の表示スクリーンの光透過を減少す
るのに有効に用いることができる。このため、表示スク
リーンのガラス組成を変える必要が避けられ、光透過を
簡単な方法で任意の所望の値にする可能性が増される。
の反射を抑えるために、表示スクリーンの光透過を減少
するのが有効である。表示管のけい光体よりの光とちが
って、反射光は、表示スクリーンとこのスクリーン上に
ある層を２回通過せねばならない。このため、特に、け
い光体の光出力を他の無関係な処置で大きくすることが
できれば相対的な改良が得られる。本発明による帯電防
止被膜は、陰極線管の表示スクリーンの光透過を減少す
るのに有効に用いることができる。このため、表示スク
リーンのガラス組成を変える必要が避けられ、光透過を
簡単な方法で任意の所望の値にする可能性が増される。
【００１０】基体上に帯電防止被膜をつくる方法を得る
という目的は、本発明によれば次のようにすることによ
り達成される、すなわち、ポリピロール化合物のラテッ
クス粒子を、加水分解されたアルコキシシラン化合物の
水溶液内に分散し、しかる後この分散体を基体上に設
け、加水分解されたアルコキシシラン化合物を、高温で
の処理によって二酸化珪素に変換することによって達成
される。本発明の方法の好ましい一実施態様では、二酸
化珪素への変換は、少なくとも３０分間１５０℃と１７
０℃の間の温度での処理で行われる。
という目的は、本発明によれば次のようにすることによ
り達成される、すなわち、ポリピロール化合物のラテッ
クス粒子を、加水分解されたアルコキシシラン化合物の
水溶液内に分散し、しかる後この分散体を基体上に設
け、加水分解されたアルコキシシラン化合物を、高温で
の処理によって二酸化珪素に変換することによって達成
される。本発明の方法の好ましい一実施態様では、二酸
化珪素への変換は、少なくとも３０分間１５０℃と１７
０℃の間の温度での処理で行われる。
【００１１】本発明の方法に用いるのに適当なアルコキ
シシラン化合物(alkoxysilane compound) は、テトラエ
チルオルト珪酸塩である。代わりに、Ｒが１から５炭素
原子を有するのが好ましいそれ自体は公知のタイプＳｉ
（ＯＲ）4 のアルコキシシラン化合物を用いることもで
きる。
シシラン化合物(alkoxysilane compound) は、テトラエ
チルオルト珪酸塩である。代わりに、Ｒが１から５炭素
原子を有するのが好ましいそれ自体は公知のタイプＳｉ
（ＯＲ）4 のアルコキシシラン化合物を用いることもで
きる。
【００１２】特開平１−１６７２５４号公報には、ポリ
ピロールが分散された二酸化珪素のマトリックスを有す
る複合材料が記載されている。この材料は、ゾル−ゲル
法（sol-gel method) に従ってつくられた多孔性二酸化
珪素をモノマーピロールで含浸し、その場で重合させる
ことによってつくられる。この複合材料は不均質であ
り、その多孔性のために機械的に弱く、粗い表面を有す
る。多孔性材料は不安定であり、汚染され易く、表面の
洗浄時に問題を生じる。
ピロールが分散された二酸化珪素のマトリックスを有す
る複合材料が記載されている。この材料は、ゾル−ゲル
法（sol-gel method) に従ってつくられた多孔性二酸化
珪素をモノマーピロールで含浸し、その場で重合させる
ことによってつくられる。この複合材料は不均質であ
り、その多孔性のために機械的に弱く、粗い表面を有す
る。多孔性材料は不安定であり、汚染され易く、表面の
洗浄時に問題を生じる。
【００１３】
【実施例】以下本発明を実施例によって更に詳しく説明
する。 実施例１ ポリピロールラテックス粒子は、０．０１４モルのピロ
ール、０．０３３モルの窒化鉄(III) および０．５ｇの
ポリビニールアルコール（安定剤として）の混合物を１
００モルの水の中で２４時間攪拌することによってつく
られた。ポリピロール粒子の形成は、混合物が黒くなる
ことにより分った。粒子は、毎分１１０００回転の回転
速度で１時間の遠心分離によって混合物から分離され、
しかる後この粒子は再び重量で１％の量水中に分散され
た。電子顕微鏡によれば、ラテックス粒子は規則正しい
凸面形状を有し、８０ｎｍの平均粒子寸法を有する単分
散であった。ポリピロール化合物をつくる他の適当な方
法は米国特許第４９５９１６２号に記載されている。
する。 実施例１ ポリピロールラテックス粒子は、０．０１４モルのピロ
ール、０．０３３モルの窒化鉄(III) および０．５ｇの
ポリビニールアルコール（安定剤として）の混合物を１
００モルの水の中で２４時間攪拌することによってつく
られた。ポリピロール粒子の形成は、混合物が黒くなる
ことにより分った。粒子は、毎分１１０００回転の回転
速度で１時間の遠心分離によって混合物から分離され、
しかる後この粒子は再び重量で１％の量水中に分散され
た。電子顕微鏡によれば、ラテックス粒子は規則正しい
凸面形状を有し、８０ｎｍの平均粒子寸法を有する単分
散であった。ポリピロール化合物をつくる他の適当な方
法は米国特許第４９５９１６２号に記載されている。
【００１４】加水分解されたアルコキシシラン化合物
は、重量で等量のテトラエチル・オルト珪酸塩と塩酸の
１Ｎ水溶液を５分間よく攪拌することによりつくられ、
エタノールがこの加水分解において形成され、このため
アルコキシシラン化合物が溶解することができた。
は、重量で等量のテトラエチル・オルト珪酸塩と塩酸の
１Ｎ水溶液を５分間よく攪拌することによりつくられ、
エタノールがこの加水分解において形成され、このため
アルコキシシラン化合物が溶解することができた。
【００１５】重量で４％の量の加水分解されたアルコキ
シシランの溶液がポリピロールラテックス粒子を有する
分散体に加えられた。この分散体の１つまたはそれ以上
の層がガラスの基体にスピンコート(spincoat)され、し
かる後この基体は３０分間１６０℃の温度に保たれ、こ
れにより、ポリピロールラテックス粒子が分散された二
