JPH05249333A - 光導波膜の製造装置 - Google Patents
光導波膜の製造装置Info
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- JPH05249333A JPH05249333A JP4049486A JP4948692A JPH05249333A JP H05249333 A JPH05249333 A JP H05249333A JP 4049486 A JP4049486 A JP 4049486A JP 4948692 A JP4948692 A JP 4948692A JP H05249333 A JPH05249333 A JP H05249333A
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- Japan
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- burner
- substrate
- glass
- tip
- optical waveguide
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 均質な光導波膜を製造しうるバーナを提供す
ること。 【構成】 基板11は、ターンテーブル10上に載置さ
れて回転する。酸水素炎とガラス微粒子を噴射するバー
ナ112の先端部は、その入射軸118が基板11の法
線に対して一定角度だけ傾けられている。また、バーナ
112の開口端面112aは、基板11表面に対してほ
ぼ平行となっている。排気管15は、バーナ112から
の余剰のガラス微粒子を効率よく排気する。このバーナ
では、開口端面112aと基板11表面との間の距離l
を任意に小さくでき、火炎13及びガラス微粒子流14
を基板11に十分接触させて堆積効率の劣化を防止でき
る。また、バーナ112の先端部周辺の気流の乱れによ
って開口端面112a近傍でのガラス微粒子流に影響が
生じない。このため、均質で再現性の良いガラス微粒子
を基板11上に堆積することができる。
ること。 【構成】 基板11は、ターンテーブル10上に載置さ
れて回転する。酸水素炎とガラス微粒子を噴射するバー
ナ112の先端部は、その入射軸118が基板11の法
線に対して一定角度だけ傾けられている。また、バーナ
112の開口端面112aは、基板11表面に対してほ
ぼ平行となっている。排気管15は、バーナ112から
の余剰のガラス微粒子を効率よく排気する。このバーナ
では、開口端面112aと基板11表面との間の距離l
を任意に小さくでき、火炎13及びガラス微粒子流14
を基板11に十分接触させて堆積効率の劣化を防止でき
る。また、バーナ112の先端部周辺の気流の乱れによ
って開口端面112a近傍でのガラス微粒子流に影響が
生じない。このため、均質で再現性の良いガラス微粒子
を基板11上に堆積することができる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、屈折率や膜厚みの制御
性に優れ、かつ、低損失な光導波膜を火炎堆積法を用い
て形成することが可能な光導波膜の製造装置に関する。
性に優れ、かつ、低損失な光導波膜を火炎堆積法を用い
て形成することが可能な光導波膜の製造装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、光分岐・結合素子や光分岐・合波
素子等の光部品として、小型化、量産化に優れた導波路
型のものが用いられつつある。この中でも石英系光導波
路は、低損失であることと、石英系光ファイバと屈折率
が等しく光ファイバとの間の低損失接続が可能であるこ
となどの利点が多い。この石英系光導波路の代表的な製
法として、特開昭58−105111号公報に示されて
いる、いわゆる火炎堆積法(FHD法)がある。
素子等の光部品として、小型化、量産化に優れた導波路
型のものが用いられつつある。この中でも石英系光導波
路は、低損失であることと、石英系光ファイバと屈折率
が等しく光ファイバとの間の低損失接続が可能であるこ
となどの利点が多い。この石英系光導波路の代表的な製
法として、特開昭58−105111号公報に示されて
