JPH05257080A - 半導体レーザ光学装置 - Google Patents
半導体レーザ光学装置Info
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- JPH05257080A JPH05257080A JP4330586A JP33058692A JPH05257080A JP H05257080 A JPH05257080 A JP H05257080A JP 4330586 A JP4330586 A JP 4330586A JP 33058692 A JP33058692 A JP 33058692A JP H05257080 A JPH05257080 A JP H05257080A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 非点隔差が存在しても感光媒体上で回折限界
程度の良好な結像性能を得ることができる。 【構成】 直交する方向でビームウエスト位置が異なる
半導体レーザからの光束を結像光学系により受光面上に
結像する半導体レーザ光学装置において、前記結像光学
系は、前記半導体レーザからの光束をほぼコリメートす
る対物レンズ、該対物レンズからの光束を受光し前記半
導体レーザの接合面と平行な方向の光束径を拡大するシ
リンドリカルレンズ系、該シリンドリカルレンズ系から
の光束を受光面上に結像する結像レンズ系よりなり、前
記シリンドリカルレンズ系は、前記対物レンズ側より順
にシリンドリカル平凹レンズとシリンドリカル平凸レン
ズより構成される。
程度の良好な結像性能を得ることができる。 【構成】 直交する方向でビームウエスト位置が異なる
半導体レーザからの光束を結像光学系により受光面上に
結像する半導体レーザ光学装置において、前記結像光学
系は、前記半導体レーザからの光束をほぼコリメートす
る対物レンズ、該対物レンズからの光束を受光し前記半
導体レーザの接合面と平行な方向の光束径を拡大するシ
リンドリカルレンズ系、該シリンドリカルレンズ系から
の光束を受光面上に結像する結像レンズ系よりなり、前
記シリンドリカルレンズ系は、前記対物レンズ側より順
にシリンドリカル平凹レンズとシリンドリカル平凸レン
ズより構成される。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は実質上シングルモードを
有する半導体レーザーを光源とする半導体レーザ光学装
置に関するものである。
有する半導体レーザーを光源とする半導体レーザ光学装
置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の光学系は、走査装置に用
いる場合図21に示すように、He−Neレーザーある
いはArレーザーなどレーザー光源1と、このビームを
変調する変調装置2と、変調されたビームを偏向する回
転多面鏡の如き偏向手段3と走査用レンズ4と感光媒体
5とから成っていた。
いる場合図21に示すように、He−Neレーザーある
いはArレーザーなどレーザー光源1と、このビームを
変調する変調装置2と、変調されたビームを偏向する回
転多面鏡の如き偏向手段3と走査用レンズ4と感光媒体
5とから成っていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来のこの装置におい
ては、レーザー光源自体高価なもので、その上、変調装
置も高価なものであった。また、レーザー光源自体大き
いだけでなく、光路中に変調装置を配置するスペースも
200mm〜300mm必要であり、装置全体に対して
レーザー光源と変調装置が占めるスペースの割合は無視
できなかった。
ては、レーザー光源自体高価なもので、その上、変調装
置も高価なものであった。また、レーザー光源自体大き
いだけでなく、光路中に変調装置を配置するスペースも
200mm〜300mm必要であり、装置全体に対して
レーザー光源と変調装置が占めるスペースの割合は無視
できなかった。
【0004】
【課題を解決するための手段】これに対して本発明は、
直接変調が可能な半導体レーザーを光源とする低価格で
コンパクトな記録光学系を従来装置と同程度の性能で達
成し得るものである。
直接変調が可能な半導体レーザーを光源とする低価格で
コンパクトな記録光学系を従来装置と同程度の性能で達
成し得るものである。
【0005】本発明のように半導体レーザーを光源とす
る光学系はRCA Reviewvol.35 Sep
tember 1974 P335〜P340や、RC
AReview vol.36 December 1
975 P744〜P758に掲載されているが、それ
らの文献で扱っているレーザーは電流値の変化に伴って
レーザーのモードが大巾に変化する。これに伴って結像
スポットの大きさも大巾に変化する。このようなマルチ
モードの光源を記録系に使用する場合、良質な画像を得
ることが困難である。
る光学系はRCA Reviewvol.35 Sep
tember 1974 P335〜P340や、RC
AReview vol.36 December 1
975 P744〜P758に掲載されているが、それ
らの文献で扱っているレーザーは電流値の変化に伴って
レーザーのモードが大巾に変化する。これに伴って結像
スポットの大きさも大巾に変化する。このようなマルチ
モードの光源を記録系に使用する場合、良質な画像を得
ることが困難である。
【0006】本発明は上記のようなマルチモードの半導
