JPH05247010A - 7−ヒドロキシ−2−メチル−2h−1,4−ベンゾオキサジン−3−オン誘導体及びその製造方法 - Google Patents
7−ヒドロキシ−2−メチル−2h−1,4−ベンゾオキサジン−3−オン誘導体及びその製造方法Info
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- JPH05247010A JPH05247010A JP9498692A JP9498692A JPH05247010A JP H05247010 A JPH05247010 A JP H05247010A JP 9498692 A JP9498692 A JP 9498692A JP 9498692 A JP9498692 A JP 9498692A JP H05247010 A JPH05247010 A JP H05247010A
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Landscapes
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- Agricultural Chemicals And Associated Chemicals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】本発明は、フェノキシベンゾオキサジン系除草
剤を製造する上で重要な合成中間体、7−ヒドロキシ−
2−メチル−2H−1,4−ベンゾオキサジン−3−オ
ン誘導体及びその製造方法の開発を目的とする。 【構成】 式(I): 【化1】 (式中、R1は低級アルコキシカルボニル基、低級脂肪
族アシル基又はシアノ基を表す)で表される7−ヒドロ
キシ−2−メチル−2H−1,4−ベンゾオキサジン−
3−オン誘導体、及び式(II): 【化2】 (式中、R1は低級アルコキシカルボニル基、低級脂肪
族アシル基又はシアノ基を、R2は低級アルキル基を表
す)で表される2−(3−ヒドロキシフェノキシ)プロ
ピオン酸誘導体に、アニリン誘導体のジアゾニウム塩を
作用させてジアゾ化合物を得、続いて還元剤を作用させ
て還元・閉環することを特徴とする式(I)で表される
7−ヒドロキシ−2−メチル−2H−1,4−ベンゾオ
キサジン−3−オン誘導体の製造方法。
剤を製造する上で重要な合成中間体、7−ヒドロキシ−
2−メチル−2H−1,4−ベンゾオキサジン−3−オ
ン誘導体及びその製造方法の開発を目的とする。 【構成】 式(I): 【化1】 (式中、R1は低級アルコキシカルボニル基、低級脂肪
族アシル基又はシアノ基を表す)で表される7−ヒドロ
キシ−2−メチル−2H−1,4−ベンゾオキサジン−
3−オン誘導体、及び式(II): 【化2】 (式中、R1は低級アルコキシカルボニル基、低級脂肪
族アシル基又はシアノ基を、R2は低級アルキル基を表
す)で表される2−(3−ヒドロキシフェノキシ)プロ
ピオン酸誘導体に、アニリン誘導体のジアゾニウム塩を
作用させてジアゾ化合物を得、続いて還元剤を作用させ
て還元・閉環することを特徴とする式(I)で表される
7−ヒドロキシ−2−メチル−2H−1,4−ベンゾオ
キサジン−3−オン誘導体の製造方法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、フェノキシベンゾオキ
サジン系除草剤を製造する上で重要な合成中間体、7−
ヒドロキシ−2−メチル−2H−1,4−ベンゾオキサ
ジン−3−オン誘導体及びその製造方法に関するもので
ある。
サジン系除草剤を製造する上で重要な合成中間体、7−
ヒドロキシ−2−メチル−2H−1,4−ベンゾオキサ
ジン−3−オン誘導体及びその製造方法に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】本発明者らは、有害雑草に対して選択性
が高く、且つ少量で有効な除草剤を開発すべく鋭意研究
をした結果、7−置換フェノキシ−2−メチル−2H−
1,4−ベンゾオキサジン−3−オン誘導体が有効であ
るとの知見を得、先に特許出願をしている(特願平3−
188835)。
が高く、且つ少量で有効な除草剤を開発すべく鋭意研究