いる、いわゆる火炎堆積法(FHD法)がある。
【0003】図9は、このFHD法を説明するための図
である。ガラス合成用の反応容器内のターンテーブル1
0上には、石英ガラスやシリコンのような耐熱性基板1
1が載置される。ガラス微粒子合成用バーナ(以下、単
にバーナと記す)12からは、ガラス微粒子が基板上1
1上に吹き付けられ、この基板11上に多孔質ガラス層
が形成される。この際、バーナ12には、H2 ガスなど
の燃料用ガス、O2 などの助燃ガス、不活性ガス等とと
もに、ガラス原料としてのSiCl4 が供給される。さ
らに必要に応じて、屈折率調製剤としてのGeCl4 、
TiCl4 等や、ガラス透明化温度を低下させて後の高
温加熱透明化に必要な温度を低下させる作用のあるBや
Pの気相原料であるBCl3 、BBr3 、PCl3 、P
OCl3等がこのバーナ12に供給される。
である。ガラス合成用の反応容器内のターンテーブル1
0上には、石英ガラスやシリコンのような耐熱性基板1
1が載置される。ガラス微粒子合成用バーナ(以下、単
にバーナと記す)12からは、ガラス微粒子が基板上1
1上に吹き付けられ、この基板11上に多孔質ガラス層
が形成される。この際、バーナ12には、H2 ガスなど
の燃料用ガス、O2 などの助燃ガス、不活性ガス等とと
もに、ガラス原料としてのSiCl4 が供給される。さ
らに必要に応じて、屈折率調製剤としてのGeCl4 、
TiCl4 等や、ガラス透明化温度を低下させて後の高
温加熱透明化に必要な温度を低下させる作用のあるBや
Pの気相原料であるBCl3 、BBr3 、PCl3 、P
OCl3等がこのバーナ12に供給される。
【0004】バーナ12先端の噴出口近傍においては、
燃料用ガスと助燃ガスと反応によって形成される火炎1
3中で、火炎加水分解反応によってガラス微粒子粒14
が生成される。この時、基板11上に均一に多孔質ガラ
ス層を形成するため、バーナ12と基板11は相対的に
移動させる。この目的のため、例えば、基板11を載置
したターンテーブル10を回転運動させると同時に、バ
ーナ12をターンテーブル10の半径方向に往復運動さ
せる方法が用いられる。また、基板11上に堆積できな
かった余剰ガラス微粒子を速やかに排出するため、バー
ナ12はその噴出口からのガラス微粒子流が基板11の
法線方向に対して傾いた角度で出射するように配置さ
れ、かつ、ガラス微粒子流の下流には、排気管15が設
けられる。
燃料用ガスと助燃ガスと反応によって形成される火炎1
3中で、火炎加水分解反応によってガラス微粒子粒14
が生成される。この時、基板11上に均一に多孔質ガラ
ス層を形成するため、バーナ12と基板11は相対的に
移動させる。この目的のため、例えば、基板11を載置
したターンテーブル10を回転運動させると同時に、バ
ーナ12をターンテーブル10の半径方向に往復運動さ
せる方法が用いられる。また、基板11上に堆積できな
かった余剰ガラス微粒子を速やかに排出するため、バー
ナ12はその噴出口からのガラス微粒子流が基板11の
法線方向に対して傾いた角度で出射するように配置さ
れ、かつ、ガラス微粒子流の下流には、排気管15が設
けられる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の方法で
は、排気風量を多くすることにより、余剰ガラス微粒子
が速やかに排出されるものの、バーナ12の先端部の近
傍において気流のみだれが生じ易く、火炎の揺動が生じ
ガラス微粒子堆積の再現性が悪くなるという問題があっ
た。また、ガラス微粒子粒が基板に堆積せず、直接排気
管15を通って排出される率が高くなり、原料の無駄が
発生したり、ガラス微粒子の堆積時間が長くなるといっ
た問題も生じる。
は、排気風量を多くすることにより、余剰ガラス微粒子
が速やかに排出されるものの、バーナ12の先端部の近
傍において気流のみだれが生じ易く、火炎の揺動が生じ
ガラス微粒子堆積の再現性が悪くなるという問題があっ
た。また、ガラス微粒子粒が基板に堆積せず、直接排気
管15を通って排出される率が高くなり、原料の無駄が
発生したり、ガラス微粒子の堆積時間が長くなるといっ
た問題も生じる。
【0006】一方、排気風量を少なくすると、余剰ガラ