体レーザーではなく実質上シングルモードの半導体レー
ザーを使用した場合、それに適した比較的簡単な構成の
光学系を用いて良好な結像性能を得、且つ感光媒体上に
必要光量を伝達し得るものである。
体レーザーではなく実質上シングルモードの半導体レー
ザーを使用した場合、それに適した比較的簡単な構成の
光学系を用いて良好な結像性能を得、且つ感光媒体上に
必要光量を伝達し得るものである。
【0007】本発明において使用する半導体レーザー
は、上記文献のような電流値によってモードがマルチ化
せず、常にシングルモードが保持されるいわゆるコヒー
レント光源として扱えるものである。ただ、この半導体
レーザーはその接合面に平行な方向と、垂直な方向と
で、ビームウエスト位置が一般に異なるいわゆる非点隔
差が存在しても感光媒体上に必要な光量を伝達すること
を満足させて、実質上回折限界程度の結像性能を有する
半導体レーザ光学装置を提供するものである。
は、上記文献のような電流値によってモードがマルチ化
せず、常にシングルモードが保持されるいわゆるコヒー
レント光源として扱えるものである。ただ、この半導体
レーザーはその接合面に平行な方向と、垂直な方向と
で、ビームウエスト位置が一般に異なるいわゆる非点隔
差が存在しても感光媒体上に必要な光量を伝達すること
を満足させて、実質上回折限界程度の結像性能を有する
半導体レーザ光学装置を提供するものである。
【0008】
【実施例】図1は本発明において使用する半導体レーザ
ーの光束の放射状況の模式図で6aはレーザーの接合面
に垂直方向の面S内のビームウエスト位置で、6bはレ
ーザーの接合面に平行な面J内のビームウエスト位置で
ある。
ーの光束の放射状況の模式図で6aはレーザーの接合面
に垂直方向の面S内のビームウエスト位置で、6bはレ
ーザーの接合面に平行な面J内のビームウエスト位置で
ある。
【0009】半導体レーザーは高周波で変調することが
可能で、走査系にこれを用いると高速記録が達成される
利点があるので、本発明は走査系について述べる。
可能で、走査系にこれを用いると高速記録が達成される
利点があるので、本発明は走査系について述べる。
【0010】図2は本発明の光学装置を走査系に用いた
配置図で、レーザー7の接合面に垂直面内のビームウエ
スト位置6aと、接合面に平行な面内のビームウエスト
位置6bからの放射される光束を対物レンズ8で受光
し、シリンドリカルレンズ系9によって対物レンズ8か
ら出射する光束を平行化する。また、シリンドリカルレ
ンズ系9はレーザー7の接合面に平行な方向に屈折力を
有し、接合面に垂直方向には屈折力を有しないもので、
接合面に平行方向の光束系を拡大する機能を有する。
配置図で、レーザー7の接合面に垂直面内のビームウエ
スト位置6aと、接合面に平行な面内のビームウエスト
位置6bからの放射される光束を対物レンズ8で受光
し、シリンドリカルレンズ系9によって対物レンズ8か
ら出射する光束を平行化する。また、シリンドリカルレ
ンズ系9はレーザー7の接合面に平行な方向に屈折力を
有し、接合面に垂直方向には屈折力を有しないもので、
接合面に平行方向の光束系を拡大する機能を有する。
【0011】対物レンズ8の焦点はレーザー7の接合面
と垂直方向のビームウエスト位置と一致し、レーザー7
の接合面に平行な面内での対物レンズ8とシリンドリカ
ルレンズ系9の合成系の焦点はレーザーの接合面に平行
な面内のビームウエスト位置に対して回折限界の範囲内
の位置に存在する。
と垂直方向のビームウエスト位置と一致し、レーザー7
の接合面に平行な面内での対物レンズ8とシリンドリカ
ルレンズ系9の合成系の焦点はレーザーの接合面に平行
な面内のビームウエスト位置に対して回折限界の範囲内
の位置に存在する。
【0012】この点に関しさらに詳細に述べる。上記シ
リンドリカルレンズ系9は、レーザー7の接合面に平行
な面内で図3aのような構成で、光束の入射側に負の屈
折力を有し、入射側に凹面を向け、出射側の面は平面で
ある平凹のシリンドリカルレンズ9aと光束の入射側が
平面で、出射側の面が凸面である平凸のシリンドリカル
レンズ9bとから成っている。そして平凹シリンドリカ
ルレンズ9aと平凸シリンドリカルレンズ9bの焦点は
一致し、シリンドリカル平凹レンズ9aに平行光束を入
射させたときシリンドリカル平凸レンズ9bから出射す
る光束は平行となるアフォーカル系である。
リンドリカルレンズ系9は、レーザー7の接合面に平行
な面内で図3aのような構成で、光束の入射側に負の屈
折力を有し、入射側に凹面を向け、出射側の面は平面で
ある平凹のシリンドリカルレンズ9aと光束の入射側が
平面で、出射側の面が凸面である平凸のシリンドリカル
レンズ9bとから成っている。そして平凹シリンドリカ
ルレンズ9aと平凸シリンドリカルレンズ9bの焦点は
一致し、シリンドリカル平凹レンズ9aに平行光束を入
射させたときシリンドリカル平凸レンズ9bから出射す
る光束は平行となるアフォーカル系である。
【0013】レーザーの接合面に垂直な面内では、この
シリンドリカルレンズ系9は図3bのように屈折力をも
たず、入射光束はそのまま出射光束となる。
シリンドリカルレンズ系9は図3bのように屈折力をも
たず、入射光束はそのまま出射光束となる。
【0014】上記のシリンドリカルレンズ系9を出射し
た光束は図2の偏向ミラー10で偏向され走査用レンズ
11によって感光媒体12上に結像される。この感光媒
体12は走査用レンズ11の焦点面近傍に配置する。こ
のとき、前述の直交方向のビームウエスト位置の非点隔