をした結果、7−置換フェノキシ−2−メチル−2H−
1,4−ベンゾオキサジン−3−オン誘導体が有効であ
るとの知見を得、先に特許出願をしている(特願平3−
188835)。
【0003】本発明に関わる7−ヒドロキシ−2−メチ
ル−2H−1,4−ベンゾオキサジン−3−オン誘導体
は新規で、上記除草剤7−置換フェノキシ−2−メチル
−2H−1,4−ベンゾオキサジン−3−オン誘導体を
製造する上で有用な中間化合物である。
ル−2H−1,4−ベンゾオキサジン−3−オン誘導体
は新規で、上記除草剤7−置換フェノキシ−2−メチル
−2H−1,4−ベンゾオキサジン−3−オン誘導体を
製造する上で有用な中間化合物である。
【0004】従来、7−フェノキシ−2H−1,4−ベ
ンゾオキサジン−3−オン誘導体の製造方法としては、
3−フェノキシフェノキシ酢酸誘導体をニトロ化して5
−フェノキシ−2−ニトロフェノキシ酢酸誘導体し、ニ
トロ基を還元後閉環する方法が知られている(J.Ch
em.Soc.,739頁,1955年)。一方、レゾ
ルシンのオルソ位にアミノ基を導入する方法としては、
レゾルシンのモノイソプロピルエーテルにスルファニル
酸のジアゾニウム塩を作用させ、続いて亜二チオン酸ナ
トリウム(Na2S2O4)で還元して3−ヒドロキシ
−6−アミノフェニルイソプロピルエーテルを製造する
方法が知られている(J.Am.Chem.Soc.,
69巻,3086頁,1947年)。
ンゾオキサジン−3−オン誘導体の製造方法としては、
3−フェノキシフェノキシ酢酸誘導体をニトロ化して5
−フェノキシ−2−ニトロフェノキシ酢酸誘導体し、ニ
トロ基を還元後閉環する方法が知られている(J.Ch
em.Soc.,739頁,1955年)。一方、レゾ
ルシンのオルソ位にアミノ基を導入する方法としては、
レゾルシンのモノイソプロピルエーテルにスルファニル
酸のジアゾニウム塩を作用させ、続いて亜二チオン酸ナ
トリウム(Na2S2O4)で還元して3−ヒドロキシ
−6−アミノフェニルイソプロピルエーテルを製造する
方法が知られている(J.Am.Chem.Soc.,
69巻,3086頁,1947年)。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】従来の方法により前記
7−フェノキシ−2H−1,4−ベンゾオキサジン−3
−オン誘導体の製造する場合、ニトロ化した後ニトロ基
を還元して閉環することが必要で、該方法においてはニ
トロ化反応の選択性が低くこと、また単離精製が煩雑で
あること等いくつかの問題点がある。
7−フェノキシ−2H−1,4−ベンゾオキサジン−3
−オン誘導体の製造する場合、ニトロ化した後ニトロ基
を還元して閉環することが必要で、該方法においてはニ
トロ化反応の選択性が低くこと、また単離精製が煩雑で
あること等いくつかの問題点がある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記問題
点を解決すべく鋭意研究した結果7−ヒドロキシ−2H
−1,4−ベンゾオキサジン−3−オン誘導体は、その
7位水酸基を各種フェノキシ基に容易に変換することが
できることから7−置換フェノキシ−2H−1,4−ベ
ンゾオキサジン系除草剤を製造する上で極めて有用な合
成中間体となりうること、また該化合物はレゾルシンモ
ノアルキルエーテルのアミノ化反応を応用することによ
り容易に製造しうることを見出し、本発明を完成した。
点を解決すべく鋭意研究した結果7−ヒドロキシ−2H
−1,4−ベンゾオキサジン−3−オン誘導体は、その
7位水酸基を各種フェノキシ基に容易に変換することが
できることから7−置換フェノキシ−2H−1,4−ベ
ンゾオキサジン系除草剤を製造する上で極めて有用な合
成中間体となりうること、また該化合物はレゾルシンモ
ノアルキルエーテルのアミノ化反応を応用することによ
り容易に製造しうることを見出し、本発明を完成した。
【0007】即ち、本発明は式(I):
【0008】
【化4】
【0009】(式中、R1は低級アルコキシカルボニル
基、低級脂肪族アシル基又はシアノ基を表す)で表され
る7−ヒドロキシ−2−メチル−2H−1,4−ベンゾ
オキサジン−3−オン誘導体、及び式(II):
