JPH0525400A - 新規なビスアゾ化合物、ビス（ジアゾニウム）塩及びそれらの製造方法 - Google Patents
新規なビスアゾ化合物、ビス（ジアゾニウム）塩及びそれらの製造方法Info
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- JPH0525400A JPH0525400A JP3186306A JP18630691A JPH0525400A JP H0525400 A JPH0525400 A JP H0525400A JP 3186306 A JP3186306 A JP 3186306A JP 18630691 A JP18630691 A JP 18630691A JP H0525400 A JPH0525400 A JP H0525400A
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 溶解性が高く、分子吸光係数、反射率の高い
新規なビスアゾ化合物、その中間体及びそれらの製造方
法を提供すること。 【構成】 下記一般式（１）で示されるビスアゾ化合
物。 【化１】 （式中、Ｒは水素原子、置換あるいは無置換のアルキル
基、置換あるいは無置換のアリール基、置換あるいは無
置換の複素環、置換あるいは無置換のアルコキシ基、ニ
トロ基、シアノ基、塩素原子、臭素原子を表わし、Ｃｐ
はカップリング成分の残基を表わす）下記一般式（２）
で表わされるビスジアゾニウム塩。 【化２】 （式中、Ｒは水素原子、置換あるいは無置換のアルキル
基、置換あるいは無置換のアリール基、置換あるいは無
置換の複素環、置換あるいは無置換のアルコキシ基、ニ
トロ基、シアノ基、塩素原子、臭素原子を表わし、Ｘ￣
はアニオン官能基を表わす）
新規なビスアゾ化合物、その中間体及びそれらの製造方
法を提供すること。 【構成】 下記一般式（１）で示されるビスアゾ化合
物。 【化１】 （式中、Ｒは水素原子、置換あるいは無置換のアルキル
基、置換あるいは無置換のアリール基、置換あるいは無
置換の複素環、置換あるいは無置換のアルコキシ基、ニ
トロ基、シアノ基、塩素原子、臭素原子を表わし、Ｃｐ
はカップリング成分の残基を表わす）下記一般式（２）
で表わされるビスジアゾニウム塩。 【化２】 （式中、Ｒは水素原子、置換あるいは無置換のアルキル
基、置換あるいは無置換のアリール基、置換あるいは無
置換の複素環、置換あるいは無置換のアルコキシ基、ニ
トロ基、シアノ基、塩素原子、臭素原子を表わし、Ｘ￣
はアニオン官能基を表わす）
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は新規なビスアゾ化合物、
その中間体であるビス（ジアゾニウム）塩ならびにそれ
らの製造方法に関する。
その中間体であるビス（ジアゾニウム）塩ならびにそれ
らの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、情報データを高密度に蓄積する手
段として、光ディスク記録装置の開発が活発に行なわれ
ている。これらに用いる記録媒体の一つである光情報記
録媒体は、媒体と書き込み、ないし読み出しヘッドが非
接触であるので記録媒体が摩耗劣化しない、高密度化が
できるという特徴をもち、種々の光情報記録媒体の開発
が進められている。この様な光情報記録媒体のうち、ヒ
ートモードの光記録媒体の開発が活発になっている。こ
のヒートモードの光記録媒体は、記録光を熱として利用
する光情報記録媒体であり、一例としてレーザー等の記
録光で媒体の一部を融解、除去してビットと言われる小
穴を形成して書き込みを行ない、このビットにより情報
を記録し、このビットの読み出し光で検出して読み出し
を行なうビット形成タイプのものがある。
段として、光ディスク記録装置の開発が活発に行なわれ
ている。これらに用いる記録媒体の一つである光情報記
録媒体は、媒体と書き込み、ないし読み出しヘッドが非
接触であるので記録媒体が摩耗劣化しない、高密度化が
できるという特徴をもち、種々の光情報記録媒体の開発
が進められている。この様な光情報記録媒体のうち、ヒ
ートモードの光記録媒体の開発が活発になっている。こ
のヒートモードの光記録媒体は、記録光を熱として利用
する光情報記録媒体であり、一例としてレーザー等の記
録光で媒体の一部を融解、除去してビットと言われる小
穴を形成して書き込みを行ない、このビットにより情報
を記録し、このビットの読み出し光で検出して読み出し
を行なうビット形成タイプのものがある。
【０００３】またこのほかにも相変化を利用したもの、
フォトクロミック材料を利用したものなど、様々な記録
方法が提案されてきている。光情報記録材料はレーザー
光のエネルギーを効率よく吸収する必要があるため記録
に使用する特定の波長のレーザー光に対する吸収が大き
