JPH0527263A - 液晶表示装置 - Google Patents
液晶表示装置Info
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- JPH0527263A JPH0527263A JP18125791A JP18125791A JPH0527263A JP H0527263 A JPH0527263 A JP H0527263A JP 18125791 A JP18125791 A JP 18125791A JP 18125791 A JP18125791 A JP 18125791A JP H0527263 A JPH0527263 A JP H0527263A
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- thin film
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Abstract
(57)【要約】
【目的】静電気対策とアレイテスター測定とが両立でき
る液晶表示装置を提供することにある。 【構成】マトリクス配列された画素電極24と、各画素
電極24に設けられた薄膜トランジスタ21と、この薄
膜トランジスタ21を制御する複数本のアドレス線2及
びこれに直交する複数本のデータ線3と、並列接続され
た薄膜トランジスタ10a,10bを介して、アドレス
線2及びデータ線3に接続された、表示領域外に設けら
れた短絡用外周配線1と、薄膜トランジスタ10a,1
0bのゲートとアドレス線2との間に挿設された並列接
続された抵抗体9a,9bとキャパシタ10a,10b
とを備えていることを特徴とする。
る液晶表示装置を提供することにある。 【構成】マトリクス配列された画素電極24と、各画素
電極24に設けられた薄膜トランジスタ21と、この薄
膜トランジスタ21を制御する複数本のアドレス線2及
びこれに直交する複数本のデータ線3と、並列接続され
た薄膜トランジスタ10a,10bを介して、アドレス
線2及びデータ線3に接続された、表示領域外に設けら
れた短絡用外周配線1と、薄膜トランジスタ10a,1
0bのゲートとアドレス線2との間に挿設された並列接
続された抵抗体9a,9bとキャパシタ10a,10b
とを備えていることを特徴とする。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は液晶表示装置に係わり、
特にアレイ基板の改良に関する。
特にアレイ基板の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】液晶表示装置は薄型・軽量であり、低電
圧駆動が可能で更にカラー化も容易である等の特徴を有
し、近年、パーソナルコンピュータ,ワープロなどの表
示装置として利用されている。中でも各画素毎に、スイ
ッチング素子として薄膜トランジスタ(TFT)を設け
たいわゆるアクディブマトリックス型液晶表示装置は、
多画素にしてもコントラスト,レスポンス等の劣化がな
く、更に、中間調表示も可能であることから、フルカラ
ーテレビや、OA用の表示装置として最適な方式であ
る。
圧駆動が可能で更にカラー化も容易である等の特徴を有
し、近年、パーソナルコンピュータ,ワープロなどの表
示装置として利用されている。中でも各画素毎に、スイ
ッチング素子として薄膜トランジスタ(TFT)を設け
たいわゆるアクディブマトリックス型液晶表示装置は、
多画素にしてもコントラスト,レスポンス等の劣化がな
く、更に、中間調表示も可能であることから、フルカラ
ーテレビや、OA用の表示装置として最適な方式であ
る。
【0003】このアクディブマトリックス型液晶表示装
置は、2枚の平面ガラス基板(アレイ基板,対向基板)
と、これら基板間に挟まれた液晶層とからなる基本構成
をとっている。一方のガラス基板、即ち、対向基板上に
は、各画素に対応したカラーフィルター配列と、透明電
極(対向電極)とが形成されており、アレイ基板には、
マトリックス状に配列された透明電極からなる画素電極
と、各画素電極にそのソース電極が接続されたTFTが
設けられている。TFTのゲート電極は、X方向に設け
られたアドレス線に接続され、ドレイン電極はアドレス
線と直角方向に設けられたデータ線に接続されている。
置は、2枚の平面ガラス基板(アレイ基板,対向基板)
と、これら基板間に挟まれた液晶層とからなる基本構成
をとっている。一方のガラス基板、即ち、対向基板上に
は、各画素に対応したカラーフィルター配列と、透明電
極(対向電極)とが形成されており、アレイ基板には、
マトリックス状に配列された透明電極からなる画素電極
と、各画素電極にそのソース電極が接続されたTFTが
設けられている。TFTのゲート電極は、X方向に設け
られたアドレス線に接続され、ドレイン電極はアドレス
線と直角方向に設けられたデータ線に接続されている。
【0004】このように構成された液晶表示装置では、
所定のタイミングでアドレス線,データ線にそれぞれア
ドレス信号,データ信号を印加することにより、各画素
電極に表示に対応した電圧を選択的に印加することがで
きる。液晶層の配向は、即ち、光透過率は、対向電極と
画素電極との電位差で制御でき、これにより任意の表示
が可能となる。詳細はT.P.Brodyらの文献(I
EEE Tvanson Elect.Deu.Vol
ED−20,Nov.1973,pp.995−10
01)に述べられている。
所定のタイミングでアドレス線,データ線にそれぞれア
ドレス信号,データ信号を印加することにより、各画素
電極に表示に対応した電圧を選択的に印加することがで
きる。液晶層の配向は、即ち、光透過率は、対向電極と
画素電極との電位差で制御でき、これにより任意の表示
が可能となる。詳細はT.P.Brodyらの文献(I
EEE Tvanson Elect.Deu.Vol
