JPH05259024A - 位置決め装置 - Google Patents
位置決め装置Info
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- JPH05259024A JPH05259024A JP5339592A JP5339592A JPH05259024A JP H05259024 A JPH05259024 A JP H05259024A JP 5339592 A JP5339592 A JP 5339592A JP 5339592 A JP5339592 A JP 5339592A JP H05259024 A JPH05259024 A JP H05259024A
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- wafer chuck
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
Abstract
エハ位置決め装置の位置決め精度を向上する。 【構成】 レ−ザ−干渉測長器のレ−ザミラ−を弾性ヒ
ンジによる4節リンク機構の連結部材を介してウェハチ
ャックに連結し、レ−ザミラ−面やレ−ザミラ−とウェ
ハ間の距離がテ−ブルの変形により変化しないようにす
る。また、ウエハチャックをテ−ブル上に点状または線
状に支持することにより上記テ−ブルの変形がウエハチ
ャック、レ−ザミラ−、弾性ヒンジ板ばね等に伝わらな
いようにする。
Description
グラフィ工程で用いられる露光装置や描画装置に係わ
り、とくにその試料テ−ブルの位置を高精度に測定する
位置決め装置に関する。
や同描画装置等におけるウェ−ハなどの被処理物体の位
置決め装置の正面図である。テ−ブル3上には被処理物
体を保持するウエハチャック4がレ−ル6上を滑動可能
に載置され、ウエハチャック4は半導体ウエハ(被処理
物体)5を載置している。テ−ブル3の端部にはレ−ザ
ミラ−2が取付けられ干渉計9からのレ−ザ光を反射
し、干渉計9はその出射光と反射光を比較してレ−ザミ
ラ−2の位置を測定する。レ−ザミラ−2とウエハ5間
の距離Lが固定されるので、上記レ−ザミラ−2の位置
からウエハ5の位置が決められる。また、多くの場合上
記テ−ブル3はX方向とY方向の2軸方向に移動できる
ようになっている。
は、レ−ザミラ−2がテ−ブル3の熱膨張や、レ−ル6
の平面度誤差、弾性変形等により変位してその反射面の
向きが変化し、最悪の場合にはレ−ザミラ−2からの反
射光が干渉計に入射しないという問題があった。また、
上記弾性変形はテ−ブル3に作用する駆動力により変化
するので、定量的に把握しにくいことも問題であった。
上記レ−ザミラ−2の反射面の水平方向位置変動に対し
ては構成部材の熱膨張係数を小さくする事によりある程
度は改善できるものの、弾性変形に反射面の向きの変動
に対しては部材の剛性を高くするとその重量が非現実的
に増大することが問題であった。
の位置決め誤差を短縮できるのであるが、レ−ザミラ−
2とウエハ5間にはウエハの位置決め用マ−クや同マ−
クからの反射電子検出器等が配置されるので、距離Lの
短縮も困難であった。本発明の目的は、上記レ−ザミラ
−2の反射面の向きの変動を除去し、さらに距離Lの変
動も低減することのできる位置決め装置を提供すること
にある。
に、上記レ−ザ干渉測長器のレ−ザミラ−と上記ウエハ
チャック間を、上記ウエハチャックの移動方向(水平方
向)に対して直角方向(垂直方向)のみに変位可能な4
節リンク機構を備えた連結部材により連結するようにす
る。また上記連結部材を、両端部の剛性部材と、上記二
つの剛性部材間を連結する2枚の剛性板材と、上記剛性
部材と剛性板材のそれぞれの端部を連結する弾性ヒンジ
部とにより構成するようにする。
し、上記剛性部材の長手方向に沿って少なくとも二つの
円形、4角形等の中空孔を設け、さらに上記中空孔間を
上記剛性部材の長手方向に沿って連結する中空の切り込
み部を設け、上記中空孔により肉厚の薄くなった上記剛
性部材の部分を上記4節リンク機構の弾性ヒンジ部とす
るようにする。
要素により上記テ−ブル上に支持するようにする。ま
た、上記連結部材と上記テ−ブル間に間隙を設けて上記
連結部材を上記テ−ブル上に非接触で支持するようにす
る。また、上記ウエハチャックを上記テ−ブル上に点ま
たは線状に支持するようにする。
記4節リンク機構のヒンジ部のヒンジ動作により追随
し、ウエハチャックの移動方向(水平方向)に対しては
強い剛性を示す。このため、従来のレ−ザミラ−2をテ
−ブル3上に搭載するものや、レ−ザミラ−2とウエハ
チャック4間を単純な剛性材により連結する場合に比べ
て、レ−ザミラ−2の面の向きやレ−ザミラ−2とウエ
ハ5間の距離L等の変化が大きく低減される。
り上記テ−ブル上に摩擦少なく支持される。また、上記
弾性部材と上記テ−ブル間の間隙により上記弾性部材は
上記テ−ブル上に非接触で支持され、ウエハチャックと
テ−ブル間に作用する摩擦力を低減する。
要部を示す斜視図であり、本発明を半導体製造用の縮小
投影露光装置に用いられている高精度XYステ−ジに適
用したものである。縮小投影露光装置はLSIなどの半