いこと、情報の再生を正確に行なうため、再生に使用す
る特定の波長のレーザー光に対する反射率が高いことが
必要となる。
フォトクロミック材料を利用したものなど、様々な記録
方法が提案されてきている。光情報記録材料はレーザー
光のエネルギーを効率よく吸収する必要があるため記録
に使用する特定の波長のレーザー光に対する吸収が大き
いこと、情報の再生を正確に行なうため、再生に使用す
る特定の波長のレーザー光に対する反射率が高いことが
必要となる。
【０００４】ビット形成タイプの記録媒体は、無機系の
Ｓｅ，Ｔｅを主体とする材料が大半をしめている。しか
し近年無機系材料が環境汚染の問題があること、そして
より高感度化する必要があること等から、無機系に代え
て有機色素を主体にした有機系材料を記録層に用いる記
録媒体についての報告が増加している。この有機系材料
に用いる色素としてはシアニン色素（例えば、特開昭５
８ー１１４９８９号公報）、金属錯体（例えば、特開昭
５８−１６８８８号公報）、フタロシアニン色素（例え
ば、特開平３−７７８４０号公報）等の報告がなされて
いる。
Ｓｅ，Ｔｅを主体とする材料が大半をしめている。しか
し近年無機系材料が環境汚染の問題があること、そして
より高感度化する必要があること等から、無機系に代え
て有機色素を主体にした有機系材料を記録層に用いる記
録媒体についての報告が増加している。この有機系材料
に用いる色素としてはシアニン色素（例えば、特開昭５
８ー１１４９８９号公報）、金属錯体（例えば、特開昭
５８−１６８８８号公報）、フタロシアニン色素（例え
ば、特開平３−７７８４０号公報）等の報告がなされて
いる。
【０００５】半導体レーザーを使用する場合、これらの
化合物の中には吸収波長に関しては満足のゆくものが得
られている。しかしながら、空気中の保存において、酸
素、湿気に対して不安定であったり、溶解性や感度が低
いなど必ずしも充分に満足できる材料は得られておら
ず、いまなお改良がつづけられている。
化合物の中には吸収波長に関しては満足のゆくものが得
られている。しかしながら、空気中の保存において、酸
素、湿気に対して不安定であったり、溶解性や感度が低
いなど必ずしも充分に満足できる材料は得られておら
ず、いまなお改良がつづけられている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明は溶解性が高
く、分子吸光係数、反射率の高い新規なビスアゾ化合物
その中間体およびそれらの製造方法の提供を目的とする
ものである。
く、分子吸光係数、反射率の高い新規なビスアゾ化合物
その中間体およびそれらの製造方法の提供を目的とする
ものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明の１つは一般式
（１）
（１）
【０００８】
【化７】
【０００９】（式中、Ｒは水素原子、置換あるいは無置
換のアルキル基、置換あるいは無置換のアリール基、置
換あるいは無置換の複素環、置換あるいは無置換のアル
コキシ基、ニトロ基、シアノ基、塩素原子、臭素原子を
表わし、ｎは１、２又は３、Ｃｐはカップリング成分の
残基を表わす）で示されるビスアゾ化合物であり、他は
一般式（２）
換のアルキル基、置換あるいは無置換のアリール基、置
換あるいは無置換の複素環、置換あるいは無置換のアル
コキシ基、ニトロ基、シアノ基、塩素原子、臭素原子を
表わし、ｎは１、２又は３、Ｃｐはカップリング成分の
残基を表わす）で示されるビスアゾ化合物であり、他は
一般式（２）
【００１０】
【化８】
【００１１】（式中、Ｒは水素原子、置換あるいは無置
換のアルキル基、置換あるいは無置換のアリール基、置
換あるいは無置換の複素環、置換あるいは無置換のアル
コキシ基、ニトロ基、シアノ基、塩素原子、臭素原子を
表わし、ｎは１、２又は３、Ｘ￣はアニオン官能基を表
わす）で示されるビス（ジアゾニウム）塩、さらに、こ
の一般式（２）で示されるビス（ジアゾニウム）塩とカ
ップラーとをカップリング反応させる前記一般式（１）
で示されたビスアゾ化合物の製造方法、及び一般式
（３）
換のアルキル基、置換あるいは無置換のアリール基、置
換あるいは無置換の複素環、置換あるいは無置換のアル
コキシ基、ニトロ基、シアノ基、塩素原子、臭素原子を
表わし、ｎは１、２又は３、Ｘ￣はアニオン官能基を表
わす）で示されるビス（ジアゾニウム）塩、さらに、こ
の一般式（２）で示されるビス（ジアゾニウム）塩とカ
ップラーとをカップリング反応させる前記一般式（１）
で示されたビスアゾ化合物の製造方法、及び一般式
（３）
【００１２】
【化９】
【００１３】（式中、Ｒは水素原子、置換あるいは無置
換のアルキル基、置換あるいは無置換のアリール基、置
換あるいは無置換の複素環、置換あるいは無置換のアル
コキシ基、ニトロ基、シアノ基、塩素原子、臭素原子を
