JPH05273120A

JPH05273120A - 偏光解析装置

Info

Publication number: JPH05273120A
Application number: JP7084292A
Authority: JP
Inventors: Keiko Okada; 恵子岡田
Original assignee: Hoya Corp
Current assignee: Hoya Corp
Priority date: 1992-03-27
Filing date: 1992-03-27
Publication date: 1993-10-22

Abstract

(57)【要約】【目的】試料について測定可能な物理的性質の種類を
従来より多くでき、多種多様な計測用途に適合できる偏
光解析装置を実現する。【構成】測定用試料２を試料固定台１に固定して測定
を行なう。ここで、試料２が試料表面２ａの法線回りの
方位によって物理的性質を変化させるようなものであれ
ば、試料台回転装置４によって試料２を回転させて各回
転位置で測定を行ない、所望の測定結果を得る。なお、
測定を開始する前に、予め煽り調節装置１２によって、
回転装置４が回転してもその前後での試料表面２ａに対
する入射角が同一になるように調節しておく。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、試料の屈折率、吸収係
数、膜厚等の物理的性質を測定する偏光解析装置に関
し、特に、測定可能な物理的性質を増大させようとした
ものである。

【０００２】

【従来の技術】試料の屈折率、吸収係数、膜厚等の物理
的性質の測定を、偏光解析法に従って行なう偏光解析装
置が存在する。例えば、実開平２−２５８３８号公報に
記載されている。

【０００３】この公報記載の偏光解析装置は、偏光光を
試料表面に入射し、その反射光の偏光状態を検出するこ
とにより試料表面の膜厚を測定するものであり、試料を
載置する試料台をその載置面と平行に移動させる試料台
移動手段を備えたことを特徴とするものである。

【０００４】図７は、この公報に記載された偏光解析装
置の概略構成図である。図７において、Ｈｅ−Ｎｅレー
ザ光源２１から射出されたレーザ光は、外来光の影響を
除去するチョッパ２２を通過した後、回転調節可能なポ
ラライザ２３及びλ／４板２４を順次通過することで所
定の偏光光に変換されて試料２８に入射される。試料２
８の表面の屈折率や膜厚に応じた偏光状態を有する反射
光は、回転可能なアナライザ２５を通過することで所定
方向の振動面を有する成分光にされた後、ディテクタ２
６によって光電変換されて試料の膜厚を演算によって求
める図示しない演算装置に与えられる。この演算装置に
は、ポラライザ２３やアナライザ２５の位置情報も与え
られており、演算装置は、これらポラライザ２３やアナ
ライザ２５の位置を調整しながら得たディテクタ２６か
らの受光量情報に基づいて試料２８の膜厚を測定する。

【０００５】ここで、試料２８は試料台２７上に載置さ
れている。試料台２７は、ステージ駆動装置２９のアー
ム２９ａで支持されており、ステージ駆動装置２９がア
ーム２９ａを動かすことにより、試料台２７をその試料
２８の載置面と平行な面内、すなわち試料台２７を図７
の左右・前後方向に移動させることができる。すなわ
ち、試料の複数点での膜厚測定を迅速に行なうことがで
きるようにしている。

【０００６】なお、上記公報に記載の偏光解析装置は膜
厚測定を意図したものであるが、試料の複数点の屈折率
や吸収係数等の光学特性を測定する場合にも適用でき
る。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところで、試料の物理
的性質を測定する計測装置は、その計測装置単体で計測
し得る物理的性質が多い程好ましいことは当然である。
この点から言えば、従来の偏光解析装置は、試料の屈折
率や吸収係数や膜厚等の複数の物理的性質を計測できて
良好なものと言うことができるが、それでも限界があ
り、未だ不十分である。

【０００８】すなわち、従来の偏光解析装置は、各種文
献にも記載されているように、光学的等方性を有する試
料を対象としたものであり、試料台の載置面に平行に試
料を移動可能な偏光解析装置であっても試料が光学的等
方性を有することを要件としている。すなわち、従来の
偏光解析装置は、光学的異方性を有する試料を対象とす
る測定には用いられていなかった。これは、光学的異方
性を有する試料の光学特性等の物理的性質を測定する場
合には、試料表面の法線を中心にどのような角度で偏光
光を入射するかによって得られる値が異なるためであ
る。

【０００９】実際上、光学的異方性を有する試料につい
ての物理的性質も測定の必要が生じることがある。この
場合、従来は、偏光解析装置とは異なる光計測装置によ
って測定を行なっていた。例えば、光学的異方性を有す
る試料の屈折率の測定には、いわゆるＶブロックを用い
た測定方法が採用されていた（例えば、特開昭６１−１
６９８４８号公報）。しかし、この方法では他の物理的
性質を測定できないものであった。さらに、破壊検査で
あること、大きいバルク試料が必要であること、検査し
たものを利用することができないこと等の偏光解析装置
による測定では問題とならない問題を有するものであっ
た。