酸化珪素の、適切に付着する滑らかな層を形成した。
シシランの溶液がポリピロールラテックス粒子を有する
分散体に加えられた。この分散体の１つまたはそれ以上
の層がガラスの基体にスピンコート(spincoat)され、し
かる後この基体は３０分間１６０℃の温度に保たれ、こ
れにより、ポリピロールラテックス粒子が分散された二
酸化珪素の、適切に付着する滑らかな層を形成した。
【００１６】図１は、二酸化珪素のマトリックス１４内
のポリピロールラテックス粒子１２より成る被膜を有す
るガラス基体１０を線図的に示したものである。１００
−２００ｎｍの厚さの層では、層の表面抵抗は略々４Ｍ
Ω／□である。これは所望の帯電防止効果（１０4 から
１０10Ω間の表面抵抗が望ましい) に対して十分に足
り、所要の帯電防止効果を保持しながら層の厚さおよび
分散の濃さを変えることによって光透過特性を所望の値
にすることを可能にする。被膜の吸収係数は略々０．３
×１０5 ／ｃｍで、１００から２００ｎｍの層厚で０．
７と０．３の間の光透過を生じた。
のポリピロールラテックス粒子１２より成る被膜を有す
るガラス基体１０を線図的に示したものである。１００
−２００ｎｍの厚さの層では、層の表面抵抗は略々４Ｍ
Ω／□である。これは所望の帯電防止効果（１０4 から
１０10Ω間の表面抵抗が望ましい) に対して十分に足
り、所要の帯電防止効果を保持しながら層の厚さおよび
分散の濃さを変えることによって光透過特性を所望の値
にすることを可能にする。被膜の吸収係数は略々０．３
×１０5 ／ｃｍで、１００から２００ｎｍの層厚で０．
７と０．３の間の光透過を生じた。
【００１７】実施例２ 図２は、表示窓３２、コーン３３およびネック３４をも
ったガラス容器３１を有するそれ自体は公知の陰極線管
の一部を切欠いた斜視図を示す。ネック内には、電子ビ
ーム３６を発生する電子銃３５が設けられる。前記の電
子ビームは、ターゲットスポット３８を形成するように
表示スクリーン３７上に合焦される。この電子ビーム３
６は、偏向コイル３７によって、表示スクリーン３７を
横切って２つの互いに直角な方向ｘ−ｙに偏向される。
けい光体の層は表示スクリーン上にある。表示窓３２の
外側には、実施例１で記載したようにつくられた帯電防
止層４０が設けられる。
ったガラス容器３１を有するそれ自体は公知の陰極線管
の一部を切欠いた斜視図を示す。ネック内には、電子ビ
ーム３６を発生する電子銃３５が設けられる。前記の電
子ビームは、ターゲットスポット３８を形成するように
表示スクリーン３７上に合焦される。この電子ビーム３
６は、偏向コイル３７によって、表示スクリーン３７を
横切って２つの互いに直角な方向ｘ−ｙに偏向される。
けい光体の層は表示スクリーン上にある。表示窓３２の
外側には、実施例１で記載したようにつくられた帯電防
止層４０が設けられる。
【００１８】本発明により、有効な帯電防止被膜がつく
られ、簡単に陰極線管の表示スクリーン上に設けられ、
この被膜は必要に応じて光透過特性を調節することがで
きる。
られ、簡単に陰極線管の表示スクリーン上に設けられ、
この被膜は必要に応じて光透過特性を調節することがで
きる。
【図１】本発明の被膜を有する基体の線図的な断面図で
ある。
ある。
【図２】本発明の被膜を有する陰極線管の一部を切欠い
た斜視図である。
た斜視図である。
１０ 基体 １２ ポリピロールラテックス粒子 １４ マトリックス ４０ 帯電防止層
Claims (7)
- 【請求項１】 導電性ポリピロール化合物を有する基体
上の帯電防止被膜において、被膜は、二酸化珪素のマト
リックス内のラテックス粒子を有し、このラテックス粒
子は、ポリピロール化合物より成ることを特徴とする帯
電防止被膜。 - 【請求項２】 ラテックス粒子は非置換ポリピロールよ
り成る請求項１の被膜。 - 【請求項３】 ラテックス粒子の平均寸法は５０から１
５０ｎｍの範囲である請求項１の被膜。 - 【請求項４】 請求項１乃至３の何れか１項の帯電防止
被膜を有する表示スクリーンを有する陰極線管。 - 【請求項５】 陰極線管の表示スクリーンの光透過を減
少するために使用する請求項１乃至３の何れか１項の帯
電防止被膜。 - 【請求項６】 ポリピロール化合物のラテックス粒子
を、加水分解されたアルコキシシラン化合物の水溶液内
に分散し、しかる後この分散体を基体上に設け、加水分
解されたアルコキシシラン化合物を、高温での処理によ
って二酸化珪素に変換することを特徴とする基体上に帯
電防止被膜をつくる方法。 - 【請求項７】 二酸化珪素への変換は、少なくとも３０
分間１５０℃と１７０℃の間の温度での処理で行われる
請求項６の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP91202416 | 1991-09-19 | ||
| NL91202416:3 | 1991-09-19 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05242831A true JPH05242831A (ja) | 1993-09-21 |
Family
ID=8207887
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24647692A Pending JPH05242831A (ja) | 1991-09-19 | 1992-09-16 | 特に陰極線管用の帯電防止被膜 |
Country Status (5)
| Country | Link |
|---|---|
| US (2) | US5412279A (ja) |
| EP (1) | EP0533256B1 (ja) |
| JP (1) | JPH05242831A (ja) |
| DE (1) | DE69206547T2 (ja) |