表わし、ｎは１、２又は３、Ｘ￣はアニオン官能基を表
わす）で示されるジアミノ化合物をジアゾ化させる前記
一般式（２）で示されたビス（ジアゾニウム）塩の製造
方法である。ここで、本発明の前記一般式（１）におけ
る、置換基Ｒの代表例としては、メチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−
ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチ
ル基等のアルキル基、ベンジル基等の置換アルキル基、
フェニル基、ナフチル基等のアリール基、メシチル基、
トリ−ｔ−ブチルフェニル基等の置換アリール基、メト
キシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソ−プロポ
キシ基、ｎ−ブチロキシ基、ｓ−ブチロキシ基、ｔ−ブ
チロキシ基等のアルコキシ基、水素原子、ニトロ基、シ
アノ基、塩素原子、臭素原子等があげられる。また一般
式（２）におけるアニオン官能基Ｘ-の代表例として
は、Ｃｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＢＦ4 -、ＰＦ6 -、Ｂ（Ｃ
6Ｈ5）4 -、ＣｌＯ4 -、ＳＯ4 2-、
換のアルキル基、置換あるいは無置換のアリール基、置
換あるいは無置換の複素環、置換あるいは無置換のアル
コキシ基、ニトロ基、シアノ基、塩素原子、臭素原子を
表わし、ｎは１、２又は３、Ｘ￣はアニオン官能基を表
わす）で示されるジアミノ化合物をジアゾ化させる前記
一般式（２）で示されたビス（ジアゾニウム）塩の製造
方法である。ここで、本発明の前記一般式（１）におけ
る、置換基Ｒの代表例としては、メチル基、エチル基、
ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−
ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチ
ル基等のアルキル基、ベンジル基等の置換アルキル基、
フェニル基、ナフチル基等のアリール基、メシチル基、
トリ−ｔ−ブチルフェニル基等の置換アリール基、メト
キシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソ−プロポ
キシ基、ｎ−ブチロキシ基、ｓ−ブチロキシ基、ｔ−ブ
チロキシ基等のアルコキシ基、水素原子、ニトロ基、シ
アノ基、塩素原子、臭素原子等があげられる。また一般
式（２）におけるアニオン官能基Ｘ-の代表例として
は、Ｃｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-、ＢＦ4 -、ＰＦ6 -、Ｂ（Ｃ
6Ｈ5）4 -、ＣｌＯ4 -、ＳＯ4 2-、
【００１４】
【化１０】
【００１５】ＡｓＦ6 -、ＳｂＦ6 -等があげられ、好まし
くはＢＦ4 -である。
くはＢＦ4 -である。
【００１６】本発明の前記一般式（１）で示されるビス
アゾ化合物及び一般式（２）で示されるビス（ジアゾニ
ウム）塩は次のようにして製造される。
アゾ化合物及び一般式（２）で示されるビス（ジアゾニ
ウム）塩は次のようにして製造される。
【００１７】まずビス（ジアゾニウム）塩は、下記一般
式（４）
式（４）
【００１８】
【化１１】
【００１９】（式中、Ｒは前記一般式（１）と同じであ
る）で表わされる化合物を抱水ヒドラジンと作用して得
られる下記一般式（３）
る）で表わされる化合物を抱水ヒドラジンと作用して得
られる下記一般式（３）
【００２０】
【化１２】
【００２１】（式中、Ｒは水素原子、置換あるいは無置
換のアルキル基、置換あるいは無置換のアリール基、置
換あるいは無置換の複素環、置換あるいは無置換のアル
コキシ基、ニトロ基、シアノ基、塩素原子、臭素原子を
表わし、ｎは１、２又は３、Ｘ￣はアニオン官能基を表
わす）で表わされるジアミノ化合物をジアゾ化する事に
より得られる。
換のアルキル基、置換あるいは無置換のアリール基、置
換あるいは無置換の複素環、置換あるいは無置換のアル
コキシ基、ニトロ基、シアノ基、塩素原子、臭素原子を
表わし、ｎは１、２又は３、Ｘ￣はアニオン官能基を表
わす）で表わされるジアミノ化合物をジアゾ化する事に
より得られる。
【００２２】なお、一般式（４）で示される化合物は、
下記一般式（５）
下記一般式（５）
【００２３】
【化１３】
【００２４】（式中、Ｒは前記一般式（１）と同じであ
る）で表わされるアミノ化合物と、このアミノ化合物の
２倍等量の下記一般式（６）
る）で表わされるアミノ化合物と、このアミノ化合物の
２倍等量の下記一般式（６）
【００２５】
【化１４】
【００２６】で表わされるヨード化合物とを銅粉あるい
はハロゲン化銅などと、縮合反応中に生ずるヨウ化水素
