JPH05263271A - 板端面フォトレジスト塗布装置 - Google Patents

板端面フォトレジスト塗布装置

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Publication number
JPH05263271A
JPH05263271A JP4108118A JP10811892A JPH05263271A JP H05263271 A JPH05263271 A JP H05263271A JP 4108118 A JP4108118 A JP 4108118A JP 10811892 A JP10811892 A JP 10811892A JP H05263271 A JPH05263271 A JP H05263271A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
photoresist
roll
coated
coating
liquid
Prior art date
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Pending
Application number
JP4108118A
Other languages
English (en)
Inventor
Akira Nagai
亮 長井
Masao Takano
雅夫 高野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui High Tec Inc
Original Assignee
Mitsui High Tec Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui High Tec Inc filed Critical Mitsui High Tec Inc
Priority to JP4108118A priority Critical patent/JPH05263271A/ja
Publication of JPH05263271A publication Critical patent/JPH05263271A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 被塗布金属薄板の端面部に液状フォトレジス
トを過不足なく均一にきっちり塗布し、エッチングでリ
ードフレームパターンを製作する際に位置決めが精度よ
く行え、素材金属薄板幅をリードフレームの採取幅に等
しくし得る板端面の液状フォトレジスト塗布装置を提供
する。 【構成】 被塗布金属薄板の通板ライン1を挟んで設け
られ端面部2にフォトレジスト液6を塗布するロール4
と、前記塗布ロールとの接離間隔を変更自在に設けられ
た送給ロール7と、前記送給ロールと塗布ロールの対面
部の回転入り側にフォトレジスト液を供給する装置9を
設けた。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は液状フォトレジストを薄
板端面にきっちり塗布する装置に関する。
【0002】
【従来の技術】リードフレームのリードパターン形成に
はエッチングまたはプレス法が採用される。エッチング
でリードフレームを製作する際は素材金属薄板にフォト
レジストを塗布し、該フォトレジストにリードフレーム
パターンを対接して露光し、その後、現像して感光した
領域外のフォトレジストを除いてリードフレームマスク
を作り、次いでエッチングしてリードフレームが食刻形
成される。
【0003】前述のようにフォトレジストを素材金属薄
板に塗布するが、塗布に例えばムラ、あるいは端部に塗
布不良箇所があるとエッチング液が食刻してはいけない
箇所に侵入し、所望のリードフレームパターンが形成さ
れなくなる。かかる事態が生じないようフォトレジスト
を塗布することが重要である。
【0004】フォトレジストの塗布について、例えば特
開昭58−16556号公報にはエッチングの際にエッ
チング液が素材金属薄板の裏面にまわり、フォトレジス
トの塗布ムラから誤侵食が生じるので、これを防止する
ように裏面にドライフィルムをラミネートすることが示
されている。これによると裏面からの誤侵食が防がれリ
ードフレームの品質が向上する作用がある。
【0005】
【この発明が解決しようとする課題】一方、リードフレ
ームの製造では素材金属薄板から歩留り高く製作するこ
とが省資源およびコスト切り下げ等のために重要であ
る。これには素材金属薄板の幅をリードフレームの採取
幅にできるだけ近ずける必要があるが、ドライフォトレ
ジストは極軟質で且つ極薄であるから素材金属薄板の全
幅にきっちり塗布するのは極めて難しい。かかることか
ら素材金属薄板はリードフレーム採取幅より広くされ、
その分の歩留り低下は致し方ないと考えられているのが
実情である。
【0006】また、ドライフォトレジストを素材金属薄
板の幅以上として貼付することが考えられるが、この場
合は該薄板幅端部に余分のドライフォトレジストが存在
することになり、リードフレームパターンの焼き付けな
どエッチング工程での位置合わせ精度が劣化する問題が
ある。
