JPH0525694A - 真空機器用アルミニウム又はアルミニウム合金材の製造法 - Google Patents
真空機器用アルミニウム又はアルミニウム合金材の製造法Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 真空環境下でのガス放出量が極めて少なく、
かつ、耐食性に優れた真空機器用アルミニウム合金材を
提供することである。 【構成】 アルミニウム又はアルミニウム合金材を皮膜
溶解性の低い電解質溶液中で定電流電解処理を行い、そ
の後前記定電流電解処理時の電圧より高い電圧での定電
圧電解処理を行う真空機器用アルミニウム又はアルミニ
ウム合金材の製造法。
かつ、耐食性に優れた真空機器用アルミニウム合金材を
提供することである。 【構成】 アルミニウム又はアルミニウム合金材を皮膜
溶解性の低い電解質溶液中で定電流電解処理を行い、そ
の後前記定電流電解処理時の電圧より高い電圧での定電
圧電解処理を行う真空機器用アルミニウム又はアルミニ
ウム合金材の製造法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばＭＢＥ装置、ド
ライエッチング装置、ＣＶＤ装置、イオンプレーティン
グ装置、プラズマＣＶＤ装置、スパッタリング装置のよ
うな半導体製造装置あるいは薄膜形成装置のような真空
機器における真空チャンバーの表面材として利用される
真空機器用アルミニウム又はアルミニウム合金材の製造
法に関するものである。
ライエッチング装置、ＣＶＤ装置、イオンプレーティン
グ装置、プラズマＣＶＤ装置、スパッタリング装置のよ
うな半導体製造装置あるいは薄膜形成装置のような真空
機器における真空チャンバーの表面材として利用される
真空機器用アルミニウム又はアルミニウム合金材の製造
法に関するものである。
【０００２】
【発明の背景】真空機器における真空チャンバーの表面
材としてステンレス鋼製のものが広く用いられて来たも
のの、ステンレス鋼材は重量があること、熱伝導性が悪
いこと、表面からのガス放出度が高いこと等から、アル
ミニウム又はアルミニウム合金（以下、アルミニウム合
金）材を使用することが試みられている。
材としてステンレス鋼製のものが広く用いられて来たも
のの、ステンレス鋼材は重量があること、熱伝導性が悪
いこと、表面からのガス放出度が高いこと等から、アル
ミニウム又はアルミニウム合金（以下、アルミニウム合
金）材を使用することが試みられている。
【０００３】ところで、アルミニウム合金材は、ＭＢＥ
装置でＧａＡｓなどの半導体膜を形成する場合、あるい
は塩素などのエッチングガスが用いられる場合、腐食す
る問題が有り、この問題点を解決する為に、硫酸電解液
中で陽極酸化処理を施して陽極酸化皮膜を形成しておく
ことが提案されている。しかしながら、この技術は、真
空機器用アルミニウム合金材に加熱脱ガス処理をする場
合に、陽極酸化皮膜にクラックを引き起こし、耐食性が
低下する問題が有り、又、陽極酸化皮膜に吸着している
水分が多いことから、真空室内でのガス放出が多いこと
になり、高真空度達成の目的が充分に発揮できにくい問
題がある。
装置でＧａＡｓなどの半導体膜を形成する場合、あるい
は塩素などのエッチングガスが用いられる場合、腐食す
る問題が有り、この問題点を解決する為に、硫酸電解液
中で陽極酸化処理を施して陽極酸化皮膜を形成しておく
ことが提案されている。しかしながら、この技術は、真
空機器用アルミニウム合金材に加熱脱ガス処理をする場
合に、陽極酸化皮膜にクラックを引き起こし、耐食性が
低下する問題が有り、又、陽極酸化皮膜に吸着している
水分が多いことから、真空室内でのガス放出が多いこと
になり、高真空度達成の目的が充分に発揮できにくい問
題がある。
【０００４】そこで、このような問題点を解決する為の
手段として、０．０５〜４重量％の銅を含有するアルミ
ニウム合金材を所定形状のものに成形加工し、これをシ
ュウ酸電解液中で陽極酸化処理して表面に陽極酸化皮膜
を形成した後、引き続き同一シュウ酸電解液中で電圧を
前の電圧値から急激に降下させて５〜５０Ｖで定電圧電
解処理することを特徴とする真空用アルミニウム合金材