ED−20,Nov.1973,pp.995−10
01)に述べられている。
【0005】表示特性はスイッチング素子として用いら
れているTFTの性能に大きく依存する。この性能は、
一般的に、電子移動度μn ,しきい値電圧Vth及びオフ
電流Ioff で代表される。いずれの特性も表示特性に対
して重要な因子となり、製造プロセスの管理により所望
の値が維持されている。ところで、TFTはSiICの
MOSトランジスタと同様に一般的に静電気に弱いた
め、静電気を逃がす工夫が液晶表示装置になされてい
る。例えば、製造工程中のTFTアレイ基板では、図9
に示すように、短絡用外周配線1を設けて静電気を逃が
すようにしている。
れているTFTの性能に大きく依存する。この性能は、
一般的に、電子移動度μn ,しきい値電圧Vth及びオフ
電流Ioff で代表される。いずれの特性も表示特性に対
して重要な因子となり、製造プロセスの管理により所望
の値が維持されている。ところで、TFTはSiICの
MOSトランジスタと同様に一般的に静電気に弱いた
め、静電気を逃がす工夫が液晶表示装置になされてい
る。例えば、製造工程中のTFTアレイ基板では、図9
に示すように、短絡用外周配線1を設けて静電気を逃が
すようにしている。
【0006】即ち、アドレス線2とデータ線3との交点
5にTFTと画素電極とからなる単位画素が設けられた
アレイ基板において、全てのアドレス線2及びデータ電
極線3をTFTアレイ領域の外側で短絡用外周配線1と
短絡し、これにより、製造工程中に発生した静電気を、
アドレス線2−外周短絡線1−データ線3を介して瞬時
に放電させることにより、単位画素中のTFTの特性劣
化を防止している。そして製造工程の終了後には、これ
ら外周短絡線1をスクライブによりアレイ基板から切り
離すことにより、各線1,2,3をそれぞれ電気的に分
離し、アドレス線2,データ線3に外部駆動信号をIC
から供給することにより液晶表示装置に信号を与える。
5にTFTと画素電極とからなる単位画素が設けられた
アレイ基板において、全てのアドレス線2及びデータ電
極線3をTFTアレイ領域の外側で短絡用外周配線1と
短絡し、これにより、製造工程中に発生した静電気を、
アドレス線2−外周短絡線1−データ線3を介して瞬時
に放電させることにより、単位画素中のTFTの特性劣
化を防止している。そして製造工程の終了後には、これ
ら外周短絡線1をスクライブによりアレイ基板から切り
離すことにより、各線1,2,3をそれぞれ電気的に分
離し、アドレス線2,データ線3に外部駆動信号をIC
から供給することにより液晶表示装置に信号を与える。
【0007】ところで、液晶表示装置の製造工程は、大
きく分けて、アレイ基板を作成するアレイ工程,カラー
フィルタ層を形成する対向基板製造工程,両基板を組み
立てて、液晶層を注入するセル工程,そして、周辺駆動
回路を設けるモジュール工程とからなる。
きく分けて、アレイ基板を作成するアレイ工程,カラー
フィルタ層を形成する対向基板製造工程,両基板を組み
立てて、液晶層を注入するセル工程,そして、周辺駆動
回路を設けるモジュール工程とからなる。
【0008】TFTを用いたアクティブマトリックス型
液晶表示装置では、各工程が長く、複雑なため、歩留は
TFTを用いない単純マトリックス型液晶表示装置より
も悪い。したがって、各工程で生じる不良品を次工程に
流さないことは、製造コストを下げるうえで極めて重要
である。
液晶表示装置では、各工程が長く、複雑なため、歩留は
TFTを用いない単純マトリックス型液晶表示装置より
も悪い。したがって、各工程で生じる不良品を次工程に
流さないことは、製造コストを下げるうえで極めて重要
である。
【0009】しかしながら、アレイ工程の不良、特に画
素単位の点欠陥不良を、アレイ工程終了後に検査するの
は困難であったため、セル工程終了後に初めてアレイ工
程の不具合が検出されていた。このため、対向基板を無
駄にするばかりでなく、不要なセル工程まで行なうこと
になる。
素単位の点欠陥不良を、アレイ工程終了後に検査するの
は困難であったため、セル工程終了後に初めてアレイ工
程の不具合が検出されていた。このため、対向基板を無
駄にするばかりでなく、不要なセル工程まで行なうこと
になる。
【0010】この問題は、R.Wisniffらが考案
したアレイ基板テスター(109SID Digest
May,1990,pp.190−193)により解
決された。これは、アレイ基板を表示状態に近い駆動で
動作させ、各画素電極の電位を検出するため、点欠陥レ
ベルの不良をも検出することができる。
したアレイ基板テスター(109SID Digest
May,1990,pp.190−193)により解
決された。これは、アレイ基板を表示状態に近い駆動で
動作させ、各画素電極の電位を検出するため、点欠陥レ
ベルの不良をも検出することができる。
【0011】しかしながら、微弱な信号を検出するた
め、検出回路の入力インピーダンスが比較的高いため、
上述したような静電気を放電させる短絡用外周配線1を
用いると、このアレイテスターでのアレイ基板のチェッ
クができないという問題があった。
め、検出回路の入力インピーダンスが比較的高いため、
上述したような静電気を放電させる短絡用外周配線1を
用いると、このアレイテスターでのアレイ基板のチェッ
クができないという問題があった。
【0012】一方、短絡用外周配線1を設けない場合に
は、アレイテスターにより、静電気によるTFTの特性
劣化を含む、アレイ工程中に発生した種々の欠陥を全て
検出でき、次のセル工程に良品のみを流品することは可
能である。
は、アレイテスターにより、静電気によるTFTの特性
劣化を含む、アレイ工程中に発生した種々の欠陥を全て
検出でき、次のセル工程に良品のみを流品することは可
能である。
【0013】しかしながら、この場合、短絡用外周配線
1を設けていないため、アレイ工程及びこの後工程であ