ス微粒子が反応容器内に滞留し、その一部が不規則に基
板11上に付着するため、透明化処理後に気泡や散乱点
の発生する頻度が高くなってしまうという問題点があっ
た。
ス微粒子が反応容器内に滞留し、その一部が不規則に基
板11上に付着するため、透明化処理後に気泡や散乱点
の発生する頻度が高くなってしまうという問題点があっ
た。
【0007】そこで、本発明は、より均質な光導波膜を
効率よく製造するための装置を提供することを目的とす
る。
効率よく製造するための装置を提供することを目的とす
る。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明に係る光導波膜の製造装置では、バーナで生
成されたガラス微粒子を基板上に堆積して多孔質状の薄
膜を形成する。ここで、上記のバーナは、その先端部が
基板の法線に対して所定の傾角をなしているとともに、
その先端部の開口端面が基板の表面に対して略平行にな
っている。
め、本発明に係る光導波膜の製造装置では、バーナで生
成されたガラス微粒子を基板上に堆積して多孔質状の薄
膜を形成する。ここで、上記のバーナは、その先端部が
基板の法線に対して所定の傾角をなしているとともに、
その先端部の開口端面が基板の表面に対して略平行にな
っている。
【0009】
【作用】上記光導波膜の製造装置によれば、ガラス微粒
子生成用のバーナの先端部が基板の法線に対して所定の
傾角をなしているとともに、このバーナの先端部の開口
端面が基板の表面に対して略平行になっている。したが
って、バーナの先端部の開口端面と基板との間隔をほぼ
一様に短く保つことができ、排気風量の多少にかかわら
ず、バーナからのガラス微粒子流を安定に保つことがで
きるので、均質な多孔質状の薄膜を基板上に効率よく形
成することができる。
子生成用のバーナの先端部が基板の法線に対して所定の
傾角をなしているとともに、このバーナの先端部の開口
端面が基板の表面に対して略平行になっている。したが
って、バーナの先端部の開口端面と基板との間隔をほぼ
一様に短く保つことができ、排気風量の多少にかかわら
ず、バーナからのガラス微粒子流を安定に保つことがで
きるので、均質な多孔質状の薄膜を基板上に効率よく形
成することができる。
【0010】
【実施例】実施例の説明の前に、本発明に係る光導波路
膜の製造装置に使用するガラス微粒子生成用のバーナの
基本的構造について簡単に説明する。
膜の製造装置に使用するガラス微粒子生成用のバーナの
基本的構造について簡単に説明する。
【0011】図1は、光導波膜の製造装置の一部を示し
た側面図である。基板11は、ターンテーブル10上に
載置されて矢印の方向に水平面内で回転する。酸水素炎
とガラス微粒子を噴射するバーナ112の先端部は、そ
の入射軸118が基板11の法線に対して一定角度だけ
傾けられている。この傾角を適当に設定することで、基
板11に堆積されなかった余剰のガラス微粒子を効率よ
く排気管15側に吸引させることができる。この場合、
バーナ112の噴出口である開口端面112aは、上記
の基板11の表面に対してほぼ平行となっている。つま
り、開口端面112aは、入射軸108に対して垂直で
なくこれに対して傾斜した角度を有している。
た側面図である。基板11は、ターンテーブル10上に
載置されて矢印の方向に水平面内で回転する。酸水素炎
とガラス微粒子を噴射するバーナ112の先端部は、そ
の入射軸118が基板11の法線に対して一定角度だけ
傾けられている。この傾角を適当に設定することで、基
板11に堆積されなかった余剰のガラス微粒子を効率よ
く排気管15側に吸引させることができる。この場合、
バーナ112の噴出口である開口端面112aは、上記
の基板11の表面に対してほぼ平行となっている。つま
り、開口端面112aは、入射軸108に対して垂直で
なくこれに対して傾斜した角度を有している。
【0012】図1のバーナ112によれば、バーナ11
2の開口端面112aと基板11の表面との間の距離l
を任意に小さくすることができる。したがって、排気風
量を多くしても、それに応じて距離lを小さくすること
により、火炎13及びガラス微粒子流14を基板11に
十分接触させることができるので、堆積効率の劣化を防
止できる。また、バーナ112の開口端面112aと基