の製造方法が提案（特開平３−７２０９８号公報）され
ている。
手段として、０．０５〜４重量％の銅を含有するアルミ
ニウム合金材を所定形状のものに成形加工し、これをシ
ュウ酸電解液中で陽極酸化処理して表面に陽極酸化皮膜
を形成した後、引き続き同一シュウ酸電解液中で電圧を
前の電圧値から急激に降下させて５〜５０Ｖで定電圧電
解処理することを特徴とする真空用アルミニウム合金材
の製造方法が提案（特開平３−７２０９８号公報）され
ている。
【０００５】しかしながら、この提案のものでも充分な
ものではなく、さらなる改善が求められている。
ものではなく、さらなる改善が求められている。
【０００６】
【発明の開示】本発明の目的は、真空環境下でのガス放
出量が極めて少なく、かつ、耐食性に優れた真空機器用
アルミニウム合金材を提供することである。この本発明
の目的は、アルミニウム又はアルミニウム合金材を皮膜
溶解性の低い電解質溶液中で定電流電解処理を行い、そ
の後前記定電流電解処理時の電圧より高い電圧での定電
圧電解処理を行うことを特徴とする真空機器用アルミニ
ウム又はアルミニウム合金材の製造法によって達成され
る。
出量が極めて少なく、かつ、耐食性に優れた真空機器用
アルミニウム合金材を提供することである。この本発明
の目的は、アルミニウム又はアルミニウム合金材を皮膜
溶解性の低い電解質溶液中で定電流電解処理を行い、そ
の後前記定電流電解処理時の電圧より高い電圧での定電
圧電解処理を行うことを特徴とする真空機器用アルミニ
ウム又はアルミニウム合金材の製造法によって達成され
る。
【０００７】又、アルミニウム又はアルミニウム合金材
を皮膜溶解性の低い電解質溶液中で定電流電解処理を行
い、その後前記定電流電解処理時の電圧より高い電圧で
の定電圧電解処理を所定時間行い、中断後、再度定電圧
電解処理を所定時間行うことを特徴とする真空機器用ア
ルミニウム又はアルミニウム合金材の製造法によって達
成される。
を皮膜溶解性の低い電解質溶液中で定電流電解処理を行
い、その後前記定電流電解処理時の電圧より高い電圧で
の定電圧電解処理を所定時間行い、中断後、再度定電圧
電解処理を所定時間行うことを特徴とする真空機器用ア
ルミニウム又はアルミニウム合金材の製造法によって達
成される。
【０００８】又、アルミニウム又はアルミニウム合金材
を皮膜溶解性の低い電解質溶液中で定電流電解処理を行
い、その後前記定電流電解処理時の電圧より高い電圧で
の定電圧電解処理を行い、その後熱処理することを特徴
とする真空機器用アルミニウム又はアルミニウム合金材
の製造法によって達成される。又、アルミニウム又はア
ルミニウム合金材をベーマイト処理した後、皮膜溶解性
の低い電解質溶液中で定電流電解処理を行い、その後前
記定電流電解処理時の電圧より高い電圧での定電圧電解
処理を行うことを特徴とする真空機器用アルミニウム又
はアルミニウム合金材の製造法によって達成される。
を皮膜溶解性の低い電解質溶液中で定電流電解処理を行
い、その後前記定電流電解処理時の電圧より高い電圧で
の定電圧電解処理を行い、その後熱処理することを特徴
とする真空機器用アルミニウム又はアルミニウム合金材
の製造法によって達成される。又、アルミニウム又はア
ルミニウム合金材をベーマイト処理した後、皮膜溶解性
の低い電解質溶液中で定電流電解処理を行い、その後前
記定電流電解処理時の電圧より高い電圧での定電圧電解
処理を行うことを特徴とする真空機器用アルミニウム又
はアルミニウム合金材の製造法によって達成される。
【０００９】尚、皮膜溶解性の低い電解質溶液として
は、アジピン酸塩、ホウ酸、ホウ酸塩、リン酸塩、フタ
ル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン
酸塩の群の中から選ばれる少なくとも一つを含むもので
あることが好ましい。耐食性の観点から選ぶと、フタル
酸塩やアジピン酸塩は好ましいものである。電流効率の
観点から選ぶと、ホウ酸やホウ酸塩は好ましいものであ
る。
は、アジピン酸塩、ホウ酸、ホウ酸塩、リン酸塩、フタ
ル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン
酸塩の群の中から選ばれる少なくとも一つを含むもので
あることが好ましい。耐食性の観点から選ぶと、フタル
酸塩やアジピン酸塩は好ましいものである。電流効率の
観点から選ぶと、ホウ酸やホウ酸塩は好ましいものであ
る。
【００１０】以下、本発明をさらに詳しく説明する。本
発明において用いられるアルミニウム合金材としては、
格別なる制限はないが、例えば２０１４，２０２４，２
０１７，５０５２，５０８３，６０６１，６０６３，７
Ｎ０１，７０７５等が好ましく用いられる。そして、こ
のようなアルミニウム合金材を、先ず、表面の油成分及
び酸化皮膜を除去する為に界面活性剤あるいは弱エッチ
ング性脱脂剤で脱脂といった前処理を行う。
発明において用いられるアルミニウム合金材としては、
格別なる制限はないが、例えば２０１４，２０２４，２
０１７，５０５２，５０８３，６０６１，６０６３，７
Ｎ０１，７０７５等が好ましく用いられる。そして、こ
のようなアルミニウム合金材を、先ず、表面の油成分及
び酸化皮膜を除去する為に界面活性剤あるいは弱エッチ
ング性脱脂剤で脱脂といった前処理を行う。
【００１１】この後、アルミニウム合金材を皮膜溶解性
の低い電解質溶液中で電解を行い、陽極酸化皮膜を形成
する。この電解操作は二段階で行うことが極めて大事で
ある。すなわち、先ず定電流電解処理を行い、その後定
電流電解処理時の電圧より高い電圧での定電圧電解処理
を行う。この定電流電解処理時の条件は、電解質濃度が
好ましくは１．０〜２００ｇ／ｌであることが、電解液
の温度が好ましくは１０〜１００℃、より好ましくは２
０〜５０℃であることが、そして定電流電解の電流密度
が好ましくは０．５〜３Ａ／ｄｍ2 、より好ましくは１
〜２Ａ／ｄｍ2 であることが、そしてこの定電流電解で
電圧が所定の値（１５０〜２０００Ｖ）まで上昇した
後、この電圧に保持して定電圧電解処理を行う。定電圧
電解処理時の条件は、電解質溶液や温度については定電
流電解処理時のままで良く、そして定電圧電解の電圧が
好ましくは１５０〜２０００Ｖ、より好ましくは５００
〜１５００Ｖであることが、時間が好ましくは５〜３０
分、より好ましくは１０〜２０分である。例えば、電解
質濃度が１．０ｇ／ｌ未満の薄すぎる場合には、形成し
た皮膜にミクロ的な欠陥が生じ、耐食性や絶縁性が劣る
傾向が有り、逆に、２００ｇ／ｌを越えて濃すぎる場合
には、皮膜の絶縁破壊により５００Ｖを越える電圧での
電解処理が困難になる傾向が有り、電解質濃度は１．０
〜２００ｇ／ｌであることが好ましい。電解液の温度が
１０℃未満の低すぎる場合には、皮膜の絶縁性が低下す
る傾向が有り、逆に、１００℃を越えて高すぎる場合に
は、皮膜が多孔質化し、ガス放出量が増加する傾向が有
り、又、圧力容器も必要になることから、電解温度は１
０〜１００℃であることが好ましい。定電流電解の電流
密度が０．５Ａ／ｄｍ2 未満の小さすぎる場合には、電
解時間が長く要り、皮膜が多孔質化し、ガス放出量が増
加する傾向が有り、逆に、３Ａ／ｄｍ2 を越えて大きす
ぎる場合には、皮膜焼けが発生し、耐食性が低下する傾
向が有り、定電流電解の電流密度は０．５〜３Ａ／ｄｍ
2 であることが好ましい。定電圧電解の電圧が１５０Ｖ
未満の小さすぎる場合には、ガス放出性の改善度が乏し
く、逆に、２０００Ｖを越えて大きすぎる場合には、皮
膜が絶縁破壊される傾向が有り、電解電圧は１５０〜２
０００Ｖであることが好ましい。定電圧電解の時間が５
分未満の短すぎる場合には、皮膜に欠陥が多く残り、耐
食性や絶縁性が劣る傾向が有り、逆に、３０分を越えて
長すぎる場合には、耐食性や絶縁性は充分であるもの
の、ガス放出量が増加する傾向が有り、定電圧電解の時
間は５〜３０分であることが好ましい。
の低い電解質溶液中で電解を行い、陽極酸化皮膜を形成
する。この電解操作は二段階で行うことが極めて大事で
ある。すなわち、先ず定電流電解処理を行い、その後定
電流電解処理時の電圧より高い電圧での定電圧電解処理
を行う。この定電流電解処理時の条件は、電解質濃度が
好ましくは１．０〜２００ｇ／ｌであることが、電解液
の温度が好ましくは１０〜１００℃、より好ましくは２
０〜５０℃であることが、そして定電流電解の電流密度
が好ましくは０．５〜３Ａ／ｄｍ2 、より好ましくは１