導体デバイスのパタ−ンをウェハ5上に縮小して露光転
写する。XYステ−ジはウェハ5を所定の間隔で逐次移
動して位置決めする。
ャック4はウェハ5を真空吸着し、送りねじ7を介しサ
−ボモ−タ8により駆動されレ−ル6上を移動する。テ
−ブル3には弾性切欠き方式による一体型弾性ヒンジ板
ばね1aを介してレ−ザミラ−2aが連結され,同様に
一体型弾性ヒンジ板ばね1bを介してレ−ザミラ−2b
が連結されている。レ−ザミラ−2a,同2bにはレ−
ザヘッド11から分岐したレ−ザ光がそれぞれ入射さ
れ、それぞれの反射光は干渉計9aおよび同9bに受光
されてレ−ザ出射光と比較され、比較結果はそれぞれデ
ィテクタ10a,同10bにより検出される。ディテク
タ10a,同10bの各出力は所要の信号処理を施され
てテ−ブル3のX方向とY方向の移動距離情報に変換さ
れる。
上面図である。図2において、レ−ザ−ミラ−2aは弾
性ヒンジ板ばね1aの先端に支持され、コロ14(また
はボ−ル)を介してテ−ブル3に軽く接している。ま
た、弾性ヒンジ板ばね1aは図示のように鋼性のロッド
に円形の孔を適宜設け、円形孔間をスリット状の間隙に
より連結した構造となっている。
ラ−2a支持端がテ−ブル3の変形により押し上げられ
た状態を誇張して表現した図である。弾性ヒンジ板ばね
1aは角棒状の高剛性材に少なくとも2個の円形の中空
孔100を設け、さらに中空孔100間を中空のスリッ
ト101により連結した構造となっている。
しては各中空孔100の端部がヒンジとして作用して折
れ曲がり、また、水平方向の力に対しては高剛性を示し
すので伸縮しない。したがって、テ−ブル3がサ−ボモ
−タ8により送りねじ7を介して駆動されレ−ル6上を
移動する際の弾性変形や外力に対して、レ−ザ−ミラ−
2aの反射面の向きやウエハチャック4とレ−ザ−ミラ
−2a間の距離L等の変化が少ないという特徴が得られ
る。すなわち、レ−ザ干渉測長器によりウェハ5の位置
決め精度を向上することができる。なお、各中空孔10
0は必ずしも円形である必要はなく、上記ヒンジ部を形
成できるものであれば4角形、その他の形状であっても
差し支えない。
に、テ−ブル3の湾曲によりレ−ザ−ミラ−2aの反射
面の向きが大きく変化していた。また、ウエハチャック
4とレ−ザ−ミラ−2a間の距離Lの変化も大きかっ
た。また、レ−ザ−ミラ−2aとウエハチャック4間を
単純な高剛性で連結する場合も同様であった。
1aとテ−ブル3間に空隙を設けてコロ14を省略する
ようにして、弾性ヒンジ板ばね1a、1b等には摩擦力
や垂直方向の力が作用しないようにし、中空孔100や
スリット101等により各弾性ヒンジ板ばねを軽量化す
ることもできる。また、図6においてはウエハチャック
4を支持部材13のみによりテ−ブル3上に点状または
線状に支持するようにして、ウエハチャック4とテ−ブ
ル3間の接触面積を小さくている。これによりテ−ブル
3の変形がチャック4に伝わることを防止できるので、
距離Lの変化をさらに少なくすることができる。
より生じるレ−ザ−ミラ−とウェ−ハとの間の距離変化
を従来装置に比べて50%以下に低減することができ、
例えば露光装置におけるパ−タンの配列ピッチ誤差を従
来の±0.1μm程度からは±0.05μm以下にする
ことができる。また、ウエハテ−ブルの厚みを従来装置
に比べて薄くすることができるので、位置決め装置の高
さが低まり、装置を軽量化することができる。この軽量
化によりウエハの位置決め時間を短縮することができ
る。
る。
る。
る。
す図である。
ラ−、3…テ−ブル、4…ウェハチャック、5…ウェ
ハ、6…レ−ル、9a,9bレ−ザ干渉計、11…レ−
ザヘッド、14…コロ、100…中空孔、101…スリ
ット。
Claims (6)
- 【請求項1】 半導体ウエハ等の被処理物体を保持する
ウエハチャックをテ−ブル上に支持して移動し、被処理
物体の位置決めを行なう位置決め装置において、上記レ
−ザ干渉測長器のレ−ザミラ−と上記ウエハチャック間
を、上記ウエハチャックの移動方向(水平方向)に対し
て直角方向(垂直方向)のみに変位可能な4節リンク機
構を備えた連結部材により連結するようにしたことを備
えたことを特徴とする位置決め装置。 - 【請求項2】 請求項1において、上記連結部材を、両
端部の剛性部材と、上記二つの剛性部材間を連結する2
枚の剛性板材と、上記剛性部材と剛性板材のそれぞれの
端部を連結する弾性ヒンジ部とにより構成するようにし
たことを特徴とする位置決め装置。 - 【請求項3】 請求項1または2において、上記連結部
材を角棒状の剛性部材とし、上記剛性部材の長手方向に
沿って少なくとも二つの円形、4角形等の中空孔を設
け、さらに上記中空孔間を上記剛性部材の長手方向に沿
って連結する中空の切り込み部を設け、上記中空孔によ
り肉厚の薄くなった上記剛性部材の部分を上記4節リン
ク機構の弾性ヒンジ部とするようにしたことを特徴とす
る位置決め装置。 - 【請求項4】 請求項1ないし3のいずれかにおいて、
上記連結部材を上記テ−ブル上に支持する転がり要素部
材を設けたことを特徴とする位置決め装置。 - 【請求項5】 請求項1ないし3のいずれかにおいて、
上記連結部材と上記テ−ブル間に間隙を設け、上記連結