| TW (1) | TW266301B (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010017931A (ja) * | 2008-07-10 | 2010-01-28 | Toyobo Co Ltd | 離型フィルム |
| JP2017088695A (ja) * | 2015-11-06 | 2017-05-25 | 東洋化学株式会社 | 導電性塗液及び導電性塗膜 |
Families Citing this family (25)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE1007662A3 (nl) * | 1993-10-18 | 1995-09-05 | Philips Electronics Nv | Beeldweergeefinrichting met een beeldscherm voorzien van een antistatische en lichtabsorberende bekledingslaag. |
| BE1007855A3 (nl) * | 1993-12-06 | 1995-11-07 | Philips Electronics Nv | Werkwijze voor het vervaardigen van een bekledingslaag op een beeldscherm en een beeldweergaveinrichting met een beeldscherm voorzien van een bekledingslaag. |
| DE69428320T2 (de) * | 1993-10-18 | 2002-07-04 | Koninklijke Philips Electronics N.V., Eindhoven | Verfahren zur Herstellung einer Beschichtung auf einen Bildschirm und Anzeigevorrichtung die diese enthalt |
| DE69511490T2 (de) * | 1994-02-28 | 2000-03-16 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Beschichtungslösung für die herstellung einer magnesiumoxidschicht und verfahren zur herstellung einer solchen schicht |
| EP0727094B1 (en) * | 1994-08-08 | 1998-07-22 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Cathode ray tube comprising a display screen having an electroconductive coating |
| US5773150A (en) * | 1995-11-17 | 1998-06-30 | Chunghwa Picture Tubes, Ltd. | Polymeric antistatic coating for cathode ray tubes |
| IT1282387B1 (it) * | 1996-04-30 | 1998-03-20 | Videocolor Spa | Rivestimento antistatico,antiabbagliante,per una superficie a riflessione-trasmissione |
| KR19980014731A (ko) * | 1996-08-16 | 1998-05-25 | 시오우 체른 첸 | Crt용 대전방지 코팅 |
| US6342762B1 (en) * | 1997-07-03 | 2002-01-29 | Osram Sylvania Inc. | Amber vehicle lamp |
| TW382724B (en) * | 1998-01-30 | 2000-02-21 | Koninkl Philips Electronics Nv | Method of manufacturing a coating on a display window and a display device comprising a display window provided with a coating |
| KR100393741B1 (ko) * | 2000-10-18 | 2003-08-09 | 주식회사 큐시스 | 전기 전도성 마이크로겔을 함유한 자외선 경화형하드코팅제 및 이의용도 |
| US6623662B2 (en) | 2001-05-23 | 2003-09-23 | Chunghwa Picture Tubes, Ltd. | Carbon black coating for CRT display screen with uniform light absorption |
| US6746530B2 (en) | 2001-08-02 | 2004-06-08 | Chunghwa Pictures Tubes, Ltd. | High contrast, moisture resistant antistatic/antireflective coating for CRT display screen |
| JP4144204B2 (ja) * | 2001-09-20 | 2008-09-03 | 日産自動車株式会社 | 光吸収膜およびその製造方法 |
| US6521346B1 (en) | 2001-09-27 | 2003-02-18 | Chunghwa Picture Tubes, Ltd. | Antistatic/antireflective coating for video display screen with improved refractivity |