板11の表面との間の距離lを平均的に短くすることが
できるので、バーナ112の先端部周辺の気流の乱れに
よって開口端面112aの近傍でのガラス微粒子流に影
響が生じない。このため、均質で再現性の良いガラス微
粒子を基板11上に堆積することができる。
2の開口端面112aと基板11の表面との間の距離l
を任意に小さくすることができる。したがって、排気風
量を多くしても、それに応じて距離lを小さくすること
により、火炎13及びガラス微粒子流14を基板11に
十分接触させることができるので、堆積効率の劣化を防
止できる。また、バーナ112の開口端面112aと基
板11の表面との間の距離lを平均的に短くすることが
できるので、バーナ112の先端部周辺の気流の乱れに
よって開口端面112aの近傍でのガラス微粒子流に影
響が生じない。このため、均質で再現性の良いガラス微
粒子を基板11上に堆積することができる。
【0013】以上のようなバーナを用いる利点は、以上
の説明から明らかなように、バーナ開口端面と基板表面
との間の距離lを短くして、バーナ112からの火炎を
安定化できることに存するが、この際、距離lを25m
m以下、望ましくは10〜20mm程度とする。この距
離lが小さすぎると、ハンドリングの際に基板とバーナ
が接触する、或いはバーナ先端が熱劣化するという問題
が生じる。
の説明から明らかなように、バーナ開口端面と基板表面
との間の距離lを短くして、バーナ112からの火炎を
安定化できることに存するが、この際、距離lを25m
m以下、望ましくは10〜20mm程度とする。この距
離lが小さすぎると、ハンドリングの際に基板とバーナ
が接触する、或いはバーナ先端が熱劣化するという問題
が生じる。
【0014】図2〜図4は、図1のバーナ112を従来
のバーナ12と比較するための図である。図面中におい
て、図1と共通する部分については同一符号を付し、説
明を書略する。
のバーナ12と比較するための図である。図面中におい
て、図1と共通する部分については同一符号を付し、説
明を書略する。
【0015】図2は、従来のバーナ12の先端部を示し
た図である。図示のように、バーナ12の先端部は、そ
の入射軸18が基板11の法線に対して一定角度だけ傾
けられている点で本発明に係るバーナと同様であるが、
その開口端面12aが入射軸18に対してほぼ垂直にな
っている点で異なる。
た図である。図示のように、バーナ12の先端部は、そ
の入射軸18が基板11の法線に対して一定角度だけ傾
けられている点で本発明に係るバーナと同様であるが、
その開口端面12aが入射軸18に対してほぼ垂直にな
っている点で異なる。
【0016】図3及び図4は、従来のバーナ12の問題
点を説明した図である。図3のように排気管15の排気
風量を多くすると、余剰のガラス微粒子14が速やかに
排出されるものの、バーナ12から噴出された火炎13
及びガラス微粒子流14が基板11に接触することが困
難となり、ガラス微粒子が直接排気管15に吸い込まれ
る結果として堆積効率が著しく劣化する。また、図4の
ようにバーナ12の先端部を基板11に近付けた場合、
バーナ12から噴出された火炎13及びガラス微粒子流
14が上方向に舞い上がり、十分な堆積効率が得られな
い。このような結果を生じるのは、Aで示した空間がB
で示した空間より広く、バーナ12から噴出したガスや
火炎が抵抗の少ない空間Aの方向に流れ易いためである
と考えられる。
点を説明した図である。図3のように排気管15の排気
風量を多くすると、余剰のガラス微粒子14が速やかに
排出されるものの、バーナ12から噴出された火炎13
及びガラス微粒子流14が基板11に接触することが困
難となり、ガラス微粒子が直接排気管15に吸い込まれ
る結果として堆積効率が著しく劣化する。また、図4の
ようにバーナ12の先端部を基板11に近付けた場合、
バーナ12から噴出された火炎13及びガラス微粒子流
14が上方向に舞い上がり、十分な堆積効率が得られな
い。このような結果を生じるのは、Aで示した空間がB
で示した空間より広く、バーナ12から噴出したガスや
火炎が抵抗の少ない空間Aの方向に流れ易いためである
と考えられる。
【0017】以下、本発明の具体的実施例について説明
する。
する。