【0007】素材金属薄板へのフォトレジスト塗布には
前記ドライフォトレジストの他に液状フォトレジストを
浸漬法やスプレーで塗布する方法がある。しかしこれで
は板面に広く塗布することから塗布ムラが生じやすいこ
との他に表面張力の関係から板端面にフォトレジスト液
が付着せず端面は地鉄が露出したままとなる。
【0008】本発明は板面にフォトレジストが塗布され
た、または塗布されるリードフレーム素材金属薄板の端
面部にフォトレジスト液をきっちり塗布して、端面の位
置合わせが精度よくでき、素材金属薄板の幅をリードフ
レーム採取幅と同一、あるいは可及的に等しくでき、ま
たエッチング液の誤侵入が生ぜず所望パターンのリード
フレームを得ることができる装置を目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の要旨は、被塗布
金属薄板の通板ラインを挟んで板端面へ進退自在に設け
られ端面部に液状フォトレジストを塗布するロールと、
前記塗布ロールとの間隔が変更自在に設けられフォトレ
ジスト液を前記塗布ロール周面に送る送給ロールと、前
記送給ロールと塗布ロールの対面部にフォトレジスト液
を供給する装置を設けたことを特徴とする板端面フォト
レジスト塗布装置にある。
【0010】
【作用】本発明は、被塗布金属薄板の端面に接触して回
転する塗布ロールに対して、対面間隔を変更自在とした
フォトレジスト液の送給ロールを設け、該送給ロールと
塗布ロールの対面箇所にフォトレジスト液を供給するよ
うにしているから、当該送給ロールと塗布ロールの回転
に相応しながら対面箇所の間隙からフォトレジスト液が
塗布ロール周面へ送られるとともにそのフォトレジスト
液の層厚みが調整され被塗布金属薄板の端面部は所望厚
みに均一に塗布される。
【0011】
【実施例】以下に、本発明について1実施例に基ずき図
面を参照して詳細に説明する。図面において、1は被塗
布金属薄板で端面部に液状レジストが塗布される。該薄
板1には端面2と該端面近傍を除く板面にはこの実施例
では前もってドライレジスト3が貼付されている。被塗
布金属薄板1からリードフレームを製作するが、採取歩
留りを最高とするために板幅Wをリードフレーム採取幅
と等しくできるように端面にきっちり塗布せんとするも
のである。
【0012】しかし、被塗布金属薄板1にはドライフォ
トレジスト3が全幅にきっちり貼付されていなく両端に
未塗布部Eが少々例えば1mm未満存在している。それ
はドライフォトレジスト3は前述のように極薄で且つ極
軟質のために全板幅Wに完全に合致させて貼付すること
が難しく、仮に全幅にきっちり貼ろうとすれば作業能率
が低下するからである。また端面2には隙間や重合を生
じることなくドライレジスト3を現場ラインで貼付する
のは非常に難しいので貼付されていない。
【0013】フォトレジストの未塗布箇所はエッチング
の際に侵食され、被塗布金属薄板1の端面2側はリード
フレームを製作できなくなる。これを回避すべく本発明
の装置は被塗布金属薄板1の端面2と端面近傍の未塗布
部Eに液状フォトレジスト5をムラを生じることなく均
一にきっちり塗布するものである。
【0014】4は塗布ロールで被塗布金属薄板1の通板
ラインを挟んで設けられ、被塗布金属薄板1の端面2に
移行装置5により進退自在で、端面2に接して回転しつ
つ液状フォトレジスト6を塗布する。該塗布ロール4は
ブライトあるいはダルロールが使用でき、また不織布な
どをロール面に設けることができる。
【0015】7は送給ロールでフォトレジスト液を前記
塗布ロール4に送るものである。該送給ロール7は塗布
ロール4に対して移動装置8により接離間隔が調整自在
でロール面を対向して設けられ、その間隔の大きさによ
り塗布ロール周面に付されるフォトレジスト液の層厚み
を制御し端面2部の塗布量を調整する。送給ロール7は
塗布ロール4より小径で、これら両者の外周速を同等と
して回転させるのが前記層厚み制御のしやすさおよび気
泡巻き込み防止の面から好ましい。
【0016】9はフォトレジスト液供給装置で、前記送
給ロール6と塗布ロール4の対面部を指向してフォトレ
ジスト液を供給するものである。10はフォトレジスト
液収容容器で、前記送給ロール7と塗布ロール4の下方
に設けられ、該収容容器10に収容されたフォトレジス
ト液を前記フォトレジスト液供給装置9へ循環させるこ
とができる。
【0017】11は搬送ロール、12は通板ガイドであ
り、被塗布金属薄板1の通る位置を定めるので、前記塗
布ロール4を端面2に接させるのが容易でまた接触の際
に端面2を損傷させることがない。13は乾燥装置で被
塗布金属薄板1の端面2に塗布された液状フォトレジス
トを乾燥させるものである。
【0018】次に、この実施例における塗布方法および
作用について述べる。被塗布金属薄板1は幅サイズが予
め分かるから、端面2が通る予定位置に塗布ロール4を
移行装置5により進行させ、端面2に接触して回転しつ
つ塗布できるように配設する。また端面2からのドライ
フォトレジスト3が貼付されていない未塗布部Eの程度
も例えば0.4mm未満と予め分かるから、移動装置8
を作動させて送給ロール7と塗布ロール4のロール間隙
を調整し、塗布ロール周面に付くフォトレジスト液の層