部材を上記テ−ブルに対して非接触で支持するようにし
たことを特徴とする位置決め装置。 - 【請求項6】 請求項1ないし5のいずれかにおいて、
上記ウエハチャックを上記テ−ブル上に点または線状に
支持する支持部材を備えたことを特徴とする位置決め装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5339592A JP3160049B2 (ja) | 1992-03-12 | 1992-03-12 | 位置決め装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5339592A JP3160049B2 (ja) | 1992-03-12 | 1992-03-12 | 位置決め装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05259024A true JPH05259024A (ja) | 1993-10-08 |
| JP3160049B2 JP3160049B2 (ja) | 2001-04-23 |
Family
ID=12941639
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5339592A Expired - Fee Related JP3160049B2 (ja) | 1992-03-12 | 1992-03-12 | 位置決め装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3160049B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005191150A (ja) * | 2003-12-24 | 2005-07-14 | Nikon Corp | ステージ装置及び露光装置並びにデバイスの製造方法 |
| US7119884B2 (en) | 2003-12-24 | 2006-10-10 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| JP2009065147A (ja) * | 2007-08-20 | 2009-03-26 | Soonhan Engineering Corp | スライドの変形を吸収するためのひずみメカニズムモジュールを有する試料移動ステージ |
| JP2010147468A (ja) * | 2008-12-22 | 2010-07-01 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
| CN112967965A (zh) * | 2021-03-12 | 2021-06-15 | 长江存储科技有限责任公司 | 对准方法、对准装置、对准设备及计算机存储介质 |
-
1992
- 1992-03-12 JP JP5339592A patent/JP3160049B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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| US7119884B2 (en) | 2003-12-24 | 2006-10-10 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| JP2009065147A (ja) * | 2007-08-20 | 2009-03-26 | Soonhan Engineering Corp | スライドの変形を吸収するためのひずみメカニズムモジュールを有する試料移動ステージ |
| JP2010147468A (ja) * | 2008-12-22 | 2010-07-01 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置及びデバイス製造方法 |
| US9041913B2 (en) | 2008-12-22 | 2015-05-26 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus and device manufacturing method with bearing to allow substrate holder to float with respect to substrate table |
| CN112967965A (zh) * | 2021-03-12 | 2021-06-15 | 长江存储科技有限责任公司 | 对准方法、对准装置、对准设备及计算机存储介质 |
| CN112967965B (zh) * | 2021-03-12 | 2023-11-07 | 长江存储科技有限责任公司 | 对准方法、对准装置、对准设备及计算机存储介质 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3160049B2 (ja) | 2001-04-23 |
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