【0018】図5は、実施例に係る光導波膜の製造装置
に使用するガラス微粒子合成用のバーナの構造を示した
図である。実施例の装置の他の部分については、従来装
置と同様の構成を有するのでその説明を省略する。図5
(a)は、バーナ112の横断面図であり、図5(b)
は、バーナ112の先端部の側方断面図である。
に使用するガラス微粒子合成用のバーナの構造を示した
図である。実施例の装置の他の部分については、従来装
置と同様の構成を有するのでその説明を省略する。図5
(a)は、バーナ112の横断面図であり、図5(b)
は、バーナ112の先端部の側方断面図である。
【0019】図5(a)に示すように、バーナ112は
同心4重管構造を有する。その最内層112aには、S
iCl4 、GeCl4 、TiCl4 、BBr3 、BCl
3 、PCl3 、POCl3 などの原料ガスが、必要に応
じてAr、He、N2 などのキャリア・不活性ガスとと
もに供給される。第2層112bには、燃料の一方であ
るH2 ガスが流され、第3層112cには、シール用ガ
スとしてAr、He、N2 などの不活性ガスが流され、
第4層112dには、助熱ガスであるO2 ガスが流され
る。
同心4重管構造を有する。その最内層112aには、S
iCl4 、GeCl4 、TiCl4 、BBr3 、BCl
3 、PCl3 、POCl3 などの原料ガスが、必要に応
じてAr、He、N2 などのキャリア・不活性ガスとと
もに供給される。第2層112bには、燃料の一方であ
るH2 ガスが流され、第3層112cには、シール用ガ
スとしてAr、He、N2 などの不活性ガスが流され、
第4層112dには、助熱ガスであるO2 ガスが流され
る。
【0020】図5(b)に示すように、バーナ112の
先端部では、その最内層112aから第3層112cま
での外筒の先端位置が、第4層112dの外筒の先端位
置よりも奥に下がっている。すなわち、第4層112d
の外筒の先端のみが突出した状態で、かつ、基板11表
面に対してほぼ平行となっている。
先端部では、その最内層112aから第3層112cま
での外筒の先端位置が、第4層112dの外筒の先端位
置よりも奥に下がっている。すなわち、第4層112d
の外筒の先端のみが突出した状態で、かつ、基板11表
面に対してほぼ平行となっている。
【0021】以下、図5のバーナ112を用いた光導波
膜の製造方法ついて説明する。図示のバーナ112で
は、バーナ112の第2及び第4層112b、112d
からの燃料ガスH2 、助熱ガスO2 によって火炎が形成
され、この火炎内で最内層112aからの原料ガスが反
応して石英系のガラス微粒子が合成される。このガラス
微粒子は火炎その他のガスにのって基板11上に供給さ
れ、多孔質状の薄膜を形成する。この場合、基板11は
ターンテーブルの回転に伴って周回し、バーナ112も
その半径方向に往復移動しているので、基板上に均質な
多孔質薄膜を形成することができる。その後、この多孔
質状薄膜を堆積した基板を別の炉内で高温で加熱し多孔
質状の薄膜を透明化することによって光導波膜を得るこ
とができる。
膜の製造方法ついて説明する。図示のバーナ112で
は、バーナ112の第2及び第4層112b、112d
からの燃料ガスH2 、助熱ガスO2 によって火炎が形成
され、この火炎内で最内層112aからの原料ガスが反
応して石英系のガラス微粒子が合成される。このガラス
微粒子は火炎その他のガスにのって基板11上に供給さ
れ、多孔質状の薄膜を形成する。この場合、基板11は
ターンテーブルの回転に伴って周回し、バーナ112も
その半径方向に往復移動しているので、基板上に均質な
多孔質薄膜を形成することができる。その後、この多孔
質状薄膜を堆積した基板を別の炉内で高温で加熱し多孔
質状の薄膜を透明化することによって光導波膜を得るこ
とができる。
【0022】図5のバーナ112の場合、第4層112
dの外筒の先端のみが突出しているので、最内層112
aから第4層112dに流入したガスは、第4層112
dの外筒の開口端面までの空間で拡散、混合、反応す
る。しかも、火炎及びガス原料流は、第4層112dの
外筒に覆われているので外乱を受けることがなく、基板
11の表面近傍でも安定なものとなっている。