るセル工程で静電気による不良が増加するため、歩留が
低下するという問題が生じる。
1を設けていないため、アレイ工程及びこの後工程であ
るセル工程で静電気による不良が増加するため、歩留が
低下するという問題が生じる。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】上述の如く、従来の液
晶表示装置においては、その製造工程で発生する静電気
によるTFT特性の劣化対策と、アレイ基板の欠陥検出
のためのアレイテスター測定とが両立しないという問題
があった。
晶表示装置においては、その製造工程で発生する静電気
によるTFT特性の劣化対策と、アレイ基板の欠陥検出
のためのアレイテスター測定とが両立しないという問題
があった。
【0015】本発明は、上記事情を考慮してなされたも
ので、その目的とするところは、静電気対策とアレイテ
スター測定とが両立できる液晶表示装置を提供すること
にある。
ので、その目的とするところは、静電気対策とアレイテ
スター測定とが両立できる液晶表示装置を提供すること
にある。
【0016】
【課題を解決するための手段】本発明の骨子は、アドレ
ス線及びデータ線を放電回路を介して短絡用外周配線に
接続したことにある。
ス線及びデータ線を放電回路を介して短絡用外周配線に
接続したことにある。
【0017】即ち、上記の目的を達成するために、本発
明の液晶表示装置は、マトリクス配列された画素電極
と、各画素電極に設けられたスイッチング素子と、この
スイッチング素子を制御する複数本のアドレス線及びこ
れに直交する複数本のデータ線と、並列接続された薄膜
トランジスタを介して、前記アドレス線及び前記データ
線に接続された、表示領域外に設けられた短絡用外周配
線と、前記アドレス線に接続された前記並列接続された
薄膜トランジスタの一方のゲートと前記アドレス線との
間及び他方のゲートと前記短絡用外周配線との間に挿設
された並列接続された抵抗体と容量体と、前記データ線
に接続された前記並列接続された薄膜トランジスタの一
方のゲートと前記データ線との間及び他方のゲートと前
記短絡用外周配線との間に挿設された並列接続された抵
抗体と容量体とを備えたことを特徴とする。
明の液晶表示装置は、マトリクス配列された画素電極
と、各画素電極に設けられたスイッチング素子と、この
スイッチング素子を制御する複数本のアドレス線及びこ
れに直交する複数本のデータ線と、並列接続された薄膜
トランジスタを介して、前記アドレス線及び前記データ
線に接続された、表示領域外に設けられた短絡用外周配
線と、前記アドレス線に接続された前記並列接続された
薄膜トランジスタの一方のゲートと前記アドレス線との
間及び他方のゲートと前記短絡用外周配線との間に挿設
された並列接続された抵抗体と容量体と、前記データ線
に接続された前記並列接続された薄膜トランジスタの一
方のゲートと前記データ線との間及び他方のゲートと前
記短絡用外周配線との間に挿設された並列接続された抵
抗体と容量体とを備えたことを特徴とする。
【0018】
【作用】本発明の液晶表示装置では、アドレス線及びデ
ータ線を並列接続された薄膜トランジスタを介して短絡
用外周配線に接続しているため、正負どちらの電荷がア
ドレス線,データ線に帯電しても、薄膜トランジスタの
ゲートに絶対値がしきい値電圧の電圧が印加されると、
薄膜トランジスタがオンになり、短絡用外周配線に電荷
を流し放電させることができる。
ータ線を並列接続された薄膜トランジスタを介して短絡
用外周配線に接続しているため、正負どちらの電荷がア
ドレス線,データ線に帯電しても、薄膜トランジスタの
ゲートに絶対値がしきい値電圧の電圧が印加されると、
薄膜トランジスタがオンになり、短絡用外周配線に電荷
を流し放電させることができる。
【0019】また、薄膜トランジスタの大きさ、例え
ば、チャネル長,チャネル幅を調整することで、薄膜ト
ランジスタの抵抗を、アレイテスター測定に影響を与え
ない値に設定でき、静電気によるスイッチング素子の特
性防止と両立できる。
ば、チャネル長,チャネル幅を調整することで、薄膜ト
ランジスタの抵抗を、アレイテスター測定に影響を与え
ない値に設定でき、静電気によるスイッチング素子の特
性防止と両立できる。
【0020】また、薄膜トランジスタのゲートとアドレ
ス線との間及び薄膜トランジスタとデータ線との間に容
量体が挿設されているため、薄膜トランジスタのゲート
には、ゲート容量と容量体の容量とで分割された電圧が
印加され、大きな電圧が印加されても薄膜トランジスタ
が絶縁破壊されるという問題は生じない。
ス線との間及び薄膜トランジスタとデータ線との間に容
量体が挿設されているため、薄膜トランジスタのゲート
には、ゲート容量と容量体の容量とで分割された電圧が
印加され、大きな電圧が印加されても薄膜トランジスタ
が絶縁破壊されるという問題は生じない。
【0021】また、薄膜トランジスタのゲートとアドレ
ス線との間及び薄膜トランジスタとデータ線との間に抵
抗体が挿設されているため、容量分割によるゲート電圧
がしきい値電圧より小さい場合でも、アドレス線又はデ
ータ線の電圧がしきい値電圧以上の場合には、その電圧
を抵抗体を介してゲートに印加でき、さらなる放電が期
待できる。
ス線との間及び薄膜トランジスタとデータ線との間に抵
抗体が挿設されているため、容量分割によるゲート電圧
がしきい値電圧より小さい場合でも、アドレス線又はデ
ータ線の電圧がしきい値電圧以上の場合には、その電圧
を抵抗体を介してゲートに印加でき、さらなる放電が期
待できる。
【0022】
【実施例】以下、図面を参照しながら実施例を説明す
る。
る。
【0023】図1は本発明の一実施例に係る液晶表示装
置のアレイ基板の概略構成図、図2は同アレイ基板の交
点5の画素回路を示す図、図3は同アレイ基板中の放電
回路7を示す図である。
置のアレイ基板の概略構成図、図2は同アレイ基板の交