基、低級脂肪族アシル基又はシアノ基を表す)で表され
る7−ヒドロキシ−2−メチル−2H−1,4−ベンゾ
オキサジン−3−オン誘導体、及び式(II):
【0010】
【化5】
【0011】(式中、R1は低級アルコキシカルボニル
基、低級脂肪族アシル基又はシアノ基を、R2は低級ア
ルキル基を表す)で表される2−(3−ヒドロキシフェ
ノキシ)プロピオン酸誘導体に、アニリン誘導体のジア
ゾニウム塩を作用させてジアゾ化合物を得、続いて還元
剤を作用させて還元・閉環することを特徴とする式
(I):
基、低級脂肪族アシル基又はシアノ基を、R2は低級ア
ルキル基を表す)で表される2−(3−ヒドロキシフェ
ノキシ)プロピオン酸誘導体に、アニリン誘導体のジア
ゾニウム塩を作用させてジアゾ化合物を得、続いて還元
剤を作用させて還元・閉環することを特徴とする式
(I):
【0012】
【化6】
【0013】(式中、R1は前記定義の通りである)で
表される7−ヒドロキシ−2−メチル−2H−1,4−
ベンゾオキサジン−3−オン誘導体の製造方法に関する
ものである。
表される7−ヒドロキシ−2−メチル−2H−1,4−
ベンゾオキサジン−3−オン誘導体の製造方法に関する
ものである。
【0014】式(I)及び式(II)中、R1で示され
る低級アルコキシカルボニル基としては炭素数2〜6の
アルコキシカルボニル基で、例えばメトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、プロピオキシカルボニル基
等を挙げることができ、又R1で示される低級脂肪族ア
シル基としては炭素数2〜6のアシル基で、例えばアセ
チル基、プロピオニル基、ブチリル基等を挙げることが
できる。
る低級アルコキシカルボニル基としては炭素数2〜6の
アルコキシカルボニル基で、例えばメトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基、プロピオキシカルボニル基
等を挙げることができ、又R1で示される低級脂肪族ア
シル基としては炭素数2〜6のアシル基で、例えばアセ
チル基、プロピオニル基、ブチリル基等を挙げることが
できる。
【0015】式(II)中、R2で示される低級アルキ
ル基としては炭素数1〜5のアルキル基で、例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基等を挙げることができる。
ル基としては炭素数1〜5のアルキル基で、例えばメチ
ル基、エチル基、プロピル基等を挙げることができる。
【0016】2−(3−ヒドロキシフェノキシ)プロピ
オン酸誘導体(II)から7−ヒドロキシ−2−メチル
−2H−1,4−ベンゾオキサジン−3−オン誘導体
(I)を製造する方法において、アニリン誘導体のジア
ゾニウム塩としてはアミノ基を有するベンゼン誘導体の
ジアゾニウム塩であれば特に限定されず、アニリン、p
−アミノ安息香酸、スルファニル酸等のジアゾニウム塩
が挙げることができ、特に好ましいのはスルファニル酸
に亜硝酸ソーダを作用させて得られるジアゾニウム塩で
ある。続く還元・閉環反応は通常の各種還元試薬や接触
還元法を用いて行うことができるが、特に好ましいのは
亜二チオン酸ナトリウム(Na2S2O4)による還元
である。
オン酸誘導体(II)から7−ヒドロキシ−2−メチル
−2H−1,4−ベンゾオキサジン−3−オン誘導体
(I)を製造する方法において、アニリン誘導体のジア
ゾニウム塩としてはアミノ基を有するベンゼン誘導体の
ジアゾニウム塩であれば特に限定されず、アニリン、p
−アミノ安息香酸、スルファニル酸等のジアゾニウム塩
が挙げることができ、特に好ましいのはスルファニル酸
に亜硝酸ソーダを作用させて得られるジアゾニウム塩で
ある。続く還元・閉環反応は通常の各種還元試薬や接触
還元法を用いて行うことができるが、特に好ましいのは
亜二チオン酸ナトリウム(Na2S2O4)による還元
である。
【0017】ジアゾ化の反応条件は、2−(3−ヒドロ
キシフェノキシ)プロピオン酸誘導体のフェノール性水
酸基かナトリウム、カリウム等のアルカリ金属塩となる
ような塩基性条件下、溶媒としては水単独又は水とジオ
キサン等の不活性溶媒との混合溶媒中、0〜50℃の温