dの外筒の先端のみが突出しているので、最内層112
aから第4層112dに流入したガスは、第4層112
dの外筒の開口端面までの空間で拡散、混合、反応す
る。しかも、火炎及びガス原料流は、第4層112dの
外筒に覆われているので外乱を受けることがなく、基板
11の表面近傍でも安定なものとなっている。
【0023】例えば、最内層112aから第4層112
dまでのすべての外筒の先端が基板から等距離の面内で
切り出されている場合、バーナ112の開口端面を基板
に近付けたときにバーナ112先端から噴出した各種ガ
スの反応時間が十分に取れないといった問題が生じるお
それがあるが、上記実施例のバーナ112ではこのよう
な問題が生じる可能性がない。
dまでのすべての外筒の先端が基板から等距離の面内で
切り出されている場合、バーナ112の開口端面を基板
に近付けたときにバーナ112先端から噴出した各種ガ
スの反応時間が十分に取れないといった問題が生じるお
それがあるが、上記実施例のバーナ112ではこのよう
な問題が生じる可能性がない。
【0024】図6は、図5のガラス微粒子合成用のバー
ナの変形例を示した図である。図示のように、最内層2
12aから第4層212dまでのすべての外筒の開口端
面が一致したバーナであっても、第4層212dの外筒
に円筒状スリーブ216を設け、かつ、その開口端面2
16aを基板11と平行になるように加工する。なお、
参照番号218で示した部分は円筒状スリーブ216を
固定するための介在物である。このようなバーナ212
によっても図5のバーナと同様の効果を得ることができ
る。
ナの変形例を示した図である。図示のように、最内層2
12aから第4層212dまでのすべての外筒の開口端
面が一致したバーナであっても、第4層212dの外筒
に円筒状スリーブ216を設け、かつ、その開口端面2
16aを基板11と平行になるように加工する。なお、
参照番号218で示した部分は円筒状スリーブ216を
固定するための介在物である。このようなバーナ212
によっても図5のバーナと同様の効果を得ることができ
る。
【0025】なお、ガラス微粒子合成用のバーナとして
は、図6のような変形例の他、各種の変形が可能なこと
は言うまでもない。
は、図6のような変形例の他、各種の変形が可能なこと
は言うまでもない。
【0026】以下、図5に示すようなバーナを備える製
造装置を用いて行った具体的製造方法について説明す
る。ガラス微粒子の多孔質膜を堆積するにあたって、半
径600mmのターンテーブル10上に直径3インチ
(約75mm)のシリコンウェハを5枚並べた。
造装置を用いて行った具体的製造方法について説明す
る。ガラス微粒子の多孔質膜を堆積するにあたって、半
径600mmのターンテーブル10上に直径3インチ
(約75mm)のシリコンウェハを5枚並べた。
【0027】ガラス微粒子合成用のバーナは、最外径が
22mmの4重管バーナとした。また、バーナの水平方
向からの傾射角度θを60゜とし、バーナと基板との距
離lを15mmとし、バーナの開口端面からバーナの最
内層、第2層及び第3層の先端位置までの距離mを20
mmとした。これらのパラメータ(l,m,θ)につい
ては図7に参照した。
22mmの4重管バーナとした。また、バーナの水平方
向からの傾射角度θを60゜とし、バーナと基板との距
離lを15mmとし、バーナの開口端面からバーナの最
内層、第2層及び第3層の先端位置までの距離mを20
mmとした。これらのパラメータ(l,m,θ)につい
ては図7に参照した。
【0028】このバーナの最内層には原料として100
cc/minのSiCl4 、30cc/minのBCl
3 及び10cc/minのPCl3 と、キャリアガスと
してArとを合計で200cc/min供給した。ま
た、第2層には4l/minのH2 を供給し、第3層に
は3l/minのArを供給し、第4層には6l/mi
nのO2 を供給した。
cc/minのSiCl4 、30cc/minのBCl
3 及び10cc/minのPCl3 と、キャリアガスと
してArとを合計で200cc/min供給した。ま
た、第2層には4l/minのH2 を供給し、第3層に
は3l/minのArを供給し、第4層には6l/mi
nのO2 を供給した。