差が図1のようにあるとき、対物レンズ8、シリンドリ
カルレンズ系9及び走査用レンズ11の全光学系によっ
て、レーザー7の接合面に対して垂直面内のビームウエ
スト位置から放射する光束が結像される位置とレーザー
7の接合面に平行な面内のビームウエスト位置から放射
する光束が結像される位置6a′,6b′は異なる。こ
の位置の隔差をΔS′とし、図2における光束径を制限
するアパーチャー13の、レーザーの接合面と平行な方
向の径をDJとし、レーザーの接合面と垂直な方向の径
をDSとし、走査用レンズ11の焦点距離をf11とし、
レーザーの発光波長をλとするとき
た光束は図2の偏向ミラー10で偏向され走査用レンズ
11によって感光媒体12上に結像される。この感光媒
体12は走査用レンズ11の焦点面近傍に配置する。こ
のとき、前述の直交方向のビームウエスト位置の非点隔
差が図1のようにあるとき、対物レンズ8、シリンドリ
カルレンズ系9及び走査用レンズ11の全光学系によっ
て、レーザー7の接合面に対して垂直面内のビームウエ
スト位置から放射する光束が結像される位置とレーザー
7の接合面に平行な面内のビームウエスト位置から放射
する光束が結像される位置6a′,6b′は異なる。こ
の位置の隔差をΔS′とし、図2における光束径を制限
するアパーチャー13の、レーザーの接合面と平行な方
向の径をDJとし、レーザーの接合面と垂直な方向の径
をDSとし、走査用レンズ11の焦点距離をf11とし、
レーザーの発光波長をλとするとき
【0015】
【外2】 なる条件を満足し、且つ前記の隔差を有する二つの結像
位置の適切な位置に感光媒体を配置すれば経験上ほぼ回
折限界程度の良好な結像性能を得ることができる。更
に、図3aにおいてシリンドリカル平凹レンズの焦点距
離をf9a、シリンドリカル平凸レンズの焦点距離を
f9b、図8の対物レンズ8の焦点距離をf8とすると回
折限界程度の結像性能を得るための許容できる半導体レ
ーザーの直交方向のビームウエスト位置の隔差ΔSは
位置の適切な位置に感光媒体を配置すれば経験上ほぼ回
折限界程度の良好な結像性能を得ることができる。更
に、図3aにおいてシリンドリカル平凹レンズの焦点距
離をf9a、シリンドリカル平凸レンズの焦点距離を
f9b、図8の対物レンズ8の焦点距離をf8とすると回
折限界程度の結像性能を得るための許容できる半導体レ
ーザーの直交方向のビームウエスト位置の隔差ΔSは
【0016】
【外3】 を満足すればよいので(1)、(2)式より
【0017】
【外4】 を得る。すなわちアフォーカルシリンドリカルレンズ系
9を構成する2枚のレンズの焦点距離比が(3)式を満
足するとき図2に示すような走査光学系において感光媒
体位置を適切な位置に配置することによって、回折限界
程度の良好な結像性能を得ることが可能である。
9を構成する2枚のレンズの焦点距離比が(3)式を満
足するとき図2に示すような走査光学系において感光媒
体位置を適切な位置に配置することによって、回折限界
程度の良好な結像性能を得ることが可能である。
【0018】一方感光媒体上に到達すべき必要な最小光
量をεとして、半導体レーザーが感光媒体の方向へ放射
する全光量をE0とするとき、本発明の光学系によって
感光媒体上へ伝達される光量E′は
量をεとして、半導体レーザーが感光媒体の方向へ放射
する全光量をE0とするとき、本発明の光学系によって
感光媒体上へ伝達される光量E′は
【0019】
【外5】 なる条件を満足すれば良い。
【0020】ここで半導体レーザーから放射される光束
はその放射角度に対して実質上ガウス分布として近似す
ることができ、レーザーの接合面に垂直、平行それぞれ
の面内の分布の分散をσ2 S、σ2 Jとする。このレーザー
から放射する光束を光学系でそれぞれの面内で−θS〜
θS、−θJ〜θJの範囲で受光するとする。そのときそ
れぞれの面内での受光率γS、γJは
はその放射角度に対して実質上ガウス分布として近似す
ることができ、レーザーの接合面に垂直、平行それぞれ
の面内の分布の分散をσ2 S、σ2 Jとする。このレーザー
から放射する光束を光学系でそれぞれの面内で−θS〜
θS、−θJ〜θJの範囲で受光するとする。そのときそ
れぞれの面内での受光率γS、γJは
【0021】
【外6】
【0022】
【外7】 である。
【0023】今、 γ≡γS・γJ (7) として、γを全立体角に放射されるレーザー光量に対す
る光学系で受光する光量の比とみなす。このとき、前述
のγ0に対し γ>γ0 (8) なる関係を満足させれば感光媒体上に到達すべき必要光
量を確保できる。
る光学系で受光する光量の比とみなす。このとき、前述
のγ0に対し γ>γ0 (8) なる関係を満足させれば感光媒体上に到達すべき必要光
量を確保できる。
【0024】ここで(5)式を図示すると図4のように
なる。横軸はθS/σS、たて軸はγSを表わす。
なる。横軸はθS/σS、たて軸はγSを表わす。
【0025】同様に(6)式を図示すると図5のように
なる。横軸はθJ/σJ、たて軸はγJを表わす。
なる。横軸はθJ/σJ、たて軸はγJを表わす。
【0026】これらの曲線から半導体レーザーのガウス
分布の分散σ2 S、σ2 J及び受光角θS、θJを設定すれ
ばγSγJが求まり(7)式からγを計算することができ
る。今、光学系を設定する手順として、半導体レーザー
の接合面に垂直面内のアパーチャー13の径DSと対物
レンズ8の焦点距離f8を決めたとすると、この面内の
受光角θSが
分布の分散σ2 S、σ2 J及び受光角θS、θJを設定すれ