度で反応するのが好ましい。続く還元・閉環反応は、ジ
アゾ化合物を単離精製してから行っても良いが、ジアゾ
化反応液に亜二チオン酸ナトリウムを添加、還元するの
が好ましい。
キシフェノキシ)プロピオン酸誘導体のフェノール性水
酸基かナトリウム、カリウム等のアルカリ金属塩となる
ような塩基性条件下、溶媒としては水単独又は水とジオ
キサン等の不活性溶媒との混合溶媒中、0〜50℃の温
度で反応するのが好ましい。続く還元・閉環反応は、ジ
アゾ化合物を単離精製してから行っても良いが、ジアゾ
化反応液に亜二チオン酸ナトリウムを添加、還元するの
が好ましい。
【0018】本反応における原料2−(3−ヒドロキシ
フェノキシ)プロピオン酸誘導体(II)は、公知の種
々の方法により製造することができるが、例えばレゾル
シンのモノアルカリ金属塩とα−ハロゲノプロピオン酸
誘導体、例えばブロモメチルマロン酸エステル、α−ブ
ロモアセト酢酸エステル、α−ブロモシアノ酢酸エステ
ル等との反応により容易に製造することができる。
フェノキシ)プロピオン酸誘導体(II)は、公知の種
々の方法により製造することができるが、例えばレゾル
シンのモノアルカリ金属塩とα−ハロゲノプロピオン酸
誘導体、例えばブロモメチルマロン酸エステル、α−ブ
ロモアセト酢酸エステル、α−ブロモシアノ酢酸エステ
ル等との反応により容易に製造することができる。
【0019】
【実施例】次に参考例、実施例をもって本発明をより詳
細に説明するが、本発明はそれらに限定されるものでは
ない。
細に説明するが、本発明はそれらに限定されるものでは
ない。
【0020】実施例 3−エトキシカルボニル−7−ヒドロキシ−3−メチル
−2H−1,4−ベンゾオキサジン−3−オンの製造 スルファニル酸3.2gと炭酸ソーダ1.0gを水30
mlに溶解し、亜硝酸ソーダ1.3gを添加した。これ
を氷冷し、濃塩酸3.3mlを滴下、1時間攪拌してス
ルファニル酸のジアゾニウム塩水溶液を得た。この溶液
に参考例で得た2−(3−ヒドロキシフェノキシ)−2
−メチルマロン酸ジエチル4.7gのジオキサン(15
ml)溶液を氷冷下に添加、10分間攪拌して2−(3
−ヒドロキシフェノキシ)−2−メチルマロン酸ジエチ
ルのジアゾ化合物溶液を得た(反応液は濃赤褐色に変
化)。得られた反応液に亜二チオン酸ナトリウム8gを
添加、ジアゾ基を還元した(反応液は淡橙色に変化)。
反応溶液を濃塩酸でpH2〜3に調整し、酢酸エチルで
抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウ
ムで乾燥後減圧濃縮した。残渣を塩化メチレン−四塩化
炭素から再結晶して標記化合物2.8gを得た(収率6
7%)。 融点:171〜171.5℃
−2H−1,4−ベンゾオキサジン−3−オンの製造 スルファニル酸3.2gと炭酸ソーダ1.0gを水30
mlに溶解し、亜硝酸ソーダ1.3gを添加した。これ
を氷冷し、濃塩酸3.3mlを滴下、1時間攪拌してス
ルファニル酸のジアゾニウム塩水溶液を得た。この溶液
に参考例で得た2−(3−ヒドロキシフェノキシ)−2
−メチルマロン酸ジエチル4.7gのジオキサン(15
ml)溶液を氷冷下に添加、10分間攪拌して2−(3
−ヒドロキシフェノキシ)−2−メチルマロン酸ジエチ
ルのジアゾ化合物溶液を得た(反応液は濃赤褐色に変
化)。得られた反応液に亜二チオン酸ナトリウム8gを
添加、ジアゾ基を還元した(反応液は淡橙色に変化)。
反応溶液を濃塩酸でpH2〜3に調整し、酢酸エチルで
抽出した。抽出液を飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウ
ムで乾燥後減圧濃縮した。残渣を塩化メチレン−四塩化
炭素から再結晶して標記化合物2.8gを得た(収率6
7%)。 融点:171〜171.5℃
【0021】参考例 2−(3−ヒドロキシフェノキシ)−2−メチルマロン
酸ジエチルの製造 レゾルシン15gをジメチルホルムアミド80mlに溶
解し、氷冷下にオイル懸濁60%NaH2.0gを添加
し、20分間攪拌した。該反応液に2−ブロモ−2−メ
チルマロン酸ジエチル8.7mlを添加し、室温で1時
間攪拌後50℃で2時間攪拌した。反応液を1N塩酸と