を中和するのに十分な量のアルカリ塩を加え、溶媒もし
くは無溶媒下で、不活性ガス雰囲気のもとに加熱置換さ
せるいわゆるウルマン反応により製造することができ
る。
はハロゲン化銅などと、縮合反応中に生ずるヨウ化水素
を中和するのに十分な量のアルカリ塩を加え、溶媒もし
くは無溶媒下で、不活性ガス雰囲気のもとに加熱置換さ
せるいわゆるウルマン反応により製造することができ
る。
【００２７】この場合、アルカリ塩としては、苛性ソー
ダ、苛性カリ、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどを挙
げることができる。また、反応溶媒としては、ニトロベ
ンゼン、ジクロルベンゼン、キノリン、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピ
ロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンな
どを挙げることができる。
ダ、苛性カリ、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなどを挙
げることができる。また、反応溶媒としては、ニトロベ
ンゼン、ジクロルベンゼン、キノリン、Ｎ，Ｎ−ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルピ
ロリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノンな
どを挙げることができる。
【００２８】次に、得られた一般式（４）で示される化
合物をベンゼン、トルエン、クロロホルム、１，２−ジ
クロロエタン、アセトン、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン等の有機溶媒に溶解し、これに過剰の抱水ヒドラジ
ンを加えて、加熱還流することにより、一般式（３）で
示されるジアミン化合物を製造することができる。この
反応は３時間から６時間で完結する。反応終了後は溶媒
を留去し適当な方法、例えば、再結晶、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフ等の方法で一般式（３）で示されるジ
アミン化合物を精製することができる。
合物をベンゼン、トルエン、クロロホルム、１，２−ジ
クロロエタン、アセトン、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン等の有機溶媒に溶解し、これに過剰の抱水ヒドラジ
ンを加えて、加熱還流することにより、一般式（３）で
示されるジアミン化合物を製造することができる。この
反応は３時間から６時間で完結する。反応終了後は溶媒
を留去し適当な方法、例えば、再結晶、シリカゲルカラ
ムクロマトグラフ等の方法で一般式（３）で示されるジ
アミン化合物を精製することができる。
【００２９】こうして得られたジアミノ化合物のジアゾ
化はこのジアミノ化合物を塩酸、硫酸等の無機酸中に分
散した後、これに、−１０〜２０℃の温度で亜硝酸ナト
リウムを添加することにより行なわれ、反応は約０．５
〜３時間で完結する。
化はこのジアミノ化合物を塩酸、硫酸等の無機酸中に分
散した後、これに、−１０〜２０℃の温度で亜硝酸ナト
リウムを添加することにより行なわれ、反応は約０．５
〜３時間で完結する。
【００３０】この反応によって一般式（２）のビス（ジ
アゾニウム）塩が得られるが、更に、このジアゾ化反応
液に例えば硼弗化水素酸、硼弗化ナトリウム等の水溶液
を加えて塩変換することにより一般式（２）のビス（ジ
アゾニウム）塩を得ることができる。
アゾニウム）塩が得られるが、更に、このジアゾ化反応
液に例えば硼弗化水素酸、硼弗化ナトリウム等の水溶液
を加えて塩変換することにより一般式（２）のビス（ジ
アゾニウム）塩を得ることができる。
【００３１】ここで、本発明のビスアゾ化合物製造のた
めのカップリング反応に使用するカップラーとしては、
アシルアセトアリールアミド類、フェノール類、ピリド
ン類、キノロン類、ピラゾール類、インドール類、ジフ
ェニルアミン類、アニリン類、アミノピリジン類、ピリ
ミジン類、ピリミドン類、ナフトール類、ナフチルアミ
ン類、ヒドロキシアントラセン類、アミノチアゾール
類、チオフェン類、ヒドロキシピリジン類等があげられ
る。
めのカップリング反応に使用するカップラーとしては、
アシルアセトアリールアミド類、フェノール類、ピリド
ン類、キノロン類、ピラゾール類、インドール類、ジフ
ェニルアミン類、アニリン類、アミノピリジン類、ピリ
ミジン類、ピリミドン類、ナフトール類、ナフチルアミ
ン類、ヒドロキシアントラセン類、アミノチアゾール
類、チオフェン類、ヒドロキシピリジン類等があげられ
る。
【００３２】さらにこれらのカップリング成分は無置換