厚みを制御する。また塗布ロール4と送給ロール7は外
周速が同じになるように回転させ前記層厚みを安定化さ
せている。
【0019】塗布ロール4は通板してくる被塗布金属薄
板1の端面2に回転接触しフォトレジスト液を塗布する
が、当該塗布ロール4には周面にフォトレジスト液が付
いているから、図3に示すように被塗布金属薄板1の端
面2とそれと連なる近傍板面の未塗布部Eにも回り込ん
で塗布する。かかるロール塗布では端面2を主体として
フォトレジスト液を塗布するから、表面張力で端面2か
ら離脱することなく確実と当該端面に付着される。しか
してドライレジスト2が貼付されていなかった端面3お
よび幅方向板面端部に液状フォトレジスト6が被覆さ
れ、被塗布金属薄板1は全周面にフォトレジスト膜が設
けられる。
【0020】塗布ロール1には送給ロール7との対面部
の間隙から常に一定のフォトレジスト液が送られるか
ら、塗布ムラや局部的未塗布箇所が生ぜず均一に端面2
部は塗布される。
【0021】端面2とその近傍への塗布量を変える必要
が生じた場合は、塗布ロール4と送給ロール7の間隙を
変え、また必要に応じてそれらの外周速を変えて塗布ロ
ール4の周面に付けるフォトレジスト液の層厚み変る。
【0022】この実施例ではドライフォトレジストが被
塗布金属薄板1に先に貼付され、その後に端面2へフォ
トレジスト液を塗布したが、これに限らず、本発明装置
で端面2にフォトレジスト液を塗布してから板面にドラ
イフォトレジストを貼付してもよい。また前記ドライフ
ォトレジストに変えて任意のレジスト液を板面に塗布し
たものにも適用できる。
【0023】
【発明の効果】本発明は前述のように、塗布ロールの周
面に付けるフォトレジスト液層厚みを調整できその量を
一定とし得るので、被塗布金属薄板の端面部にフォトレ
ジストが過不足なく塗布される。また端面から板面側へ
フォトレジスト液が大きく張り出すようなことはなく端
面にすっきりフォトレジストが被覆されるので、その後
のエッチング工程での位置合わせが精度よく且つ容易に
できる。前記の如く幅端面位置が精度よく同定できるか
ら、フォトレジストが被覆された被塗布金属薄板は全板
幅にわたって有効に活用できリードフレーム採寸幅と等
しくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明装置の1実施例の概略を示す図。
【図2】本発明の1実施例におけるフォトレジスト塗布
装置を示す図。
【図3】本発明の1実施例で被塗布金属薄板の端面部へ
のフォトレジスト液塗布の作用を説明するための図。
【符号の説明】
1 被塗布金属薄板 2 端面 3 ドライレジスト 4 塗布ロール 5 移行装置 6 液状フォトレジスト 7 送給ロール 8 移動装置 9 フォトレジスト液供給装置 10 フォトレジスト液収容容器 11 搬送ロール 12 通板ガイド 13 乾燥装置
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 23/50 A 9272−4M

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 被塗布薄板の通板ラインを挟んで設けられ薄板端面へ進
    退自在で端面部に液状フォトレジストを塗布するロール
    と、前記塗布ロールとの接離間隔が変更自在に設けられ
    フォトレジスト液を前記塗布ロールに送る送給ロール
    と、前記送給ロールと前記塗布ロールの対面部にフォト
    レジスト液を供給する装置を設けたことを特徴とする板
    端面フォトレジスト塗布装置。
JP4108118A 1992-03-13 1992-03-13 板端面フォトレジスト塗布装置 Pending JPH05263271A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP4108118A JPH05263271A (ja) 1992-03-13 1992-03-13 板端面フォトレジスト塗布装置

Applications Claiming Priority (1)

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JP4108118A JPH05263271A (ja) 1992-03-13 1992-03-13 板端面フォトレジスト塗布装置

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JPH05263271A true JPH05263271A (ja) 1993-10-12

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ID=14476379

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JP4108118A Pending JPH05263271A (ja) 1992-03-13 1992-03-13 板端面フォトレジスト塗布装置

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