【００１０】また、光学的等方性を有する試料を測定対
象とした場合でも、従来の偏光解析装置が測定可能な物
理的性質は上述したように限定され、例えば、光学的等
方性を有する結晶面に平行に切り出した試料が真に平行
に切り出されているか等を確認することはできない。

【００１１】本発明は、以上の点を考慮してなされたも
のであり、試料の測定可能な物理的性質の種類を従来よ
り多くでき、多種多様な計測用途に適合できる偏光解析
装置を提供しようとしたものである。

【００１２】

【課題を解決するための手段】かかる課題を解決するた
め、本発明においては、偏光光を試料表面に入射し、そ
の反射光の偏光状態に基づいて試料の物理的性質を測定
する偏光解析装置において、試料を固定する試料固定
台、又は、試料表面に偏光光を入射してそれからの反射
光を光学処理する光学系の少なくとも一方が、試料表面
の法線を軸とする回転機構を備えたことを特徴とする。

【００１３】ここで、回転機構を備えた試料固定台又は
光学系が、回転機構による回転がなされた場合にもその
前後での試料に対する入射角を同一とするように調節で
きる煽り調節装置を備えていることが好ましい。

【００１４】

【作用】本発明の偏光解析装置においては、測定用の試
料を試料固定台に固定して測定を行なう。ここで、試料
が試料表面の法線回りの方位によって物理的性質を変化
させるものであったり、試料表面の法線回りの複数の方
位から光を入射することで結果が得られる物理的性質を
有するものであれば、回転機構によって試料をその試料
の測定面の法線を軸として回転させて各回転位置で測定
することによって、所望の測定結果を得ることができ
る。

【００１５】例えば、光学的異方性を有する材料表面の
屈折率や吸収係数の角度依存性や、未知材質の光学的異
方性の有無や、光学的異方性を有する結晶面に平行に測
定面が切り出されているか等を測定することができる。

【００１６】ここで、回転機構による回転がなされた場
合にその前後で試料に対する入射角が変化するのであれ
ば、所望の測定を正確に行なうことができない。そこ
で、回転機構を備えた試料固定台又は光学系に煽り調節
装置を設けて、この煽り調節装置による調節によって、
回転機構による回転がなされた場合にもその前後での試
料表面に対する入射角を同一とすることが好ましい。

【００１７】

【実施例】以下、本発明の一実施例を図面を参照しなが
ら詳述する。ここで、図１はこの実施例による偏光解析
装置の概略構成図である。

【００１８】図１において、試料２の表面２ａには、Ｈ
ｅ−Ｎｅレーザ光源５が射出した出射光が光軸周りに回
転可能な偏光子６、コリメータレンズ７及び１／４波長
板８を順次介して照射される。すなわち、Ｈｅ−Ｎｅレ
ーザ光源５からの出射光が、偏光子６によって所定方位
角の偏光光に変換された後、コリメータレンズ７によっ
て平行光にされ、１／４波長板８によってさらにＰ成分
及びＳ成分に１／４波長の位相差が付与された後、試料
２の表面に照射される。試料２の表面２ａで反射され光
は試料２の物理的性質が反映された偏光状態を有し、光
軸周りに回転可能な検光子９及びフィルタ１０を順次介
して半導体光検出器１１に入射される。すなわち、反射
光のうち所定方位角の成分が検光子９を通過し、フィル
タ１０によってレーザ光源５からの光以外の光が除去さ
れ、その後、半導体光検出器１１によって光電変換され
る。

【００１９】そして、図示しない演算装置が、例えば半
導体光検出器１１からの受光量情報等に応じて偏光子６
や検光子９の方位角（回転位置）を制御し、受光量情報
や回転位置情報に基づいて、試料２についての所望する
物理的性質を表す値を算出する。

【００２０】以上のような測定光学系によって測定され
る試料２は、試料固定台１に固定されている。この実施
例による試料固定台１は、後述するように、試料２の測
定面２ａの照射位置を通る法線を軸として回転できるよ
うになされており、この点、従来の偏光解析装置とは大
きく異なっている。

【００２１】図１は、この試料固定台１を概略的に示し
ている。試料固定台１は、試料２を載置する試料台３
と、試料台３の載置面３ａの傾きを調節する煽り調節装
置１２と、試料台３を回転可能に制御する試料台回転装
置４とから構成されている。この実施例においては、試
料台３と煽り調節装置１２とは一体に構成されている。
また、試料台回転装置４は、固定台４ａと回転つまみ４
ｂとから構成されている。