点5の画素回路を示す図、図3は同アレイ基板中の放電
回路7を示す図である。
【0024】ガラス等の透光性絶縁材料からなるアレイ
基板上には、複数本のアドレス線2とこれらに直交する
複数本のデータ線3とが設けられ、それぞれの交点5に
は図2に示される画素回路が設けられている。また、ア
レイ基板の周辺には、アルミニウムからなる短絡用外周
配線1が設けられており、各アドレス線2及びデータ線
3は、図3に示される放電回路7を介して、上記短絡用
外周配線1に接続されている。
基板上には、複数本のアドレス線2とこれらに直交する
複数本のデータ線3とが設けられ、それぞれの交点5に
は図2に示される画素回路が設けられている。また、ア
レイ基板の周辺には、アルミニウムからなる短絡用外周
配線1が設けられており、各アドレス線2及びデータ線
3は、図3に示される放電回路7を介して、上記短絡用
外周配線1に接続されている。
【0025】画素回路は、図2に示したように、活性層
にアモルファスシリコンを用いたnチャンネルのTFT
21と、このTFT21のドレインに接続された透明画
素電極24とで構成されている。TFT21のゲート,
ソースはそれぞれアドレス線2,データ線3に接続され
ている。
にアモルファスシリコンを用いたnチャンネルのTFT
21と、このTFT21のドレインに接続された透明画
素電極24とで構成されている。TFT21のゲート,
ソースはそれぞれアドレス線2,データ線3に接続され
ている。
【0026】放電回路7は、図3に示したように、並列
接続された放電用のTFT10a,10bと、TFT1
0aのゲートとアドレス線2又はデータ線3との間に挿
設された並列接続されたキャパシタ8aと抵抗体9a
と、TFT10bのゲートと短絡用外周配線1との間に
挿設された並列接続されたキャパシタ8bと抵抗体9b
とで構成されている。
接続された放電用のTFT10a,10bと、TFT1
0aのゲートとアドレス線2又はデータ線3との間に挿
設された並列接続されたキャパシタ8aと抵抗体9a
と、TFT10bのゲートと短絡用外周配線1との間に
挿設された並列接続されたキャパシタ8bと抵抗体9b
とで構成されている。
【0027】上記アレイ基板は、これと対向するカラー
フィルター層が設けられた対向基板と共にツイストネマ
チックモードの液晶層22を狭持し、液晶表示パネルを
構成する。また、対向基板の表面には透明対向電極23
が設けられており、この透明対向電極23と透明画素電
極24との電位差により、液晶層22の光透過率を制御
できる。透明画素電極24の電位はTFT21により各
画素独立に制御できるため、任意の表示が可能となる。
なお、図1において6はスクライブラインである。図4
は短絡用外周配線1とデータ線3との間に設けられた、
放電回路7の具体的な構造を示す平面図であり、図5は
そのA−A´断面図である。
フィルター層が設けられた対向基板と共にツイストネマ
チックモードの液晶層22を狭持し、液晶表示パネルを
構成する。また、対向基板の表面には透明対向電極23
が設けられており、この透明対向電極23と透明画素電
極24との電位差により、液晶層22の光透過率を制御
できる。透明画素電極24の電位はTFT21により各
画素独立に制御できるため、任意の表示が可能となる。
なお、図1において6はスクライブラインである。図4
は短絡用外周配線1とデータ線3との間に設けられた、
放電回路7の具体的な構造を示す平面図であり、図5は
そのA−A´断面図である。
【0028】透光性の絶縁基板18上には、モリブデン
タンタルの合金からなるゲート電極14c,14dが設
けられ、これらゲート電極14c,14dは窒化シリコ
ン膜からなるゲート絶縁膜19で覆われている。ゲート
絶縁膜19にはコンタクトホール11c,11dが開孔
され、それぞれゲート電極14c,14dに接続する引
き出し電極17c,17dが設けられている。引き出し
電極17c,17dは、それぞれアモルファスシリコン
からなる抵抗体9c,9dに接続されている。ゲート電
極14c,14d上には、ゲート絶縁膜19を介してそ
れぞれアモルファスシリコンからなる活性層15c,1
5dが設けられている。活性層15c,15d上には、
それぞれ窒化シリコンからなるチャネル保護膜16c,
16dが設けられている。これらゲート電極14c,1
4d、ゲート絶縁膜19、活性層15c,15d、チャ
ネル保護膜16c,16dにより逆スタガー型のTFT
10c,10dが構成されている。また、短絡用外周配
線1とゲート絶縁膜19とゲート電極14cとでキャパ
シタ8cが構成され、データ線3とゲート絶縁膜19と
ゲート電極14dとでキャパシタ8dが構成されてい
る。なお、短絡用外周配線1とアドレス線2との間にも
全く同様の放電回路7を設けてある。このように構成さ
れたアレイ基板では次のようにして静電気によるTFT
21の低下が防止される。図6は上記アレイ基板からな
る液晶表示装置の模式的な等価回路図である。
タンタルの合金からなるゲート電極14c,14dが設
けられ、これらゲート電極14c,14dは窒化シリコ
ン膜からなるゲート絶縁膜19で覆われている。ゲート
絶縁膜19にはコンタクトホール11c,11dが開孔
され、それぞれゲート電極14c,14dに接続する引
き出し電極17c,17dが設けられている。引き出し
電極17c,17dは、それぞれアモルファスシリコン
からなる抵抗体9c,9dに接続されている。ゲート電
極14c,14d上には、ゲート絶縁膜19を介してそ
れぞれアモルファスシリコンからなる活性層15c,1
5dが設けられている。活性層15c,15d上には、
それぞれ窒化シリコンからなるチャネル保護膜16c,
16dが設けられている。これらゲート電極14c,1
4d、ゲート絶縁膜19、活性層15c,15d、チャ
ネル保護膜16c,16dにより逆スタガー型のTFT
10c,10dが構成されている。また、短絡用外周配