ばγSγJが求まり(7)式からγを計算することができ
る。今、光学系を設定する手順として、半導体レーザー
の接合面に垂直面内のアパーチャー13の径DSと対物
レンズ8の焦点距離f8を決めたとすると、この面内の
受光角θSが
【0027】
【外8】 より決まるので図4からγSを求められる。さらに
【0028】
【外9】 を満足するθJを図5より求める。このθJの値をθJ0と
すると実際に光学系で受光する光量比γがγ0より大き
くなるためには、半導体レーザーの接合面に平行な面内
での受光角θJは θJ>θJ0 (9) であればよい。
すると実際に光学系で受光する光量比γがγ0より大き
くなるためには、半導体レーザーの接合面に平行な面内
での受光角θJは θJ>θJ0 (9) であればよい。
【0029】このとき、この面内のアパーチャー13の
径DJは
径DJは
【0030】
【外10】 であるから(9)、(10)式から
【0031】
【外11】 を得る。
【0032】すなわち、前述の(3)式と(13)式か
らシリンドリカルレンズ系9の構成レンズの焦点距離比
らシリンドリカルレンズ系9の構成レンズの焦点距離比
【0033】
【外12】 を
【0034】
【外13】 の範囲に入るようにすれば、回折限界程度の良好な結像
性能を得、且つ、記録に必要な光量を感光媒体上に伝達
することが可能である。
性能を得、且つ、記録に必要な光量を感光媒体上に伝達
することが可能である。
【0035】ここでシリンドリカルレンズ系9におい
て、シリンドリカル平凹レンズの平面を光束の入射側に
設けなかった理由は、その面での反射光がレーザーの内
部に逆進するのを防ぐためである。反射光がレーザー内
部に逆進するといわゆる自己カップリングなる現象が生
じ、レーザーの発光特性が変化し、好ましくない。
て、シリンドリカル平凹レンズの平面を光束の入射側に
設けなかった理由は、その面での反射光がレーザーの内
部に逆進するのを防ぐためである。反射光がレーザー内
部に逆進するといわゆる自己カップリングなる現象が生
じ、レーザーの発光特性が変化し、好ましくない。
【0036】次に図2にてレーザー接合面と平行方向の
アパーチャー径DJと、図3aにおけるシリンドリカル
平凸レンズの焦点距離f9bとの間に
アパーチャー径DJと、図3aにおけるシリンドリカル
平凸レンズの焦点距離f9bとの間に
【0037】
【外14】 なる関係を満足させると、このシリンドリカルレンズ9
の構成において出射する光束の平行性を良好にすること
ができる。
の構成において出射する光束の平行性を良好にすること
ができる。
【0038】図3aにおいて、入射平行光束に対してシ
リンドリカル平凹レンズにて、補正過剰の球面収差が発
生し、シリンドリカル平凸レンズにて補正不足の球面収
差が発生する。前記の(4)式の関係を満足すると、個
々のレンズでの球面収差発生量を少なくでき、両者レン
ズの合成系で球面収差が良好に補正することが可能であ
る。前記(13)式を満足しないと、個々のレンズの収
差発生量が多くなり両者レンズの合成系で球面収差を良
好に補正することが困難となる。
リンドリカル平凹レンズにて、補正過剰の球面収差が発
生し、シリンドリカル平凸レンズにて補正不足の球面収
差が発生する。前記の(4)式の関係を満足すると、個
々のレンズでの球面収差発生量を少なくでき、両者レン
ズの合成系で球面収差が良好に補正することが可能であ
る。前記(13)式を満足しないと、個々のレンズの収
差発生量が多くなり両者レンズの合成系で球面収差を良
好に補正することが困難となる。
【0039】以上の本発明の光学装置において、たとえ
ば、対物レンズ8の焦点距離f8をf8=10mm走査用
レンズ11の焦点距離f11をf11=500mmレーザー
接合面の垂直方向のアパーチャー径DSをDS=10mm
とし、直交方向のそれぞれのビームウエスト位置の隔差
ΔSが ΔS=0.02mm で、シングルモードの波長λが λ=8000Å の半導体レーザーを用いたとき、(3)式に従ってレー
ザー接合面に平行な方向のアパーチャー径DJとシリン
ドリカルレンズ径9を構成するシリンドリカル平凸レン
ズとシリンドリカル平凹レンズのそれぞれの焦点距離比
の絶対値
ば、対物レンズ8の焦点距離f8をf8=10mm走査用
レンズ11の焦点距離f11をf11=500mmレーザー
接合面の垂直方向のアパーチャー径DSをDS=10mm
とし、直交方向のそれぞれのビームウエスト位置の隔差
ΔSが ΔS=0.02mm で、シングルモードの波長λが λ=8000Å の半導体レーザーを用いたとき、(3)式に従ってレー
ザー接合面に平行な方向のアパーチャー径DJとシリン
ドリカルレンズ径9を構成するシリンドリカル平凸レン
ズとシリンドリカル平凹レンズのそれぞれの焦点距離比
の絶対値
【0040】
【外15】 の最小値との関係を図示すると図6の曲線aとなる。
【0041】さらに、半導体レーザーの分布をその接合
面に垂直方向の分散をσ 2 S=(15°)2、平行方向の
分散をσ 2 J=(40°)2として、感光媒体上に記録す
るための最小必要光量比γ0をγ0=0.8とする。レー
ザー接合面に垂直面内の受光角θSは
面に垂直方向の分散をσ 2 S=(15°)2、平行方向の
分散をσ 2 J=(40°)2として、感光媒体上に記録す
るための最小必要光量比γ0をγ0=0.8とする。レー
ザー接合面に垂直面内の受光角θSは
【0042】
【外16】 であるからθS /σS=2であり、図5よりγS=0.