か、またはアルキル基、アリール基、ヒドロキシ基、ア
ミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリ
ールアミノ基、ジアリールアミノ基、ヒドロキシアルキ
ルアミノ基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、アルキルアミノカルボニル基、アリールアミノ
カルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、アリール
オキシカルボニル基、スルホニル基、アルキルアミノス
ルホニル基、アリールアミノスルホニル基、アルキルス
ルホン基、アリールスルホン基、ニトロ基、シアノ基等
によって置換されていてもよい。
か、またはアルキル基、アリール基、ヒドロキシ基、ア
ミノ基、アルキルアミノ基、ジアルキルアミノ基、アリ
ールアミノ基、ジアリールアミノ基、ヒドロキシアルキ
ルアミノ基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオ
キシ基、アルキルアミノカルボニル基、アリールアミノ
カルボニル基、アルキルオキシカルボニル基、アリール
オキシカルボニル基、スルホニル基、アルキルアミノス
ルホニル基、アリールアミノスルホニル基、アルキルス
ルホン基、アリールスルホン基、ニトロ基、シアノ基等
によって置換されていてもよい。
【００３３】こうして得られたビス（ジアゾニウム）塩
を用いて本発明のビスアゾ化合物を製造するには、ま
ず、反応液からビス（ジアゾニウム）塩を単離した後、
これを上記のカップラーとともに、Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド等の有機溶媒に溶解
し、これに約−１０〜４℃の温度で酢酸ナトリウム水溶
液のようなアルカリ水溶液を滴下してカップリング反応
させればよい。この反応は約５分〜３時間で完結する。
反応終了後、反応混合物を氷にそそぎ、析出した結晶を
濾取し、適当な方法、例えば再結晶、シリカゲルカラム
クロマトグラフ等で精製することにより目的とするビス
アゾ化合物が得られる。なおビスアゾ化合物の製造は前
記ジアゾ化反応液にそのままカップラーを作用させるこ
とによっても可能である。
を用いて本発明のビスアゾ化合物を製造するには、ま
ず、反応液からビス（ジアゾニウム）塩を単離した後、
これを上記のカップラーとともに、Ｎ，Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルスルホキシド等の有機溶媒に溶解
し、これに約−１０〜４℃の温度で酢酸ナトリウム水溶
液のようなアルカリ水溶液を滴下してカップリング反応
させればよい。この反応は約５分〜３時間で完結する。
反応終了後、反応混合物を氷にそそぎ、析出した結晶を
濾取し、適当な方法、例えば再結晶、シリカゲルカラム
クロマトグラフ等で精製することにより目的とするビス
アゾ化合物が得られる。なおビスアゾ化合物の製造は前
記ジアゾ化反応液にそのままカップラーを作用させるこ
とによっても可能である。
【００３４】以上のようにして製造される本発明ビスア
ゾ化合物の好ましい具体例を挙げるが、本発明の範囲は
これらのみに限定されるものではない。
ゾ化合物の好ましい具体例を挙げるが、本発明の範囲は
これらのみに限定されるものではない。
【００３５】
【化１５】
【００３６】
【化１６】
【００３７】
【化１７】
【００３８】
【化１８】
【００３９】
【化１９】
【００４０】
【化２０】
【００４１】
【化２１】
【００４２】
【化２２】
【００４３】
【化２３】
【００４４】本発明のビスアゾ化合物（１）を記録材料
として使用する場合、基本的には基板とビスアゾ化合物
（１）を含む記録層とから構成されるものである。
として使用する場合、基本的には基板とビスアゾ化合物
（１）を含む記録層とから構成されるものである。
【００４５】本発明において使用する基板は、従来の情
報記録媒体の基板として用いられている各種の材料から
任意に選択することができる。基板の光学的特性、平面
性、加工性、取扱い性、経時安定性および製造コストな
どの点から、基板材料の例としてはソーダ石灰ガラス等
のガラス：セルキャストポリメチルメタクリレート、射
出成形ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポ
リ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹
脂：エポキシ樹脂：およびポリカーボネート樹脂、アモ
ルファスポリオレフィン、ポリエステルを挙げることが
できる。これらのうちで寸度安定性、透明性および平面
性などの点から、好ましいものは、ポリメチルメタクリ