〜２Ａ／ｄｍ2 であることが、そしてこの定電流電解で
電圧が所定の値（１５０〜２０００Ｖ）まで上昇した
後、この電圧に保持して定電圧電解処理を行う。定電圧
電解処理時の条件は、電解質溶液や温度については定電
流電解処理時のままで良く、そして定電圧電解の電圧が
好ましくは１５０〜２０００Ｖ、より好ましくは５００
〜１５００Ｖであることが、時間が好ましくは５〜３０
分、より好ましくは１０〜２０分である。例えば、電解
質濃度が１．０ｇ／ｌ未満の薄すぎる場合には、形成し
た皮膜にミクロ的な欠陥が生じ、耐食性や絶縁性が劣る
傾向が有り、逆に、２００ｇ／ｌを越えて濃すぎる場合
には、皮膜の絶縁破壊により５００Ｖを越える電圧での
電解処理が困難になる傾向が有り、電解質濃度は１．０
〜２００ｇ／ｌであることが好ましい。電解液の温度が
１０℃未満の低すぎる場合には、皮膜の絶縁性が低下す
る傾向が有り、逆に、１００℃を越えて高すぎる場合に
は、皮膜が多孔質化し、ガス放出量が増加する傾向が有
り、又、圧力容器も必要になることから、電解温度は１
０〜１００℃であることが好ましい。定電流電解の電流
密度が０．５Ａ／ｄｍ2 未満の小さすぎる場合には、電
解時間が長く要り、皮膜が多孔質化し、ガス放出量が増
加する傾向が有り、逆に、３Ａ／ｄｍ2 を越えて大きす
ぎる場合には、皮膜焼けが発生し、耐食性が低下する傾
向が有り、定電流電解の電流密度は０．５〜３Ａ／ｄｍ
2 であることが好ましい。定電圧電解の電圧が１５０Ｖ
未満の小さすぎる場合には、ガス放出性の改善度が乏し
く、逆に、２０００Ｖを越えて大きすぎる場合には、皮
膜が絶縁破壊される傾向が有り、電解電圧は１５０〜２
０００Ｖであることが好ましい。定電圧電解の時間が５
分未満の短すぎる場合には、皮膜に欠陥が多く残り、耐
食性や絶縁性が劣る傾向が有り、逆に、３０分を越えて
長すぎる場合には、耐食性や絶縁性は充分であるもの
の、ガス放出量が増加する傾向が有り、定電圧電解の時
間は５〜３０分であることが好ましい。
【００１２】そして、上記のような条件の下で電解処理
を行うことにより、真空機器内面に要求される耐食性、
耐摩耗性や絶縁性に優れ、さらにはガス放出量が極めて
少ないバリヤー型陽極酸化皮膜が約０．１〜２．１μｍ
厚形成され、真空機器用アルミニウム合金材として好適
なものが得られる。上記のような電解処理によるバリヤ
ー型陽極酸化皮膜の形成のみでもガス放出量が極めて少
なく、かつ、耐食性に優れたものとなるが、より一層の
耐食性の向上を図るには、定電流電解処理の後に行う高
電圧での定電圧電解処理を何回かに分けて行ったり、す
なわち定電圧電解処理−中断−定電圧電解処理のように
して高電圧での定電圧電解処理を繰り返して行ったり、
高電圧での定電圧電解処理の後に熱処理（１５０〜４０
０℃、０．５〜８時間）したり、アルミニウム合金材を
ベーマイト処理（例えば、１００℃の純水中に浸漬）し
た後、定電流電解処理及び高電圧での定電圧電解処理を
行うといった技術を実施することが好ましい。
を行うことにより、真空機器内面に要求される耐食性、
耐摩耗性や絶縁性に優れ、さらにはガス放出量が極めて
少ないバリヤー型陽極酸化皮膜が約０．１〜２．１μｍ
厚形成され、真空機器用アルミニウム合金材として好適
なものが得られる。上記のような電解処理によるバリヤ
ー型陽極酸化皮膜の形成のみでもガス放出量が極めて少
なく、かつ、耐食性に優れたものとなるが、より一層の
耐食性の向上を図るには、定電流電解処理の後に行う高
電圧での定電圧電解処理を何回かに分けて行ったり、す
なわち定電圧電解処理−中断−定電圧電解処理のように
して高電圧での定電圧電解処理を繰り返して行ったり、
高電圧での定電圧電解処理の後に熱処理（１５０〜４０
０℃、０．５〜８時間）したり、アルミニウム合金材を
ベーマイト処理（例えば、１００℃の純水中に浸漬）し
た後、定電流電解処理及び高電圧での定電圧電解処理を
行うといった技術を実施することが好ましい。
【００１３】
〔実施例１〕厚さ０．２ｍｍのアルミニウム合金材（１
２００合金）を界面活性剤あるいは弱エッチング性脱脂
剤で脱脂した後、ホウ酸（１６ｇ／ｌ）水溶液中で、２