955を求められる。このとき、感光媒体上に到達すべ
き必要光量を確保するためには前述の(7)、(8)式
より
955を求められる。このとき、感光媒体上に到達すべ
き必要光量を確保するためには前述の(7)、(8)式
より
【0043】
【外17】 であればよい。すなわち図5より θJ0=1.4×σJ=5.6° が求められる。
【0044】以上求められた数値を(11)式の右辺に
代入して、半導体レーザーの接合面に平行な方向のアパ
ーチャー径DJに対するシリンドリカルレンズ径9を構
成するレンズの焦点距離比
代入して、半導体レーザーの接合面に平行な方向のアパ
ーチャー径DJに対するシリンドリカルレンズ径9を構
成するレンズの焦点距離比
【0045】
【外18】 の最大限は図6の直線bで示される。
【0046】すなわち本発明の目的を達成するために
は、前記焦点距離比
は、前記焦点距離比
【0047】
【外19】 の値は図6の斜線部内にあればよい。
【0048】ここでDJ=3.33mmの時
【0049】
【外20】 となり、シリンドリカルレンズ系9はその機能を果さな
くなり、シリンドリカルレンズ系9はなくても良い結果
になる。一般に、シリンドリカルレンズ系9がなくても
良い条件はDJの値が
くなり、シリンドリカルレンズ系9はなくても良い結果
になる。一般に、シリンドリカルレンズ系9がなくても
良い条件はDJの値が
【0050】
【外21】 の値のときである。
【0051】すなわち、レーザー接合面に平行な方向の
アパーチャー径DJの値をほぼ(14)式の右辺の値に
すればシリンドリカルレンズ系9がなくても比較的良好
な結像性能を得ることが可能である。DJ<3.33の
値に対しては
アパーチャー径DJの値をほぼ(14)式の右辺の値に
すればシリンドリカルレンズ系9がなくても比較的良好
な結像性能を得ることが可能である。DJ<3.33の
値に対しては
【0052】
【外22】 の値は1より小さくなる。これは図3aの構成では実現
困難であるので、ここでは考慮の対象から外す。
困難であるので、ここでは考慮の対象から外す。
【0053】以上のような記録光学系を走査装置に用い
ると高周波数で直接変調が可能な半導体レーザーの利点
が活かされる。すなわち、図2に示すように、偏向手段
として等角速度回転をする回転多面鏡を用いて半導体レ
ーザーからの光束を偏向し、感光媒体上を走査するよう
な場合、高速記録を達成することが可能になる。この場
合、走査用結像レンズ11としてfθレンズ(y′=f
11θ;y′は光軸から走査位置迄の距離、f11は該レン
ズの焦点距離、θは該レンズに入射する偏向光束が該レ
ンズの光軸となす角度)を用いれば感光媒体上の走査速
度を一定にすることができ、半導体レーザーに与える種
々の変調信号周波数と基本のクロック周波数との比を整
数比にすることができ電気回路の単純化が可能になる。
ると高周波数で直接変調が可能な半導体レーザーの利点
が活かされる。すなわち、図2に示すように、偏向手段
として等角速度回転をする回転多面鏡を用いて半導体レ
ーザーからの光束を偏向し、感光媒体上を走査するよう
な場合、高速記録を達成することが可能になる。この場
合、走査用結像レンズ11としてfθレンズ(y′=f
11θ;y′は光軸から走査位置迄の距離、f11は該レン
ズの焦点距離、θは該レンズに入射する偏向光束が該レ
ンズの光軸となす角度)を用いれば感光媒体上の走査速
度を一定にすることができ、半導体レーザーに与える種
々の変調信号周波数と基本のクロック周波数との比を整
数比にすることができ電気回路の単純化が可能になる。
【0054】あるいは、前記の等角速度回転鏡の代わり
に時間tに対し、振巾φ0で正弦振動をするガルヴァノ
ミラーの如き偏向手段を用いたとき、前記fθレンズの
代わりにアークサインレンズ
に時間tに対し、振巾φ0で正弦振動をするガルヴァノ
ミラーの如き偏向手段を用いたとき、前記fθレンズの
代わりにアークサインレンズ
【0055】
【外23】 を用いることにより前述と同じ効果が得られる。それら
の走査において、前述のアパーチャーの径DS、DJを適
当に選ぶことにより感光媒体上に形成されるスポットを
所望の形状にできる。走査系において、例えば図18に
示すように、感光媒体上のスポット13がy′方向に走
査されるとき、その方向のスポット径ρy′をy′方向
と直角方向のz′方向のスポット径ρZ′より小さくし
てやると1画素の変調時間内にスポットは図19のよう
に13から13′へシフトし、その間に記録されるスポ
ットは14の如く大きくなる。その結果、1画素の記録
スポットの大きさをy′、z′方向で等しくすることが
可能になる。
の走査において、前述のアパーチャーの径DS、DJを適
当に選ぶことにより感光媒体上に形成されるスポットを
所望の形状にできる。走査系において、例えば図18に
示すように、感光媒体上のスポット13がy′方向に走
査されるとき、その方向のスポット径ρy′をy′方向
と直角方向のz′方向のスポット径ρZ′より小さくし
てやると1画素の変調時間内にスポットは図19のよう
に13から13′へシフトし、その間に記録されるスポ
ットは14の如く大きくなる。その結果、1画素の記録
スポットの大きさをy′、z′方向で等しくすることが
可能になる。
【0056】あるいは、上記例の場合より高周波数で半
導体レーザーを変調して、図20a、図20bの如く複
数画素をオーヴァーラップさせ、走査方向あるいは、そ
れと垂直方向にコントラストの高い画質を得ることが可
能である。
導体レーザーを変調して、図20a、図20bの如く複
数画素をオーヴァーラップさせ、走査方向あるいは、そ
れと垂直方向にコントラストの高い画質を得ることが可
能である。
【0057】以上のように走査系においてアパーチャー
径をえらぶことによって画質の制御を種々試みることが
できるようになる。
径をえらぶことによって画質の制御を種々試みることが
できるようになる。
【0058】但し、このような場合もシリンドリカルレ
ンズ系の構成レンズの焦点距離比
ンズ系の構成レンズの焦点距離比
【0059】
【外24】 の値は(12)式の条件を満足してはじめて良好な画像
を得ることができる。たとえば前述の数値例において図
示した図6の斜線部内に存在するアパーチャー系DJと
を得ることができる。たとえば前述の数値例において図
示した図6の斜線部内に存在するアパーチャー系DJと
【0060】