【0029】バーナは、ターンテーブルの中心からその
半径方向に100mm〜280mmの範囲で、毎分25
0mmの速度で往復運動させた。さらに、ターンテーブ
ルは15rpmの速度で回転させた。このように、バー
ナをターンテーブル上で均一に走査しつつ、バーナから
のガラス微粒子を基板上に10分間堆積してこの基板上
に多孔質ガラス層を形成した。なお、この際の排気管と
しては、内径80mmの円筒形状のものを用い、その排
気風量を排気管入口部で約6m/minとした。多孔質
ガラス層の形成中、余剰のガラス微粒子はすみやかにこ
の排気管を通って排気され、かつ、火炎の揺れも全く存
在しなかった。
半径方向に100mm〜280mmの範囲で、毎分25
0mmの速度で往復運動させた。さらに、ターンテーブ
ルは15rpmの速度で回転させた。このように、バー
ナをターンテーブル上で均一に走査しつつ、バーナから
のガラス微粒子を基板上に10分間堆積してこの基板上
に多孔質ガラス層を形成した。なお、この際の排気管と
しては、内径80mmの円筒形状のものを用い、その排
気風量を排気管入口部で約6m/minとした。多孔質
ガラス層の形成中、余剰のガラス微粒子はすみやかにこ
の排気管を通って排気され、かつ、火炎の揺れも全く存
在しなかった。
【0030】多孔質ガラス層を堆積した基板を50%の
O2 と50%のHeの雰囲気中で1300℃まで加熱し
た結果、5枚の基板上のすべての多孔質ガラス層が完全
に透明化した。各ウェハ上の透明ガラス膜の厚さは、4
0.5μm〜42.0μmの範囲内で安定していた。
O2 と50%のHeの雰囲気中で1300℃まで加熱し
た結果、5枚の基板上のすべての多孔質ガラス層が完全
に透明化した。各ウェハ上の透明ガラス膜の厚さは、4
0.5μm〜42.0μmの範囲内で安定していた。
【0031】以下、図8に示す従来型のバーナを用いた
比較例について簡単に説明する。この場合、バーナの形
状及び配置等を除いて、実施例の製造装置と比較例の製
造装置とは同様のものであった。また特記したものを除
き、実施例の製造条件と比較例の製造条件とを一致させ
て多孔質ガラス層を形成し、これを同一条件で透明化し
てガラス膜を得た。バーナ12の傾射角度θ、距離l及
び距離mについては図8中に参照した。
比較例について簡単に説明する。この場合、バーナの形
状及び配置等を除いて、実施例の製造装置と比較例の製
造装置とは同様のものであった。また特記したものを除
き、実施例の製造条件と比較例の製造条件とを一致させ
て多孔質ガラス層を形成し、これを同一条件で透明化し
てガラス膜を得た。バーナ12の傾射角度θ、距離l及
び距離mについては図8中に参照した。
【0032】第1の比較例の場合、l=15mm、m=
20mm、θ=60゜とした。その結果、多孔質ガラス
層の形成中にバーナからの火炎が不規則に舞い上がる現
象が観察された。また、合成されたガラス膜の厚みは、
33μm〜40μmの範囲でバラついた。
20mm、θ=60゜とした。その結果、多孔質ガラス
層の形成中にバーナからの火炎が不規則に舞い上がる現
象が観察された。また、合成されたガラス膜の厚みは、
33μm〜40μmの範囲でバラついた。
【0033】第2の比較例の場合、l=30mm、m=
20mm、θ=60゜とした。その結果、多孔質ガラス
層の形成中に火炎及びガラス微粒子流が基板11にほと
んど接触することなく排気管に吸い込まれる状態とな
り、合成されたガラス膜の厚みは、5μm以下であっ
た。
20mm、θ=60゜とした。その結果、多孔質ガラス
層の形成中に火炎及びガラス微粒子流が基板11にほと
んど接触することなく排気管に吸い込まれる状態とな
り、合成されたガラス膜の厚みは、5μm以下であっ
た。
【0034】第3の比較例の場合、l=30mm、m=
20mm、θ=60゜とし、排気風量を約3m/min
にまで下げた。その結果、余剰のススの一部は排気され
ることなく反応容器内に滞留し、透明ガラス化後も無数
の輝点がガラス膜内に観察された。膜厚も、28μm〜
35μmの範囲でバラついた。
20mm、θ=60゜とし、排気風量を約3m/min
にまで下げた。その結果、余剰のススの一部は排気され
ることなく反応容器内に滞留し、透明ガラス化後も無数
の輝点がガラス膜内に観察された。膜厚も、28μm〜