線1とゲート絶縁膜19とゲート電極14cとでキャパ
シタ8cが構成され、データ線3とゲート絶縁膜19と
ゲート電極14dとでキャパシタ8dが構成されてい
る。なお、短絡用外周配線1とアドレス線2との間にも
全く同様の放電回路7を設けてある。このように構成さ
れたアレイ基板では次のようにして静電気によるTFT
21の低下が防止される。図6は上記アレイ基板からな
る液晶表示装置の模式的な等価回路図である。
【0029】TFTアレイ基板の製造工程において、正
の静電気12がアドレス線2に帯電したとする。このと
き、アドレス線2とデータ線3との間には、静電気12
に対応した電圧Vc が印加された状態となっている。
の静電気12がアドレス線2に帯電したとする。このと
き、アドレス線2とデータ線3との間には、静電気12
に対応した電圧Vc が印加された状態となっている。
【0030】上述したように、アドレス線2は放電用の
TFT10a,10bを介して短絡用外周配線1に接続
され、データ線3は放電用のTFT10c,10dを介
して短絡用外周配線1に接続されているため、アドレス
線2−短絡用外周配線1間,データ線3−短絡用外周配
線1間には、それぞれVc =Va +Vb の関係を満たす
電圧Va ,Vb が印加される。TFT10aのゲート電
極には、電圧Va を容量8a及びTFT10aのゲート容
量により分割された電圧が印加される。同様にTFT1
0b,10c,10dのゲート電極にも電圧が印加され
る。この結果、放電用のTFT10a〜10dのゲート
電極に、しきい値電圧Vth以上の電圧が印加されると、
TFT10a〜10dがオン状態となり電流が流れ、静
電気12は消滅し、スイッチングトランジスタとしての
TFT21の特性劣化を防止することができる。
TFT10a,10bを介して短絡用外周配線1に接続
され、データ線3は放電用のTFT10c,10dを介
して短絡用外周配線1に接続されているため、アドレス
線2−短絡用外周配線1間,データ線3−短絡用外周配
線1間には、それぞれVc =Va +Vb の関係を満たす
電圧Va ,Vb が印加される。TFT10aのゲート電
極には、電圧Va を容量8a及びTFT10aのゲート容
量により分割された電圧が印加される。同様にTFT1
0b,10c,10dのゲート電極にも電圧が印加され
る。この結果、放電用のTFT10a〜10dのゲート
電極に、しきい値電圧Vth以上の電圧が印加されると、
TFT10a〜10dがオン状態となり電流が流れ、静
電気12は消滅し、スイッチングトランジスタとしての
TFT21の特性劣化を防止することができる。
【0031】以上の説明では、正の静電気12がアドレ
ス線に帯電したとしたが、負の静電気の場合にも同様
に、TFT21の特性劣化を防止することができる。何
故なら、並列接続されたTFT10a,10b及びTF
T10c,10dは、図7に示すような双極性の電流I
−電圧V特性となるため、アドレス線2に帯電した静電
気の極性にかかわらずその静電気を放電できるからであ
る。
ス線に帯電したとしたが、負の静電気の場合にも同様
に、TFT21の特性劣化を防止することができる。何
故なら、並列接続されたTFT10a,10b及びTF
T10c,10dは、図7に示すような双極性の電流I
−電圧V特性となるため、アドレス線2に帯電した静電
気の極性にかかわらずその静電気を放電できるからであ
る。
【0032】更に、上記電流Iは、ゲート電圧VG とし
きい値電圧Vthとの差の二乗に比例するため、静電気が
大きいほど、放電能力が高くなり、瞬時に静電気を放電
でき、TFT21の劣化を防止することができる。ま
た、キャパシタ8a〜8dは、静電気による電圧が著し
く高い場合でも、それぞれTFT10a〜10dのゲー
ト電極に印加される電圧を分割し、低減させる効果があ
るため、TFT10a〜10dのゲート絶縁膜破壊を防
止することができる。また、キャパシタ8a〜8dの値
は製造プロセス中に発生する最大静電気量に対して多少
の余裕をもたすように設定することにより、TFT10
a〜10dの絶縁破壊を確実に防止できる。また、抵抗
体9aは、アドレス線2,データ線3の電圧を容量分割
でなく、直接TFT10aのゲート電極に印加するため
に設けてある。
きい値電圧Vthとの差の二乗に比例するため、静電気が
大きいほど、放電能力が高くなり、瞬時に静電気を放電
でき、TFT21の劣化を防止することができる。ま
た、キャパシタ8a〜8dは、静電気による電圧が著し
く高い場合でも、それぞれTFT10a〜10dのゲー
ト電極に印加される電圧を分割し、低減させる効果があ
るため、TFT10a〜10dのゲート絶縁膜破壊を防
止することができる。また、キャパシタ8a〜8dの値
は製造プロセス中に発生する最大静電気量に対して多少
の余裕をもたすように設定することにより、TFT10
a〜10dの絶縁破壊を確実に防止できる。また、抵抗
体9aは、アドレス線2,データ線3の電圧を容量分割
でなく、直接TFT10aのゲート電極に印加するため
に設けてある。
【0033】即ち、放電の初期では、過渡現象的に電圧
Vaが変化するため、抵抗体9aは無視でき、この結
果、TFT10aのゲート電極に印加される電圧は、キ
ャパシタ8aの容量とTFT10aのゲート容量とで分
割された電圧となる。このとき、ゲート電圧VG がしき
い値電圧Vthより小さくなると、TFT10aがオフと
なり、放電が終了する。
Vaが変化するため、抵抗体9aは無視でき、この結
果、TFT10aのゲート電極に印加される電圧は、キ
ャパシタ8aの容量とTFT10aのゲート容量とで分
割された電圧となる。このとき、ゲート電圧VG がしき
い値電圧Vthより小さくなると、TFT10aがオフと
なり、放電が終了する。
【0034】しかしながら、ゲート電圧VG がしきい値
電圧Vthより小さくなっても、すぐにアドレス線2,デ
ータ線3の電圧がしきい値電圧Vthより小さくなるので