【外25】 の値の組合わせを行うことによって上記のような良好な
画像を得ることが可能である。
画像を得ることが可能である。
【0061】以下に本発明の実施例を記述する。
【0062】図7は本発明に使用した半導体レーザーの
配光特性を示すもので、横軸に広がり角度、たて軸に強
度を示す。記号Sはレーザー接合面に垂直方向、記号J
はレーザー接合面に平行な方向の配光特性分布を示す。
その分布特性は、レーザー接合面に垂直方向、平行な方
向ともにそれぞれほぼガウス分布に一致しており、それ
ぞれの方向の分散をσ 2 S、σ 2 JとするときσS≒15
°、σJ≒4°である。またこのレーザーの発光波長λ
はλ≒8000Åで、シングルモードを有し、直交方向
のそれぞれのビームウエスト位置の隔差は約0.02m
mである。
配光特性を示すもので、横軸に広がり角度、たて軸に強
度を示す。記号Sはレーザー接合面に垂直方向、記号J
はレーザー接合面に平行な方向の配光特性分布を示す。
その分布特性は、レーザー接合面に垂直方向、平行な方
向ともにそれぞれほぼガウス分布に一致しており、それ
ぞれの方向の分散をσ 2 S、σ 2 JとするときσS≒15
°、σJ≒4°である。またこのレーザーの発光波長λ
はλ≒8000Åで、シングルモードを有し、直交方向
のそれぞれのビームウエスト位置の隔差は約0.02m
mである。
【0063】図8は、対物レンズ8、図9はシリンドリ
カルレンズ系9、図10は走査用レンズ11の構成断面
を示す。表1にそれらの構成値を掲げる。Ri、di、
li、Niはそれぞれi番目の面の曲率半径、レンズ軸
上厚、空気間隔、レンズの屈折率である。
カルレンズ系9、図10は走査用レンズ11の構成断面
を示す。表1にそれらの構成値を掲げる。Ri、di、
li、Niはそれぞれi番目の面の曲率半径、レンズ軸
上厚、空気間隔、レンズの屈折率である。
【0064】表1の対物レンズは光束の出射側に負の屈
折力を有した凹レンズを配置させ、いわゆるレトロフォ
ーカスタイプのレンズで、これはレーザーの発光面と対
物レンズとのワーキングディスタンスを長くするために
設けたものである。これは対物レンズの焦点距離が短く
なったときその焦点距離に比してワーキングディスタン
スを長くするために有効である。しかし、その焦点距離
が長くてよい場合には、図11のように出射側の凹レン
ズをなくすことが可能である。この数値を表2に示す。
折力を有した凹レンズを配置させ、いわゆるレトロフォ
ーカスタイプのレンズで、これはレーザーの発光面と対
物レンズとのワーキングディスタンスを長くするために
設けたものである。これは対物レンズの焦点距離が短く
なったときその焦点距離に比してワーキングディスタン
スを長くするために有効である。しかし、その焦点距離
が長くてよい場合には、図11のように出射側の凹レン
ズをなくすことが可能である。この数値を表2に示す。
【0065】また、図12のように1枚の非球面レンズ
を対物レンズとすることも可能である。この構成数値を
表3に示す。
を対物レンズとすることも可能である。この構成数値を
表3に示す。
【0066】その非球面の形状は次式で表わす。
【0067】
【外26】 但し、この場合 R24=−7.833 A=1.44747×10-4 B=3.52553×10-6 である。
【0068】また、シリンドリカルレンズ系は図13の
ように一つのレンズでも図9の系と等価なものが得られ
る。この構成データを表4に示す。このとき前述の
f9a、f9bは第25面、第26面のそれぞれの焦点距離
に等しい。上記の各種対物レンズとシリンドリカルレン
ズ系の組合わせはどのように組合わせてもよい。
ように一つのレンズでも図9の系と等価なものが得られ
る。この構成データを表4に示す。このとき前述の
f9a、f9bは第25面、第26面のそれぞれの焦点距離
に等しい。上記の各種対物レンズとシリンドリカルレン
ズ系の組合わせはどのように組合わせてもよい。
【0069】特に、図12の非球面単レンズの対物レン
ズと図13の1枚シリンドリカルレンズとの組合わせで
用いると構成が単純になり、組立調整が簡単になり低価
格化を実現し得る。また構成面数が少なくなると光量透
過率も多くなり、感光媒体上に伝達される光量は多くな
り有利である。
ズと図13の1枚シリンドリカルレンズとの組合わせで
用いると構成が単純になり、組立調整が簡単になり低価
格化を実現し得る。また構成面数が少なくなると光量透
過率も多くなり、感光媒体上に伝達される光量は多くな
り有利である。
【0070】本実施例において使用したアパーチャー
は、対物レンズとして図8の4枚構成のものを使用した
とき、φ9.3mmである。あるいはレーザーの接合面
と垂直方向を9.3mm、平行な方向を16.8mmと
しても良好な結像性能が得られる。
は、対物レンズとして図8の4枚構成のものを使用した
とき、φ9.3mmである。あるいはレーザーの接合面
と垂直方向を9.3mm、平行な方向を16.8mmと
しても良好な結像性能が得られる。
【0071】φ9.3mmのアパーチャーを用い記録に
必要な最小光量比γ0をγ0=0.686とするとシリン
ドリカルレンズ系の焦点距離比
必要な最小光量比γ0をγ0=0.686とするとシリン
ドリカルレンズ系の焦点距離比
【0072】
【外27】 の値は前述の(12)式から
【0073】
【外28】 の間に入ればよい。本実施例において、図9と表1に示
したシリンドリカルレンズは
したシリンドリカルレンズは
【0074】
【外29】 であり、図13と表4に示したシリンドリカルレンズは
【0075】
【外30】 である。
【0076】あるいは、レーザーの接合面と垂直方向を
9.3mm、平行な方向を16.8mmとしたとき(1
2)式に従い、同様に計算すると、この時
9.3mm、平行な方向を16.8mmとしたとき(1
2)式に従い、同様に計算すると、この時
【0077】
【外31】 であればよい。この時も上記実施例は満足する。図14
は図8と表1に示す対物レンズのコリメート性能を示
す。
は図8と表1に示す対物レンズのコリメート性能を示
す。
【0078】図15は図9と表1に示すシリンドリカル
レンズの出射平行光束の性能を示す。
レンズの出射平行光束の性能を示す。
【0079】図16a,bは図10と表1に示す走査用
レンズの性能を示し、aは球面収差、bは非点収差と像
面彎曲を示す。
レンズの性能を示し、aは球面収差、bは非点収差と像
面彎曲を示す。