| US6764580B2 (en) * | 2001-11-15 | 2004-07-20 | Chungwa Picture Tubes, Ltd. | Application of multi-layer antistatic/antireflective coating to video display screen by sputtering |
| US6656331B2 (en) | 2002-04-30 | 2003-12-02 | Chunghwa Picture Tubes, Ltd. | Application of antistatic/antireflective coating to a video display screen |
| US7332402B2 (en) * | 2002-10-18 | 2008-02-19 | Finisar Corporation | Method for optically trimming electronic components |
| JP2005313620A (ja) * | 2004-03-31 | 2005-11-10 | Dainippon Printing Co Ltd | 薄膜積層体 |
| KR101224241B1 (ko) * | 2005-03-30 | 2013-01-18 | 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 | 광학 적층체 |
| KR20070096102A (ko) * | 2005-12-23 | 2007-10-02 | 삼성전자주식회사 | 현상기의 현상제 레벨 감지장치 및 그것이 구비된 화상형성장치 |
| US9366784B2 (en) | 2013-05-07 | 2016-06-14 | Corning Incorporated | Low-color scratch-resistant articles with a multilayer optical film |
| US9110230B2 (en) | 2013-05-07 | 2015-08-18 | Corning Incorporated | Scratch-resistant articles with retained optical properties |
| TWI821234B (zh) | 2018-01-09 | 2023-11-11 | 美商康寧公司 | 具光改變特徵之塗覆製品及用於製造彼等之方法 |
| US12386101B2 (en) | 2020-07-09 | 2025-08-12 | Corning Incorporated | Textured region of a substrate to reduce specular reflectance incorporating surface features with an elliptical perimeter or segments thereof, and method of making the same |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2169608B (en) * | 1984-12-28 | 1988-02-24 | Hoechst Gosei Kk | Process for producting electrically conductive composite polymer article |
| US4898921A (en) * | 1987-06-03 | 1990-02-06 | Montclair State College | Conducting polymer films, method of manufacture and applications therefor |
| JPH0757699B2 (ja) * | 1987-12-24 | 1995-06-21 | 株式会社リコー | 導電性高分子材料複合体の製造方法 |
| DE3843412A1 (de) * | 1988-04-22 | 1990-06-28 | Bayer Ag | Neue polythiophene, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung |
| DE3834526A1 (de) * | 1988-10-11 | 1990-04-12 | Zipperling Kessler & Co | Verfahren zur herstellung duenner schichten aus leitfaehigen polymeren sowie verwendung der beschichteten substrate |
| US4959162A (en) * | 1989-02-03 | 1990-09-25 | The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy | Colloidal polypyrrole |
| US5001026A (en) * | 1989-02-09 | 1991-03-19 | North American Philips Corporation | CRT screen exposure device and method |
| NL8900806A (nl) * | 1989-04-03 | 1990-11-01 | Philips Nv | Kathode voor een elektrische ontladingsbuis. |
-
1992
- 1992-09-05 TW TW81107043A patent/TW266301B/zh active