はなく、定常状態で且つアドレス線2,データ線3の電
圧がしきい値電圧Vth以上の期間がある。このとき、キ
ャパシタ8aは無視でき、抵抗体9aを介してしきい値
電圧Vth以上の電圧をゲート電極に印加でき、更に放電
を行なうことができる。この結果、アドレス線2,デー
タ線3の電圧をしきい値電圧Vthにまで下げることがで
き、TFT21の特性劣化を防止できる。なお、抵抗体
9b〜9dも同様な目的で設けてある。
電圧Vthより小さくなっても、すぐにアドレス線2,デ
ータ線3の電圧がしきい値電圧Vthより小さくなるので
はなく、定常状態で且つアドレス線2,データ線3の電
圧がしきい値電圧Vth以上の期間がある。このとき、キ
ャパシタ8aは無視でき、抵抗体9aを介してしきい値
電圧Vth以上の電圧をゲート電極に印加でき、更に放電
を行なうことができる。この結果、アドレス線2,デー
タ線3の電圧をしきい値電圧Vthにまで下げることがで
き、TFT21の特性劣化を防止できる。なお、抵抗体
9b〜9dも同様な目的で設けてある。
【0035】また、アレイテスター測定は、アレイテス
ターによりアドレス線2又はデータ線3に印加される電
圧の範囲において、測定に影響を与えない程度の高抵抗
となるようにTFT10a〜10dの大きさを設定する
ことで行なうことができる。なお、高圧の静電気放電で
は十分低いインピーダンスとなるため、放電能力は十分
確保することができる。
ターによりアドレス線2又はデータ線3に印加される電
圧の範囲において、測定に影響を与えない程度の高抵抗
となるようにTFT10a〜10dの大きさを設定する
ことで行なうことができる。なお、高圧の静電気放電で
は十分低いインピーダンスとなるため、放電能力は十分
確保することができる。
【0036】具体的には、TFT10c,10dに関し
ては、チャネル長を12μm,チャネル巾を500μm
とし、短絡用外周配線1とデータ線3との間に、例え
ば、20Vの電圧が印加されたとき、チャンネル抵抗が
ほぼ200kΩになるように設定する。また、キャパシ
タ8c,8dの容量を約1.5pFに設定し、TFT1
0c,10dのゲート電極に、データ線3に発生した静
電気の約半分程度の電圧が印加されるように設定する。
また、抵抗体9c,9dの抵抗は、約100MΩに設定
する。即ち、抵抗値が一本のデータ線3の抵抗値より高
く設定する。また、TFT10c,10d,キャパシタ
8c,8d,抵抗体9a,9dも同様に設定する。この
場合、抵抗体9a,9dの抵抗値が一本のアドレス線2
の抵抗値より高く設定する。
ては、チャネル長を12μm,チャネル巾を500μm
とし、短絡用外周配線1とデータ線3との間に、例え
ば、20Vの電圧が印加されたとき、チャンネル抵抗が
ほぼ200kΩになるように設定する。また、キャパシ
タ8c,8dの容量を約1.5pFに設定し、TFT1
0c,10dのゲート電極に、データ線3に発生した静
電気の約半分程度の電圧が印加されるように設定する。
また、抵抗体9c,9dの抵抗は、約100MΩに設定
する。即ち、抵抗値が一本のデータ線3の抵抗値より高
く設定する。また、TFT10c,10d,キャパシタ
8c,8d,抵抗体9a,9dも同様に設定する。この
場合、抵抗体9a,9dの抵抗値が一本のアドレス線2
の抵抗値より高く設定する。
【0037】このように設定することで、アレイテスタ
ーにより、アドレス線2,データ線3の各電極パッド4
にプロービングしても、プローブから見た短絡用外周配
線1のインピーダンスが高いため、測定が可能となる。
また、アレイテスターから各電極パッド4に印加される
最大電圧は20Vであるため、このインピーダンスは最
少で約200kΩあり、測定には全く問題はなかった。
ーにより、アドレス線2,データ線3の各電極パッド4
にプロービングしても、プローブから見た短絡用外周配
線1のインピーダンスが高いため、測定が可能となる。
また、アレイテスターから各電極パッド4に印加される
最大電圧は20Vであるため、このインピーダンスは最
少で約200kΩあり、測定には全く問題はなかった。
【0038】また、液晶パネルの製造工程中で発生する
静電気は、最大で約500〜1000Vに達すると推定
されるが、1kVが印加されたとき、TFTのゲートに
は約500Vの電圧が瞬間的に加わる。しかしオン抵抗
は(20/500)2 ×200=160Ωとなり、静電
気は極めて短時間に放電される。なお、キャパシタ8
c,8dを設けなったところ、TFTのゲート電極には
直接1kVの電位が加わり、TFT10c又はTFT1
0dのゲート絶縁膜が破壊される場合もあった。しか
し、キャパシタ8c,8dを設けた場合には、絶縁破壊
を皆無にすることができた。
静電気は、最大で約500〜1000Vに達すると推定
されるが、1kVが印加されたとき、TFTのゲートに
は約500Vの電圧が瞬間的に加わる。しかしオン抵抗
は(20/500)2 ×200=160Ωとなり、静電
気は極めて短時間に放電される。なお、キャパシタ8
c,8dを設けなったところ、TFTのゲート電極には
直接1kVの電位が加わり、TFT10c又はTFT1
0dのゲート絶縁膜が破壊される場合もあった。しか
し、キャパシタ8c,8dを設けた場合には、絶縁破壊
を皆無にすることができた。
【0039】かくして本実施例によれば、静電気の放電
を確実に行なうことができ、且つアレイテスターによる
測定も支障なくできるアレイ基板を得ることができる。
しかも、放電用のTFT10は、放電回路7に高電圧が
印加されても、絶縁破壊されることはない。
を確実に行なうことができ、且つアレイテスターによる
測定も支障なくできるアレイ基板を得ることができる。
しかも、放電用のTFT10は、放電回路7に高電圧が
印加されても、絶縁破壊されることはない。
【0040】また、短絡用外周配線1,放電回路7は、
液晶パネルの完成後に切り離しても良いが、そのまま残