レート、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、アモル
ファスポリオレフィン、ポリエステルおよびガラスであ
る。なお、これらの材料はフィルム状としてまたは剛性
のある基板として使うことができる。
報記録媒体の基板として用いられている各種の材料から
任意に選択することができる。基板の光学的特性、平面
性、加工性、取扱い性、経時安定性および製造コストな
どの点から、基板材料の例としてはソーダ石灰ガラス等
のガラス：セルキャストポリメチルメタクリレート、射
出成形ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポ
リ塩化ビニル、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹
脂：エポキシ樹脂：およびポリカーボネート樹脂、アモ
ルファスポリオレフィン、ポリエステルを挙げることが
できる。これらのうちで寸度安定性、透明性および平面
性などの点から、好ましいものは、ポリメチルメタクリ
レート、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、アモル
ファスポリオレフィン、ポリエステルおよびガラスであ
る。なお、これらの材料はフィルム状としてまたは剛性
のある基板として使うことができる。
【００４６】ビスアゾ化合物（１）を使用する際、膜厚
は１００Å〜５μｍ、好ましくは１０００Å〜３μｍで
ある。成膜法としては真空蒸着法、スパッタリング法、
ドクターブレード法、キャスト法、スピナー法、浸漬法
など一般に行われている薄膜形成法で成膜することがで
きる。また、必要に応じてバインダーを使用することも
できる。バインダーとしてはＰＶＡ、ＰＶＰ、ニトロセ
ルロース、酢酸セルロース、ポリビニルブチラール、ポ
リカーボネートなど既知のものが用いられ、樹脂に対す
るビスアゾ化合物（Ｉ）の量は、重量比で０．０１以上
あることが望ましい。スピナー法により成膜の場合、回
転数は５００〜５０００ｒｐｍが好ましく、スピンコー
トの後、場合によっては、加熱あるいは溶媒蒸気にあて
る等の処理を行ってもよい。
は１００Å〜５μｍ、好ましくは１０００Å〜３μｍで
ある。成膜法としては真空蒸着法、スパッタリング法、
ドクターブレード法、キャスト法、スピナー法、浸漬法
など一般に行われている薄膜形成法で成膜することがで
きる。また、必要に応じてバインダーを使用することも
できる。バインダーとしてはＰＶＡ、ＰＶＰ、ニトロセ
ルロース、酢酸セルロース、ポリビニルブチラール、ポ
リカーボネートなど既知のものが用いられ、樹脂に対す
るビスアゾ化合物（Ｉ）の量は、重量比で０．０１以上
あることが望ましい。スピナー法により成膜の場合、回
転数は５００〜５０００ｒｐｍが好ましく、スピンコー
トの後、場合によっては、加熱あるいは溶媒蒸気にあて
る等の処理を行ってもよい。
【００４７】ドクターブレード法、キャスト法、スピナ
ー法、浸漬法、特にスピナー法等の塗布方法により記録
層を形成する場合の塗布溶媒としては、テトラクロロエ
タン、ブロモホルム、ジブロモエタン、エチルセロソル
ブ、キシレン、クロロベンゼン、クロロホルム、トルエ
ン、アセトン、エチレンジアミン、ピリジン等が好適に
使用される。
ー法、浸漬法、特にスピナー法等の塗布方法により記録
層を形成する場合の塗布溶媒としては、テトラクロロエ
タン、ブロモホルム、ジブロモエタン、エチルセロソル
ブ、キシレン、クロロベンゼン、クロロホルム、トルエ
ン、アセトン、エチレンジアミン、ピリジン等が好適に
使用される。
【００４８】本発明のビスアゾ化合物は溶解性に優れて
おり、分子吸光係数、反射率が大きいことから光記録用
媒体としてばかりでなく、インキ、フィルター、光シャ
ッター、光電変換素子、光変調素子、空間変調素子とし
て好適に使用することができる。
おり、分子吸光係数、反射率が大きいことから光記録用
媒体としてばかりでなく、インキ、フィルター、光シャ
ッター、光電変換素子、光変調素子、空間変調素子とし
て好適に使用することができる。
【００４９】
【実施例】以下に本発明を実施例によって説明するが、
これにより本発明が限定されるものではない。
これにより本発明が限定されるものではない。
【００５０】実施例１［ビス（ジアゾニウム）塩の製
造］ Ｎ，Ｎ−ビス（４’−アミノフェニル−４−イル）−Ｐ
−シアノアニリン７．８５ｇ（０．０２６ｍｏｌ）を濃
塩酸５０ｍｌ及び水５０ｍｌからなる希塩酸に加え７０
℃で撹拌した。−５℃まで冷却した後、亜硝酸ナトリウ
ム３．９６ｇ（０．０５７ｍｏｌ）を水１５ｍｌに溶解
した溶液を−５℃から−８℃でゆっくり滴下した。その
後同温度で２時間撹拌した。この溶液に四フッ化ホウ素
ナトリウム１２．６０ｇ（０．１１５ｍｏｌ）を水２０
ｍｌに溶解した溶液を−２℃からー５℃で滴下した。析