酢酸エチルの混液に注ぎ、水層を除いた後酢酸エチル層
を水洗、硫酸マグネシウムで乾燥した。この酢酸エチル
溶液を減圧下に濃縮し、残渣をシリカゲルクロマト(ヘ
キサン−酢酸エチル=3:1)により精製して標記化合
物9.4gを油状物質として得た(収率73.4%)。
酸ジエチルの製造 レゾルシン15gをジメチルホルムアミド80mlに溶
解し、氷冷下にオイル懸濁60%NaH2.0gを添加
し、20分間攪拌した。該反応液に2−ブロモ−2−メ
チルマロン酸ジエチル8.7mlを添加し、室温で1時
間攪拌後50℃で2時間攪拌した。反応液を1N塩酸と
酢酸エチルの混液に注ぎ、水層を除いた後酢酸エチル層
を水洗、硫酸マグネシウムで乾燥した。この酢酸エチル
溶液を減圧下に濃縮し、残渣をシリカゲルクロマト(ヘ
キサン−酢酸エチル=3:1)により精製して標記化合
物9.4gを油状物質として得た(収率73.4%)。
【0022】
【効果】本発明の方法により容易に製造することができ
る7−ヒドロキシ−2−メチル−2H−1,4−ベンゾ
オキサジン−3−オン誘導体(I)は、その7位水酸基
を置換フェノキシ基とし、また所望により通常の方法で
2位R1基を種々変換、又3位窒素原子のアルキル化等
により、除草剤として有用なフェノキシベンズオキサジ
ン系化合物を効率良く製造することができる。
る7−ヒドロキシ−2−メチル−2H−1,4−ベンゾ
オキサジン−3−オン誘導体(I)は、その7位水酸基
を置換フェノキシ基とし、また所望により通常の方法で
2位R1基を種々変換、又3位窒素原子のアルキル化等
により、除草剤として有用なフェノキシベンズオキサジ
ン系化合物を効率良く製造することができる。
Claims (2)
- 【請求項1】式(I): 【化1】 (式中、R1は低級アルコキシカルボニル基、低級脂肪
族アシル基又はシアノ基を表す)で表される7−ヒドロ
キシ−2−メチル−2H−1,4−ベンゾオキサジン−
3−オン誘導体。 - 【請求項2】式(II): 【化2】 (式中、R1は低級アルコキシカルボニル基、低級脂肪
族アシル基又はシアノ基を、R2は低級アルキル基を表
す)で表される2−(3−ヒドロキシフェノキシ)プロ
ピオン酸誘導体に、アニリン誘導体のジアゾニウム塩を
作用させてジアゾ化合物を得、続いて還元剤を作用させ
ることにより還元・閉環することを特徴とする式
(I): 【化3】 (式中、R1は前記定義の通りである)で表される7−
ヒドロキシ−2−メチル−2H−1,4−ベンゾオキサ
ジン−3−オン誘導体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9498692A JPH05247010A (ja) | 1992-03-03 | 1992-03-03 | 7−ヒドロキシ−2−メチル−2h−1,4−ベンゾオキサジン−3−オン誘導体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9498692A JPH05247010A (ja) | 1992-03-03 | 1992-03-03 | 7−ヒドロキシ−2−メチル−2h−1,4−ベンゾオキサジン−3−オン誘導体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05247010A true JPH05247010A (ja) | 1993-09-24 |
Family
ID=14125220
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9498692A Pending JPH05247010A (ja) | 1992-03-03 | 1992-03-03 | 7−ヒドロキシ−2−メチル−2h−1,4−ベンゾオキサジン−3−オン誘導体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05247010A (ja) |
-
1992
- 1992-03-03 JP JP9498692A patent/JPH05247010A/ja active Pending
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