０℃、２Ａ／ｄｍ2 の条件で定電流電解処理を２分間行
い、その後引き続き１０００Ｖの条件で定電圧電解処理
を１５分間行った。
２００合金）を界面活性剤あるいは弱エッチング性脱脂
剤で脱脂した後、ホウ酸（１６ｇ／ｌ）水溶液中で、２
０℃、２Ａ／ｄｍ2 の条件で定電流電解処理を２分間行
い、その後引き続き１０００Ｖの条件で定電圧電解処理
を１５分間行った。
【００１４】〔実施例２〕厚さ０．２ｍｍのアルミニウ
ム合金材（１２００合金）を界面活性剤あるいは弱エッ
チング性脱脂剤で脱脂した後、リン酸アンモニウム
（１．４ｇ／ｌ）水溶液中で、５０℃、２Ａ／ｄｍ2 の
条件で定電流電解処理を１分間行い、その後引き続き２
３０Ｖの条件で定電圧電解処理を１５分間行った。
ム合金材（１２００合金）を界面活性剤あるいは弱エッ
チング性脱脂剤で脱脂した後、リン酸アンモニウム
（１．４ｇ／ｌ）水溶液中で、５０℃、２Ａ／ｄｍ2 の
条件で定電流電解処理を１分間行い、その後引き続き２
３０Ｖの条件で定電圧電解処理を１５分間行った。
【００１５】〔実施例３〕厚さ０．２ｍｍのアルミニウ
ム合金材（１２００合金）を界面活性剤あるいは弱エッ
チング性脱脂剤で脱脂した後、フタル酸カリウム（２０
ｇ／ｌ）水溶液中で、５０℃、２Ａ／ｄｍ2 の条件で定
電流電解処理を１分間行い、その後引き続き２３０Ｖの
条件で定電圧電解処理を１５分間行った。
ム合金材（１２００合金）を界面活性剤あるいは弱エッ
チング性脱脂剤で脱脂した後、フタル酸カリウム（２０
ｇ／ｌ）水溶液中で、５０℃、２Ａ／ｄｍ2 の条件で定
電流電解処理を１分間行い、その後引き続き２３０Ｖの
条件で定電圧電解処理を１５分間行った。
【００１６】〔実施例４〕厚さ０．２ｍｍのアルミニウ
ム合金材（１２００合金）を界面活性剤あるいは弱エッ
チング性脱脂剤で脱脂した後、ホウ酸アンモニウム（１
００ｇ／ｌ）水溶液中で、５０℃、２Ａ／ｄｍ2 の条件
で定電流電解処理を２．５分間行い、その後引き続き３
００Ｖの条件で定電圧電解処理を１５分間行った。
ム合金材（１２００合金）を界面活性剤あるいは弱エッ
チング性脱脂剤で脱脂した後、ホウ酸アンモニウム（１
００ｇ／ｌ）水溶液中で、５０℃、２Ａ／ｄｍ2 の条件
で定電流電解処理を２．５分間行い、その後引き続き３
００Ｖの条件で定電圧電解処理を１５分間行った。
【００１７】〔実施例５〕厚さ０．２ｍｍのアルミニウ
ム合金材（１２００合金）を界面活性剤あるいは弱エッ
チング性脱脂剤で脱脂した後、アジピン酸アンモニウム
（１５０ｇ／ｌ）水溶液中で、５０℃、２Ａ／ｄｍ2 の
条件で定電流電解処理を２分間行い、その後引き続き２
００Ｖの条件で定電圧電解処理を１０分間行った。
ム合金材（１２００合金）を界面活性剤あるいは弱エッ
チング性脱脂剤で脱脂した後、アジピン酸アンモニウム
（１５０ｇ／ｌ）水溶液中で、５０℃、２Ａ／ｄｍ2 の
条件で定電流電解処理を２分間行い、その後引き続き２
００Ｖの条件で定電圧電解処理を１０分間行った。
【００１８】〔実施例６〕厚さ０．２ｍｍのアルミニウ
ム合金材（１２００合金）を界面活性剤あるいは弱エッ
チング性脱脂剤で脱脂した後、シュウ酸塩（１５ｇ／
ｌ）水溶液中で、３０℃、１．５Ａ／ｄｍ2 の条件で定
電流電解処理を３分間行い、その後引き続き１５０Ｖの
条件で定電圧電解処理を１５分間行った。
ム合金材（１２００合金）を界面活性剤あるいは弱エッ
チング性脱脂剤で脱脂した後、シュウ酸塩（１５ｇ／
ｌ）水溶液中で、３０℃、１．５Ａ／ｄｍ2 の条件で定
電流電解処理を３分間行い、その後引き続き１５０Ｖの
条件で定電圧電解処理を１５分間行った。
【００１９】〔実施例７〕厚さ０．２ｍｍのアルミニウ
ム合金材（１２００合金）を界面活性剤あるいは弱エッ
チング性脱脂剤で脱脂した後、１００℃の純水中に１０
分間浸漬してベーマイト処理した後、アジピン酸アンモ
ニウム（１５０ｇ／ｌ）水溶液中で、５０℃、２Ａ／ｄ
ｍ2 の条件で定電流電解処理を１分間行い、その後引き
続き２００Ｖの条件で定電圧電解処理を１５分間行っ
た。
ム合金材（１２００合金）を界面活性剤あるいは弱エッ
チング性脱脂剤で脱脂した後、１００℃の純水中に１０
分間浸漬してベーマイト処理した後、アジピン酸アンモ