【0080】図17は、図11と表2に示す対物レンズ
の性能を示す。
の性能を示す。
【0081】図14,15,17において横軸は波長収
差で1λ=0.8×10-3mm、たて軸は出射光線の高
さを示す。図16bのたて軸は走査用レンズに入射する
偏向された光束の光軸となす角度である。M,Sは、そ
れぞれメリディオナル断面、サジタル断面内の像面彎曲
を示す。
差で1λ=0.8×10-3mm、たて軸は出射光線の高
さを示す。図16bのたて軸は走査用レンズに入射する
偏向された光束の光軸となす角度である。M,Sは、そ
れぞれメリディオナル断面、サジタル断面内の像面彎曲
を示す。
【0082】図12の対物レンズ、図13のシリンドリ
カルレンズの性能はそれぞれ図8の対物レンズ、図9の
シリンドリカルレンズの性能とほぼ同程度であるので省
略する。図示した各レンズの性能をみて明らかなよう
に、回折限界程度の良好な性能である。
カルレンズの性能はそれぞれ図8の対物レンズ、図9の
シリンドリカルレンズの性能とほぼ同程度であるので省
略する。図示した各レンズの性能をみて明らかなよう
に、回折限界程度の良好な性能である。
【0083】
【表1】
【0084】
【表2】
【0085】
【表3】
【0086】
【表4】
【0087】さて、次に本発明の光学装置を電子写真技
術を利用したレーザビーム記録装置について述べる。こ
の装置は図2の装置とほぼ同様であって良い。ただ半導
体レーザ7に変調信号を印加してこの半導体レーザ7の
発光を制御すること、及び走査面12上に電子写真用の
感光材、若しくは感光ドラムを配置することが必要で
あ。電子写真用の感光材としてはCdS感材が望まし
い。その理由は、半導体レーザの光は近赤外光でCdS
感光材の分光感度特性にマッチしているからである。す
なわち、電子写真感光材として代表的なものとしてZn
O、非晶質Se、CdSが挙げられる。しかしながら、
Se感光体においては、高感度領域が短波長側に偏って
おり、近赤外にはマッチングしない。Seに、AsやT
eを混入することにより、感度が長波長側にずれること
は知られている。このような方法も利用できる。しかし
AsやTeを加えることにより、暗抵抗値が下がる等の
電子写真感光材料としては好ましくない特性を示すこと
があるので感光層を2層にする等の対処をする必要があ
る。また、ZnOにおいては、ZnOの固有の感度は3
50〜400μmにあり、半導体レーザ光に適合するよ
うに、色素増感することが可能である。その絶対感度
は、後述のCdS感光体に比較すると10分の1以下で
ある。
術を利用したレーザビーム記録装置について述べる。こ
の装置は図2の装置とほぼ同様であって良い。ただ半導
体レーザ7に変調信号を印加してこの半導体レーザ7の
発光を制御すること、及び走査面12上に電子写真用の
感光材、若しくは感光ドラムを配置することが必要で
あ。電子写真用の感光材としてはCdS感材が望まし
い。その理由は、半導体レーザの光は近赤外光でCdS
感光材の分光感度特性にマッチしているからである。す
なわち、電子写真感光材として代表的なものとしてZn
O、非晶質Se、CdSが挙げられる。しかしながら、
Se感光体においては、高感度領域が短波長側に偏って
おり、近赤外にはマッチングしない。Seに、AsやT
eを混入することにより、感度が長波長側にずれること
は知られている。このような方法も利用できる。しかし
AsやTeを加えることにより、暗抵抗値が下がる等の
電子写真感光材料としては好ましくない特性を示すこと
があるので感光層を2層にする等の対処をする必要があ
る。また、ZnOにおいては、ZnOの固有の感度は3
50〜400μmにあり、半導体レーザ光に適合するよ
うに、色素増感することが可能である。その絶対感度
は、後述のCdS感光体に比較すると10分の1以下で
ある。
【0088】従ってCdS感材を使用することが望まし
い。更にこのCdS感材は導電性支持体、CdS光導性
層及び絶縁層の三層構成から構成されるものが望まし
い。
い。更にこのCdS感材は導電性支持体、CdS光導性
層及び絶縁層の三層構成から構成されるものが望まし
い。
【0089】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は、上述し
た特許請求の範囲に示される構成を取ることにより、非
点隔差が存在しても感光媒体上で回折限界程度の良好な
結像性能を得ることができる。
た特許請求の範囲に示される構成を取ることにより、非
点隔差が存在しても感光媒体上で回折限界程度の良好な
結像性能を得ることができる。
【図1】半導体レーザ光束の放射状況の模式図である。
【図2】本発明の光学装置を走査系に適用した光学配置
図である。
図である。
【図3】図2のシリンドリカル系の詳細を説明する図で
ある。
ある。
【図4】半導体レーザからの光を光学系で受けた場合、
その受光角と受光率の関係を示すグラフ図である。
その受光角と受光率の関係を示すグラフ図である。
【図5】半導体レーザからの光を光学系で受けた場合、
その受光角と受光率の関係を示すグラフ図である。
その受光角と受光率の関係を示すグラフ図である。
【図6】図2のシリンドリカルレンズ平凸レンズと平凹
レンズのそれぞれの焦点距離比の絶対値の最小値との関
係を示すグラフ図である。
レンズのそれぞれの焦点距離比の絶対値の最小値との関
係を示すグラフ図である。
【図7】半導体レーザの配光特性を示す図である。
【図8】図2の対物レンズの断面図である。
【図9】図2のシリンドリカルレンズ系の断面図であ
る。
る。
【図10】図2の走査レンズの断面図である。
【図11】図8のレンズの変形例を示す断面図である。
【図12】変形対物レンズの断面図である。
【図13】変形シリンドリカルレンズの断面図である。
【図14】図8の対物レンズのコリメート性能を示す図
である。
である。
【図15】図9のシリンドリカルレンズの出射平行光束
の性能を示す図である。
の性能を示す図である。
【図16】図10の走査レンズの性能を示す図である。
【図17】図11の対物レンズの性能を示す図である。
【図18】スポットの状態を示す図である。
【図19】図18のスポットの移動状態を示す図であ
る。
る。
【図20】各スポットをオーバーラップして記録する方
法を示す図である。
法を示す図である。
【図21】従来の走査装置を示す図である。