35μmの範囲でバラついた。
【0035】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の光導波膜
の製造装置によれば、ガラス微粒子生成用のバーナの先
端部が基板の法線に対して所定の傾角をなしているとと
もに、このバーナの先端部の開口端面が基板の表面に対
して略平行になっている。したがって、バーナの開口端
面と基板との間隔をほぼ一様に短く保つことができ、排
気風量の多少にかかわらず、バーナからの火炎やガラス
微粒子流の乱れ、揺動等を十分に抑えることができるの
で、均質で再現性の良い多孔質状の薄膜を基板上に効率
よく形成することができる。
の製造装置によれば、ガラス微粒子生成用のバーナの先
端部が基板の法線に対して所定の傾角をなしているとと
もに、このバーナの先端部の開口端面が基板の表面に対
して略平行になっている。したがって、バーナの開口端
面と基板との間隔をほぼ一様に短く保つことができ、排
気風量の多少にかかわらず、バーナからの火炎やガラス
微粒子流の乱れ、揺動等を十分に抑えることができるの
で、均質で再現性の良い多孔質状の薄膜を基板上に効率
よく形成することができる。
【図1】本発明の光導波膜の製造装置の要部を示す図。
【図2】従来の製造装置に用いるバーナを示す図。
【図3】従来のバーナを用いた製造方法の一例を示す
図。
図。
【図4】従来のバーナを用いた製造方法の一例を示す
図。
図。
【図5】実施例の導波膜の製造装置の要部を示す図。
【図6】実施例のバーナの変形例を示す図。
【図7】具体的実施例のバーナのパラメータを示す図。
【図8】比較例のバーナのパラメータを示す図。
【図9】従来の製造装置を示す図。
11…基板、112…バーナ、112a…開口端面。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石川 真二 神奈川県横浜市栄区田谷町1番地 住友電 気工業株式会社横浜製作所内 (72)発明者 相川 晴彦 神奈川県横浜市栄区田谷町1番地 住友電 気工業株式会社横浜製作所内 (72)発明者 広瀬 智財 神奈川県横浜市栄区田谷町1番地 住友電 気工業株式会社横浜製作所内
Claims (2)
- 【請求項1】 バーナで生成されたガラス微粒子を基板
上に堆積して多孔質状の薄膜を形成する光導波膜の製造
装置において、 前記バーナは、その先端部が前記基板の法線に対して所
定の傾角をなしているとともに、その先端部の開口端面
が前記基板の表面に対して略平行になっていることを特
徴とする光導波膜の製造装置。 - 【請求項2】 前記バーナの先端面と前記基板との間の
距離を25mm以下とすることを特徴とする請求項1記
載の光導波膜の製造装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4049486A JPH05249333A (ja) | 1992-03-06 | 1992-03-06 | 光導波膜の製造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4049486A JPH05249333A (ja) | 1992-03-06 | 1992-03-06 | 光導波膜の製造装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05249333A true JPH05249333A (ja) | 1993-09-28 |
Family
ID=12832491
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4049486A Pending JPH05249333A (ja) | 1992-03-06 | 1992-03-06 | 光導波膜の製造装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05249333A (ja) |
-
1992
- 1992-03-06 JP JP4049486A patent/JPH05249333A/ja active Pending
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