出した結晶を濾取、暗所で乾燥して黄色のビス（ジアゾ
ニウム）塩１１．３３ｇ（収率９１％）を得た。
造］ Ｎ，Ｎ−ビス（４’−アミノフェニル−４−イル）−Ｐ
−シアノアニリン７．８５ｇ（０．０２６ｍｏｌ）を濃
塩酸５０ｍｌ及び水５０ｍｌからなる希塩酸に加え７０
℃で撹拌した。−５℃まで冷却した後、亜硝酸ナトリウ
ム３．９６ｇ（０．０５７ｍｏｌ）を水１５ｍｌに溶解
した溶液を−５℃から−８℃でゆっくり滴下した。その
後同温度で２時間撹拌した。この溶液に四フッ化ホウ素
ナトリウム１２．６０ｇ（０．１１５ｍｏｌ）を水２０
ｍｌに溶解した溶液を−２℃からー５℃で滴下した。析
出した結晶を濾取、暗所で乾燥して黄色のビス（ジアゾ
ニウム）塩１１．３３ｇ（収率９１％）を得た。
【００５１】このものの赤外線吸収スペクトルを図１に
示す。２２３８ｃｍ-1にジアゾニウム塩の伸縮振動に基
づく吸収が認められた。
示す。２２３８ｃｍ-1にジアゾニウム塩の伸縮振動に基
づく吸収が認められた。
【００５２】実施例２（化合物Ｎo.１のビスアゾ化合物
の製造） β−ナフトール１．８８ｇ（０．０１３ｍｏｌ）をＤＭ
Ｆ１００ｍｌに溶解し、これに実施例１で得られたビス
（ジアゾニウム）塩２．５０ｇ（０．００５０ｍｏｌ）
を加えた後、酢酸ナトリウム２．１０ｇを水１０ｍｌに
溶解した溶液を室温で２０分に亘って滴下反応させた。
次に同温度で２時間撹拌した後、反応混合物を氷にそそ
ぎ、さらに１時間撹拌して析出した結晶を炉別した。こ
の結晶をトルエン１００ｍｌで再結晶し、得られた結晶
を減圧下加熱乾燥して化合物Ｎo.１のビスアゾ化合物を
緑色粉末として１．８４ｇ（収率６０％）を得た。この
ものの赤外吸収スペクトルを図２に示す。
の製造） β−ナフトール１．８８ｇ（０．０１３ｍｏｌ）をＤＭ
Ｆ１００ｍｌに溶解し、これに実施例１で得られたビス
（ジアゾニウム）塩２．５０ｇ（０．００５０ｍｏｌ）
を加えた後、酢酸ナトリウム２．１０ｇを水１０ｍｌに
溶解した溶液を室温で２０分に亘って滴下反応させた。
次に同温度で２時間撹拌した後、反応混合物を氷にそそ
ぎ、さらに１時間撹拌して析出した結晶を炉別した。こ
の結晶をトルエン１００ｍｌで再結晶し、得られた結晶
を減圧下加熱乾燥して化合物Ｎo.１のビスアゾ化合物を
緑色粉末として１．８４ｇ（収率６０％）を得た。この
ものの赤外吸収スペクトルを図２に示す。
【００５３】実施例３〜１２（化合物Ｎo.２〜１１のビ
スアゾ化合物の製造） 化合物Ｎo.２〜１１に対応するカップラーを用いて、実
施例２のビスアゾ化合物（化合物Ｎo.１）の製造法と同
様にして夫々化合物２〜１１を製造した。これらのもの
の融点あるいは分解点、元素分析結果、及び吸収極大波
長、分子吸光係数は表１、表２、表３、表４に示したと
おりである。
スアゾ化合物の製造） 化合物Ｎo.２〜１１に対応するカップラーを用いて、実
施例２のビスアゾ化合物（化合物Ｎo.１）の製造法と同
様にして夫々化合物２〜１１を製造した。これらのもの
の融点あるいは分解点、元素分析結果、及び吸収極大波
長、分子吸光係数は表１、表２、表３、表４に示したと
おりである。
【００５４】
【表１】
【００５５】
【表２】
【００５６】
【表３】
【００５７】
【表４】
【００５８】
【発明の効果】本発明のビスアゾ化合物は溶解性に優
れ、しかも吸光係数、反射率が大きいことから、光記録
媒体として有用である。
れ、しかも吸光係数、反射率が大きいことから、光記録
媒体として有用である。
第１図は本発明のビスアゾ化合物を製造するための中間
体であるビス（ジアゾニウム）塩（実施例１）の赤外線
吸収スペクトル（ＫＢｒ法）である。第２図および第３
図は夫々本発明に係る化合物Ｎo.１およびＮo.２のビス
アゾ化合物の赤外線吸収スペクトル（ＫＢｒ法）であ
る。
体であるビス（ジアゾニウム）塩（実施例１）の赤外線
吸収スペクトル（ＫＢｒ法）である。第２図および第３
図は夫々本発明に係る化合物Ｎo.１およびＮo.２のビス
アゾ化合物の赤外線吸収スペクトル（ＫＢｒ法）であ
る。
【図１】本発明のビスアゾ化合物の中間体であるビス
（ジアゾニウム）塩（実施例１）の赤外線吸収スペクト
ル（ＫＢｒ法）。
（ジアゾニウム）塩（実施例１）の赤外線吸収スペクト
ル（ＫＢｒ法）。
【図２】本発明のビスアゾ化合物Ｎo.１の赤外線吸収ス
ペクトル（ＫＢｒ法）。
ペクトル（ＫＢｒ法）。
【図３】本発明のビスアゾ化合物Ｎo.２の赤外線吸収ス
ペクトル（ＫＢｒ法）。
ペクトル（ＫＢｒ法）。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所
Ｃ０７Ｃ 255/65 8519−4Ｈ
309/45 9160−4Ｈ
Ｃ０７Ｄ 213/77 6701−4Ｃ
213/85 6701−4Ｃ
231/46 6701−4Ｃ
Ｃ０９Ｂ 35/24 7306−4Ｈ