しても液晶表示装置を実現することも可能である。この
場合、電極パッド4に接続される周辺ドライバーICの
出力インピーダンスよりも十分高い抵抗となるように放
電用のTFT10の寸法を決めておけばよい。
液晶パネルの完成後に切り離しても良いが、そのまま残
しても液晶表示装置を実現することも可能である。この
場合、電極パッド4に接続される周辺ドライバーICの
出力インピーダンスよりも十分高い抵抗となるように放
電用のTFT10の寸法を決めておけばよい。
【0041】なお、本発明は上述した実施例に限定され
るものではない。例えば、アドレス線2,信号線3の静
電気を更に完全に放電させるために、図8に示すよう
に、高抵抗13を設けた放電回路を用いても良い。この
場合、抵抗体9,13を介した放電は、TFT10を介
した放電よりも時間がかかるが、アドレス線2,データ
3の電圧が十分低いため、TFT21の特性が劣化する
問題は生じない。
るものではない。例えば、アドレス線2,信号線3の静
電気を更に完全に放電させるために、図8に示すよう
に、高抵抗13を設けた放電回路を用いても良い。この
場合、抵抗体9,13を介した放電は、TFT10を介
した放電よりも時間がかかるが、アドレス線2,データ
3の電圧が十分低いため、TFT21の特性が劣化する
問題は生じない。
【0042】また、上記実施例では、短絡用外周配線1
をアレイ基板の外周に設けたが、TFTアレイ部の外周
に設けても良い。要は表示領域外であれば良い。また、
直列接続された複数個のキャパシターを用いても良い。
更にまた、薄膜トランジスタ以外のトランジスタを用い
ても良い。その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、
種々変形して実施できる。
をアレイ基板の外周に設けたが、TFTアレイ部の外周
に設けても良い。要は表示領域外であれば良い。また、
直列接続された複数個のキャパシターを用いても良い。
更にまた、薄膜トランジスタ以外のトランジスタを用い
ても良い。その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、
種々変形して実施できる。
【0043】
【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、ア
ドレス線及びデータ線を並列接続された薄膜トランジス
タからなる放電回路を介して短絡用外周配線に接続して
いるため、静電気によるスイッチング素子の特性劣化
と、アレイ基板の欠陥検出のためのアレイテスター測定
が両立できる。
ドレス線及びデータ線を並列接続された薄膜トランジス
タからなる放電回路を介して短絡用外周配線に接続して
いるため、静電気によるスイッチング素子の特性劣化
と、アレイ基板の欠陥検出のためのアレイテスター測定
が両立できる。
【図1】本発明の一実施例に係る液晶表示装置のアレイ
基板の概略構成図。
基板の概略構成図。
【図2】図1のアレイ基板の画素回路を示す図。
【図3】図1のアレイ基板中の放電回路を示す図。
【図4】放電回路の具体的な構造を示す平面図。
【図5】図4の平面図のA−A´断面図。
【図6】図1のアレイ基板からなる液晶表示装置の模式
的な等価回路図。
的な等価回路図。
【図7】放電回路のTFTの電流と電圧との関係を示す
特性図。
特性図。
【図8】高抵抗体を設けた放電回路。
【図9】従来の静電気防止策を説明するための図。
1…短絡用外周配線、2…アドレス線、3…データ線、
4…電極パッド、6…スクライブライン、7…放電回
路、8a〜8d…キャパシタ、9a〜9d…抵抗体、1
0a〜10d,11c,11d…コンタクトホール、1
2…静電気、13…高抵抗体、14c,14d…ゲート
電極、15c,15d…活性層、16c,16d…チャ
ネル保護膜、17c,17d…取り出し電極、18…基
板、19…ゲート絶縁膜、21…TFT、22…液晶
層、23…透明対向電極、24…透明画素電極。
4…電極パッド、6…スクライブライン、7…放電回
路、8a〜8d…キャパシタ、9a〜9d…抵抗体、1
0a〜10d,11c,11d…コンタクトホール、1
2…静電気、13…高抵抗体、14c,14d…ゲート
電極、15c,15d…活性層、16c,16d…チャ
ネル保護膜、17c,17d…取り出し電極、18…基
板、19…ゲート絶縁膜、21…TFT、22…液晶
層、23…透明対向電極、24…透明画素電極。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項1】マトリクス配列された画素電極と、 各画素電極に設けられたスイッチング素子と、 このスイッチング素子を制御する複数本のアドレス線及
びこれに直交する複数本のデータ線と、 並列接続された薄膜トランジスタを介して、前記アドレ
ス線及び前記データ線に接続された、表示領域外に設け
られた短絡用外周配線と、 前記アドレス線に接続された前記並列接続された薄膜ト
ランジスタの一方のゲートと前記アドレス線との間及び
他方のゲートと前記短絡用外周配線との間に挿設された
並列接続された抵抗体と容量体と、 前記データ線に接続された前記並列接続された薄膜トラ
ンジスタの一方のゲートと前記データ線との間及び他方
のゲートと前記短絡用外周配線との間に挿設された並列
接続された抵抗体と容量体とを有することを特徴とする
液晶表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18125791A JPH0527263A (ja) | 1991-07-22 | 1991-07-22 | 液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18125791A JPH0527263A (ja) | 1991-07-22 | 1991-07-22 | 液晶表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0527263A true JPH0527263A (ja) | 1993-02-05 |