ニウム（１５０ｇ／ｌ）水溶液中で、５０℃、２Ａ／ｄ
ｍ2 の条件で定電流電解処理を１分間行い、その後引き
続き２００Ｖの条件で定電圧電解処理を１５分間行っ
た。
【００２０】〔実施例８〕厚さ０．２ｍｍのアルミニウ
ム合金材（１２００合金）を界面活性剤あるいは弱エッ
チング性脱脂剤で脱脂した後、ホウ酸（１６ｇ／ｌ）水
溶液中で、２０℃、２Ａ／ｄｍ2 の条件で定電流電解処
理を２分間行い、その後引き続き１０００Ｖの条件で定
電圧電解処理を５分間行い、そして６分間中断した後、
１０００Ｖの条件で定電圧電解処理を５分間行い、又、
６分間中断した後に１０００Ｖの条件で定電圧電解処理
を５分間行った。
ム合金材（１２００合金）を界面活性剤あるいは弱エッ
チング性脱脂剤で脱脂した後、ホウ酸（１６ｇ／ｌ）水
溶液中で、２０℃、２Ａ／ｄｍ2 の条件で定電流電解処
理を２分間行い、その後引き続き１０００Ｖの条件で定
電圧電解処理を５分間行い、そして６分間中断した後、
１０００Ｖの条件で定電圧電解処理を５分間行い、又、
６分間中断した後に１０００Ｖの条件で定電圧電解処理
を５分間行った。
【００２１】〔比較例１〕厚さ０．２ｍｍのアルミニウ
ム合金材（１２００合金）を界面活性剤あるいは弱エッ
チング性脱脂剤で脱脂した後、シュウ酸（１５ｇ／ｌ）
水溶液中で、３０℃、１．５Ａ／ｄｍ2 の条件で定電流
電解処理を３分間行い、その後前記定電流電解処理時の
電圧より低い３６Ｖの条件で定電圧電解処理を１５分間
行った。
ム合金材（１２００合金）を界面活性剤あるいは弱エッ
チング性脱脂剤で脱脂した後、シュウ酸（１５ｇ／ｌ）
水溶液中で、３０℃、１．５Ａ／ｄｍ2 の条件で定電流
電解処理を３分間行い、その後前記定電流電解処理時の
電圧より低い３６Ｖの条件で定電圧電解処理を１５分間
行った。
【００２２】
【特性】上記各例で得られたアルミニウム合金材の皮膜
ガス放出量（加熱減量）及び耐食性（ＣＡＳＳ試験８時
間後の孔食深さ、変色の程度）について調べたので、そ
の結果を下記の表１に示す。 この表１によれば、アルミニウム合金材を皮膜溶解性の
低い電解質溶液中で定電流電解処理を行い、その後前記
定電流電解処理時の電圧より高い電圧での定電圧電解処
理を行うと、ガス放出量が少なく、耐食性に優れたアル
ミニウム合金材が得られているのに対して、二段階の電
解処理が行われても、後段の定電圧電解処理時の電解電
圧が低いと、本発明のような特長を奏するアルミニウム
合金材が得られていないことが判る。
ガス放出量（加熱減量）及び耐食性（ＣＡＳＳ試験８時
間後の孔食深さ、変色の程度）について調べたので、そ
の結果を下記の表１に示す。 この表１によれば、アルミニウム合金材を皮膜溶解性の
低い電解質溶液中で定電流電解処理を行い、その後前記
定電流電解処理時の電圧より高い電圧での定電圧電解処
理を行うと、ガス放出量が少なく、耐食性に優れたアル
ミニウム合金材が得られているのに対して、二段階の電
解処理が行われても、後段の定電圧電解処理時の電解電
圧が低いと、本発明のような特長を奏するアルミニウム
合金材が得られていないことが判る。
Claims (5)
- 【請求項１】 アルミニウム又はアルミニウム合金材を
皮膜溶解性の低い電解質溶液中で定電流電解処理を行
い、その後前記定電流電解処理時の電圧より高い電圧で
の定電圧電解処理を行うことを特徴とする真空機器用ア
ルミニウム又はアルミニウム合金材の製造法。 - 【請求項２】 アルミニウム又はアルミニウム合金材を
皮膜溶解性の低い電解質溶液中で定電流電解処理を行
い、その後前記定電流電解処理時の電圧より高い電圧で
の定電圧電解処理を所定時間行い、中断後、再度定電圧
電解処理を所定時間行うことを特徴とする真空機器用ア
ルミニウム又はアルミニウム合金材の製造法。 - 【請求項３】 アルミニウム又はアルミニウム合金材を
皮膜溶解性の低い電解質溶液中で定電流電解処理を行
い、その後前記定電流電解処理時の電圧より高い電圧で
の定電圧電解処理を行い、その後熱処理することを特徴
とする真空機器用アルミニウム又はアルミニウム合金材
の製造法。 - 【請求項４】 アルミニウム又はアルミニウム合金材を
ベーマイト処理した後、皮膜溶解性の低い電解質溶液中