- 1992-09-11 EP EP19920202779 patent/EP0533256B1/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-09-11 DE DE69206547T patent/DE69206547T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-09-16 JP JP24647692A patent/JPH05242831A/ja active Pending
- 1992-09-18 US US07/947,664 patent/US5412279A/en not_active Expired - Fee Related
-
1994
- 1994-06-17 US US08/261,545 patent/US5470606A/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010017931A (ja) * | 2008-07-10 | 2010-01-28 | Toyobo Co Ltd | 離型フィルム |
| JP2017088695A (ja) * | 2015-11-06 | 2017-05-25 | 東洋化学株式会社 | 導電性塗液及び導電性塗膜 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE69206547D1 (de) | 1996-01-18 |
| EP0533256B1 (en) | 1995-12-06 |
| EP0533256A1 (en) | 1993-03-24 |
| US5412279A (en) | 1995-05-02 |
| DE69206547T2 (de) | 1996-06-27 |
| TW266301B (ja) | 1995-12-21 |
| US5470606A (en) | 1995-11-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5470606A (en) | Method of manufacturing an antistatic coating on a substrate, in particular, a cathode ray tube, comprising latex particles of a polypyrrole compound in a silicon dioxide matrix | |
| JP3735387B2 (ja) | 表示スクリーン上に被膜を設ける方法 | |
| EP0585819B1 (en) | Anti-static/antireflection coating for a cathode ray tube | |
| US5750054A (en) | Anti-glare, anti-static coating for a reflective-transmissive surface | |
| CN87101282A (zh) | 阴极射线管及其制造方法 | |
| EP0649161B1 (en) | Display device comprising a display screen having an antistatic and light-absorbing coating | |
| EP0447603B1 (en) | Antistatic coating composition, manufacturing process thereof and antistatic and non-glare picture displaying screen utilizing the coating composition | |
| JP3002327B2 (ja) | 導電性・高屈折率膜形成用塗料及び導電性・高屈折率膜付き透明材料積層体 | |
| EP0563920A1 (en) | Antistatic coating composition | |
| EP0538937B1 (en) | Antireflective and antistatic coating for, in particular, a cathode ray tube | |
| JP2001519929A (ja) | ディスプレイ窓上にコーティング膜を作製する方法、及びコーティング膜を備えるディスプレイ窓を有するディスプレイ装置 | |
| JPH05117552A (ja) | 帯電防止・高屈折率膜形成用塗料および帯電防止・高屈折率膜付き透明材料積層体 | |
| JPH03167739A (ja) | 帯電防止膜 | |
| JP3323563B2 (ja) | 導電性・低反射率コート膜付き透明材料積層体 | |
| KR0170703B1 (ko) | 다층 코팅막을 갖는 음극선관 및 그 제조방법 | |
| JPH05234538A (ja) | 特に陰極線管用の反射防止及び帯電防止コーティング及びその製造方法 | |
| JPH04167343A (ja) | ブラウン管の帯電防止膜及びブラウン管の帯電防止膜の製造方法 | |
| JP2602514B2 (ja) | 陰極線管及びその製造方法 | |
| JPH05182604A (ja) | 陰極線管 | |
| JP2516243B2 (ja) | 帯電防止処理液及び帯電防止効果を有するブラウン管の製造方法 | |
| JPH06345487A (ja) | ディスプレイ用反射防止膜及びその製造法 | |
| JPH09120785A (ja) | 低抵抗膜形成用塗布液、低抵抗膜、多層低抵抗膜及びガラス物品 | |
| JPH04184839A (ja) | 帯電防止膜及びその製造方法 | |
| JP2788295B2 (ja) | 帯電防止膜の製造方法及び陰極線管 | |
| JP2851068B2 (ja) | 帯電防止膜及び陰極線管 |