Family
ID=16097542
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18125791A Pending JPH0527263A (ja) | 1991-07-22 | 1991-07-22 | 液晶表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0527263A (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5606340A (en) * | 1993-08-18 | 1997-02-25 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Thin film transistor protection circuit |
| WO1997013177A1 (fr) * | 1995-10-03 | 1997-04-10 | Seiko Epson Corporation | Substrat a matrice active |
| KR20060035118A (ko) * | 2004-10-21 | 2006-04-26 | 김종하 | 엘피지 차량의 엘피엘아이 시스템용 가변식 엘피지압력조절장치 |
| JP2008170920A (ja) * | 2007-01-15 | 2008-07-24 | Samsung Sdi Co Ltd | 有機電界発光表示装置及びその製造方法 |
| JPWO2007055047A1 (ja) * | 2005-11-10 | 2009-04-30 | シャープ株式会社 | 表示装置およびそれを備える電子機器 |
| JP2009187029A (ja) * | 1999-08-31 | 2009-08-20 | Sharp Corp | 液晶表示装置 |
| JP2010049149A (ja) * | 2008-08-25 | 2010-03-04 | Mitsubishi Electric Corp | Tft基板及びその製造方法 |
| CN103176324A (zh) * | 2011-12-20 | 2013-06-26 | 株式会社日本显示器中部 | 液晶显示装置 |
| WO2015029938A1 (ja) | 2013-08-30 | 2015-03-05 | 株式会社 東芝 | アレイ基板、放射線検出器、および配線基板 |
| JP2016072601A (ja) * | 2014-09-29 | 2016-05-09 | パナソニックIpマネジメント株式会社 | 太陽電池の製造方法 |
| CN112992999A (zh) * | 2021-02-10 | 2021-06-18 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示母板及显示面板 |
| CN115598506A (zh) * | 2022-10-28 | 2023-01-13 | 京东方科技集团股份有限公司(Cn) | 阵列基板的维修方法、装置、电子设备及存储介质 |
-
1991
- 1991-07-22 JP JP18125791A patent/JPH0527263A/ja active Pending
Cited By (18)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5606340A (en) * | 1993-08-18 | 1997-02-25 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Thin film transistor protection circuit |
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| USRE38292E1 (en) | 1995-10-03 | 2003-10-28 | Seiko Epson Corporation | Method to prevent static destruction of an active element comprised in a liquid crystal display device |
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| JP2013130651A (ja) * | 2011-12-20 | 2013-07-04 | Japan Display Central Co Ltd | 液晶表示装置 |
| WO2015029938A1 (ja) | 2013-08-30 | 2015-03-05 | 株式会社 東芝 | アレイ基板、放射線検出器、および配線基板 |
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| CN112992999A (zh) * | 2021-02-10 | 2021-06-18 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示母板及显示面板 |
| CN112992999B (zh) * | 2021-02-10 | 2024-04-16 | 京东方科技集团股份有限公司 | 显示母板及显示面板 |
| CN115598506A (zh) * | 2022-10-28 | 2023-01-13 | 京东方科技集团股份有限公司(Cn) | 阵列基板的维修方法、装置、电子设备及存储介质 |
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