// Ｂ４１Ｍ 5/26
Ｃ０９Ｋ 9/02 Ｂ 8930−4Ｈ
Ｇ１１Ｂ 7/24 ５１６ 7215−5Ｄ
Ｇ１１Ｃ 13/04 2116−5Ｌ
Claims (4)
- 【請求項１】 下記一般式（１）で示されるビスアゾ化
合物。 【化１】 （式中、Ｒは水素原子、置換あるいは無置換のアルキル
基、置換あるいは無置換のアリール基、置換あるいは無
置換の複素環、置換あるいは無置換のアルコキシ基、ニ
トロ基、シアノ基、塩素原子、臭素原子を表わし、ｎは
１、２又は３、Ｃｐはカップリング成分の残基を表わ
す） - 【請求項２】 下記一般式（２）で表わされるビスジア
ゾニウム塩。 【化２】 （式中、Ｒは水素原子、置換あるいは無置換のアルキル
基、置換あるいは無置換のアリール基、置換あるいは無
置換の複素環、置換あるいは無置換のアルコキシ基、ニ
トロ基、シアノ基、塩素原子、臭素原子を表わし、ｎは
１、２又は３、Ｘ￣はアニオン官能基を表わす） - 【請求項３】 下記一般式（２）で表わされるビス（ジ
アゾニウム）塩と、カップラーとをカップリング反応さ
せることを特徴とする下記一般式（１）で示されるビス
アゾ化合物の製造方法。 【化３】 （式中、Ｒは水素原子、置換あるいは無置換のアルキル
基、置換あるいは無置換のアリール基、置換あるいは無
置換の複素環、置換あるいは無置換のアルコキシ基、ニ
トロ基、シアノ基、塩素原子、臭素原子を表わし、ｎは
１、２又は３、Ｘ￣はアニオン官能基を表わす） 【化４】 （式中、Ｒは水素原子、置換あるいは無置換のアルキル
基、置換あるいは無置換のアリール基、置換あるいは無
置換の複素環、置換あるいは無置換のアルコキシ基、ニ
トロ基、シアノ基、塩素原子、臭素原子を表わし、ｎは
１、２又は３、Ｃｐはカップリング成分の残基を表わ
す） - 【請求項４】 下記一般式（３）で示されるジアミノ化
合物をジアゾ化することを特徴とする下記一般式（２）
で示されるビス（ジアゾニウム）塩の製造方法。 【化５】 （式中、Ｒは水素原子、置換あるいは無置換のアルキル
基、置換あるいは無置換のアリール基、置換あるいは無
置換の複素環、置換あるいは無置換のアルコキシ基、ニ
トロ基、シアノ基、塩素原子、臭素原子を表わし、ｎは
１、２又は３、Ｘ￣はアニオン官能基を表わす） 【化６】 （式中、Ｒは水素原子、置換あるいは無置換のアルキル
基、置換あるいは無置換のアリール基、置換あるいは無
置換の複素環、置換あるいは無置換のアルコキシ基、ニ
トロ基、シアノ基、塩素原子、臭素原子を表わし、ｎは
１、２又は３、Ｘ￣はアニオン官能基を表わす）
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3186306A JPH0525400A (ja) | 1991-07-25 | 1991-07-25 | 新規なビスアゾ化合物、ビス（ジアゾニウム）塩及びそれらの製造方法 |
| US07/919,593 US5312906A (en) | 1991-07-25 | 1992-07-24 | Optical information recording media and bisazo compounds for use therein |
| US08/185,778 US5441844A (en) | 1991-07-25 | 1994-01-24 | Optical information recording medium using bisazo or trisazo compounds |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3186306A JPH0525400A (ja) | 1991-07-25 | 1991-07-25 | 新規なビスアゾ化合物、ビス（ジアゾニウム）塩及びそれらの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0525400A true JPH0525400A (ja) | 1993-02-02 |
Family
ID=16186022
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3186306A Pending JPH0525400A (ja) | 1991-07-25 | 1991-07-25 | 新規なビスアゾ化合物、ビス（ジアゾニウム）塩及びそれらの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0525400A (ja) |
-
1991
- 1991-07-25 JP JP3186306A patent/JPH0525400A/ja active Pending
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