で定電流電解処理を行い、その後前記定電流電解処理時
の電圧より高い電圧での定電圧電解処理を行うことを特
徴とする真空機器用アルミニウム又はアルミニウム合金
材の製造法。 - 【請求項５】 皮膜溶解性の低い電解質溶液がアジピン
酸、ホウ酸、ホウ酸塩、リン酸塩、フタル酸塩、マレイ
ン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩の群の中か
ら選ばれる少なくとも一つを含むものであることを特徴
とする請求項１〜請求項４の真空機器用アルミニウム又
はアルミニウム合金材の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17384391A JP3152960B2 (ja) | 1991-07-15 | 1991-07-15 | 真空機器用アルミニウム又はアルミニウム合金材の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17384391A JP3152960B2 (ja) | 1991-07-15 | 1991-07-15 | 真空機器用アルミニウム又はアルミニウム合金材の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0525694A true JPH0525694A (ja) | 1993-02-02 |
| JP3152960B2 JP3152960B2 (ja) | 2001-04-03 |
Family
ID=15968193
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17384391A Expired - Fee Related JP3152960B2 (ja) | 1991-07-15 | 1991-07-15 | 真空機器用アルミニウム又はアルミニウム合金材の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3152960B2 (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05114582A (ja) * | 1991-10-22 | 1993-05-07 | Tokyo Electron Yamanashi Kk | 真空処理装置 |
| WO1996015295A1 (fr) * | 1994-11-16 | 1996-05-23 | Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho | Chambre a vide en aluminium ou en un alliage de ce metal et traitement de surface et matiere pour la chambre a vide |
| KR100583283B1 (ko) * | 2005-07-13 | 2006-05-26 | 주식회사 브이엠티 | 극고진공용 이온펌프 제작방법 |
| JP2006184822A (ja) * | 2004-12-28 | 2006-07-13 | Shin Etsu Chem Co Ltd | フォトリソグラフィ用ペリクル及びペリクルフレーム |
| WO2006123736A1 (ja) * | 2005-05-18 | 2006-11-23 | Ulvac, Inc. | アルミニウム又はアルミニウム合金の耐食処理方法 |
| JP2008153273A (ja) * | 2006-12-14 | 2008-07-03 | Ulvac Japan Ltd | 真空用冷却部材および真空用機器 |
| JP2008163432A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Mitsubishi Alum Co Ltd | 表面処理アルミニウム材料の製造方法および表面処理アルミニウム材料の製造装置 |
| JP2008240024A (ja) * | 2007-03-26 | 2008-10-09 | Ulvac Japan Ltd | 複合体およびその製造方法 |