6 発光原点 7 半導体レーザ 8 対物レンズ 9 シリンドリカルレンズ系 10 偏向器 11 走査レンズ 12 走査面
Claims (1)
- 【請求項1】 直交する方向でビームウエスト位置がΔ
Sだけ異なる半導体レーザからの光束を結像光学系によ
り受光面上に結像する半導体レーザ光学装置において、 前記結像光学系は、前記半導体レーザからの光束をほぼ
コリメートする対物レンズ、該対物レンズからの光束を
受光し前記半導体レーザの接合面と平行な方向の光束径
を拡大するシリンドリカルレンズ系、該シリンドリカル
レンズ系からの光束を受光面上に結像する結像レンズ系
よりなり、前記シリンドリカルレンズ系は、前記対物レ
ンズ側より順にシリンドリカル平凹レンズとシリンドリ
カル平凸レンズより構成され、 前記シリンドリカル平凹レンズの焦点距離をf9a、前記
シリンドリカル平凸レンズの焦点距離をf9b、前記結像
レンズ系に入る光束の前記半導体レーザの接合面内のビ
ーム径をDJ、同じく前記半導体レーザの接合面と直交
する面内のビーム径をDS、前記対物レンズの焦点距離
をf8、前記半導体レーザの発光波長をλとすると、 【外1】 を満足することにより、前記半導体レーザが有する非点
隔差を補正することなく回折限界程度の結像性能を得る
ことを特徴とする半導体レーザ光学装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4330586A JPH05257080A (ja) | 1992-12-10 | 1992-12-10 | 半導体レーザ光学装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4330586A JPH05257080A (ja) | 1992-12-10 | 1992-12-10 | 半導体レーザ光学装置 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5184878A Division JPS54143661A (en) | 1978-04-28 | 1978-04-28 | Recording optical system |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05257080A true JPH05257080A (ja) | 1993-10-08 |
Family
ID=18234310
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4330586A Pending JPH05257080A (ja) | 1992-12-10 | 1992-12-10 | 半導体レーザ光学装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05257080A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2010061110A (ja) * | 2008-08-07 | 2010-03-18 | Kyocera Mita Corp | 光走査光学装置、該光走査光学装置を用いた画像形成装置並びに光走査方法 |
| US20100301027A1 (en) * | 2003-02-19 | 2010-12-02 | J. P. Sercel Associates Inc. | System and method for cutting using a variable astigmatic focal beam spot |
| CN108681214A (zh) * | 2018-05-21 | 2018-10-19 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 通过改变扩束比例实现跨尺度光刻或多分辨率成像的方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5242741A (en) * | 1975-09-29 | 1977-04-02 | Western Electric Co | Lens system for converting laser radiation to spherical wave end and laser machining device utilizing same |
-
1992
- 1992-12-10 JP JP4330586A patent/JPH05257080A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5242741A (en) * | 1975-09-29 | 1977-04-02 | Western Electric Co | Lens system for converting laser radiation to spherical wave end and laser machining device utilizing same |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US20100301027A1 (en) * | 2003-02-19 | 2010-12-02 | J. P. Sercel Associates Inc. | System and method for cutting using a variable astigmatic focal beam spot |
| US8502112B2 (en) * | 2003-02-19 | 2013-08-06 | Ipg Microsystems Llc | System and method for cutting using a variable astigmatic focal beam spot |
| JP2010061110A (ja) * | 2008-08-07 | 2010-03-18 | Kyocera Mita Corp | 光走査光学装置、該光走査光学装置を用いた画像形成装置並びに光走査方法 |
| CN108681214A (zh) * | 2018-05-21 | 2018-10-19 | 中国科学院上海光学精密机械研究所 | 通过改变扩束比例实现跨尺度光刻或多分辨率成像的方法 |
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