| JP2010095774A (ja) * | 2008-10-20 | 2010-04-30 | Mitsubishi Alum Co Ltd | 真空機器用表面処理アルミニウム材の製造方法 |
| JP2012057256A (ja) * | 2005-06-17 | 2012-03-22 | Tohoku Univ | 金属酸化物膜、積層体、金属部材並びにその製造方法 |
| KR20180007237A (ko) * | 2016-07-12 | 2018-01-22 | 에이비엠 주식회사 | 금속부품 및 그 제조 방법 및 금속부품을 구비한 공정챔버 |
-
1991
- 1991-07-15 JP JP17384391A patent/JP3152960B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05114582A (ja) * | 1991-10-22 | 1993-05-07 | Tokyo Electron Yamanashi Kk | 真空処理装置 |
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| WO2006123736A1 (ja) * | 2005-05-18 | 2006-11-23 | Ulvac, Inc. | アルミニウム又はアルミニウム合金の耐食処理方法 |
| JP2006322040A (ja) * | 2005-05-18 | 2006-11-30 | Ulvac Japan Ltd | アルミニウム又はアルミニウム合金の耐食処理方法 |
| US9476137B2 (en) | 2005-06-17 | 2016-10-25 | Tohoku University | Metal oxide film, laminate, metal member and process for producing the same |
| JP2012057256A (ja) * | 2005-06-17 | 2012-03-22 | Tohoku Univ | 金属酸化物膜、積層体、金属部材並びにその製造方法 |
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| JP2008153273A (ja) * | 2006-12-14 | 2008-07-03 | Ulvac Japan Ltd | 真空用冷却部材および真空用機器 |
| JP2008163432A (ja) * | 2006-12-28 | 2008-07-17 | Mitsubishi Alum Co Ltd | 表面処理アルミニウム材料の製造方法および表面処理アルミニウム材料の製造装置 |
| JP2008240024A (ja) * | 2007-03-26 | 2008-10-09 | Ulvac Japan Ltd | 複合体およびその製造方法 |
| JP2010095774A (ja) * | 2008-10-20 | 2010-04-30 | Mitsubishi Alum Co Ltd | 真空機器用表面処理アルミニウム材の製造方法 |
| KR20180007237A (ko) * | 2016-07-12 | 2018-01-22 | 에이비엠 주식회사 | 금속부품 및 그 제조 방법 및 금속부품을 구비한 공정챔버 |
| JP2018021255A (ja) * | 2016-07-12 | 2018-02-08 | エイビーエム カンパニー リミテッドＡｂｍ Ｃｏ．，Ｌｔｄ． | 金属部品及びその製造方法、並びに金属部品を備えるプロセスチャンバー |
| US11417503B2 (en) | 2016-07-12 | 2022-08-16 | Abm Co., Ltd. | Metal component and manufacturing method thereof and process chamber having the metal component |
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