【００２２】図２はこの試料固定台１の斜視図である。
固定台４ａには、例えば５度刻みの固定的な回転量目盛
が２５度の範囲で付されており、固定台４ａの上部に設
けられている回転つまみ４ｂには、例えば３０度刻みの
回転量目盛が３６０度の範囲で付されており、これら目
盛を合わせることによって回転つまみ４ｂを３６０度の
範囲内の任意角度だけ正確に回転できるようになされて
いる。

【００２３】煽り調節装置１２は、第１及び第２の調節
機構１２ａ及び１２ｂからなり、第１の調節機構１２ａ
による載置面３ａの傾斜角調節方向と、第２の調節機構
１２ｂによる載置面３ａの傾斜角調節方向とは直交する
関係にある。従って、第１及び第２の調節機構１２ａ及
び１２ｂの調節によって、載置面３ａを任意の方向に傾
斜させることができる。

【００２４】第１の調節機構１２ａは、詳細には、回転
つまみ４ｂの上部に固定的に設けられた凸状あり溝部を
有する固定部１２ａ１と、その上部に可動的に設けられ
た凹状あり溝部を有する可動部１２ａ２と、調整ねじ１
２ａ３とからなる。固定部１２ａ１及び可動部１２ａ２
は、両あり溝部をも含めて円筒の側面をなす摺動面を介
して接触しており、その摺動面の内部は開口されてい
る。この図示しない開口部で、固定部１２ａ１に設けら
れている調整ねじ１２ａ３と可動部１２ａ２に設けられ
ている係合ねじとが螺合しており、調整ねじ１２ａ３の
回転によって可動部１２ａ２が揺動し得るように、従っ
て載置面３ａが所定方向に傾斜し得るようになされてい
る。なお、載置面３ａの傾斜量を測定者が認識し得るよ
うに、第１の調節機構１２ａの側面には目盛が付されて
いる。

【００２５】第２の調節機構１２ｂは、第１の調節機構
１２ａと同様な構成を有するのでその説明は省略する。

【００２６】以上の概略構成を有する実施例の偏光解析
装置は、従来と同様な試料の物理的性質を測定すること
ができる。すなわち、光学的等方性を有する試料の屈折
率や吸収係数や膜厚を測定することができる。

【００２７】これに加えて、実施例の偏光解析装置にお
いては、試料２の測定面２ａを回転できることから、新
たな物理的性質をも測定することができる。例えば、光
学的異方性を有する物質であるか否か、光学的異方性を
有する試料の屈折率や吸収係数等の角度依存性（試料表
面の法線回りの角度による特性値の変化の仕方）、測定
面２ａの結晶面に対する平行性等を測定することができ
る。

【００２８】このように、試料２を回転させて物理的性
質を測定する場合、予め煽り調節装置１２を用いて試料
２の表面（測定面）２ａの照射位置を通る法線に試料台
回転装置４の回転軸を一致させることを要する。これ
は、法線に試料台回転装置４の回転軸を一致していない
場合には、回転に伴って入射角が変化し、この入射角の
変化が測定結果に悪影響を与えるためである。

【００２９】このような煽り調節を行なった後、試料２
を所定量だけ回転させてはその状態で測定を行ない、こ
のような各回転位置での測定を繰返して所望する物理的
性質の測定結果を得る。

【００３０】実際上、実施例の偏光解析装置を用いて各
回転位置での屈折率を求めることが多い。試料２の測定
面２ａが光学的異方性を有する場合には、この屈折率の
値から回転角度−屈折率の特性曲線（屈折率の角度依存
性）が得られる。各回転位置を細かく設定すれば、回転
角度−屈折率の特性曲線として良好なものが得られる
が、測定時間等を考慮すると５度程度ずつ異ならせて測
定することが好ましい。このようにした場合には、回転
角度−屈折率の特性曲線として連続する滑らかな曲線を
得ることができない。そこで、ある程度の角度（例えば
５度）ずつ回転させて回転角度と屈折率との関係を得た
場合には、その測定結果を処理することで回転角度−屈
折率の連続する特性曲線を求める。

【００３１】異方性結晶についての屈折率楕円体の方程
式は、周知のように、次の(1) 式によって与えられる。

【００３２】

【数１】なお、(1) 式において、ｎmax は異方性結晶の屈折率の
最大値、ｎmin は異方性結晶の屈折率の最小値、そし
て、θは屈折率の最小値ｎmin を取る位置からの法線軸
回りの角度であってその位置での屈折率がｎ（θ）であ
る。

【００３３】従って、(1) 式の方程式を求める曲線の理
論式として適用して、各回転角度で得られた実際の試料
２の測定屈折率を、最小自乗法により最適化することで
試料２についてある回転角度ずつで測定しても連続する
回転角度−屈折率の特性曲線を得ることができる。

【００３４】光学的異方性を有する試料に対して、従来
のように試料２の測定面２ａの法線を軸とした回転を許
容しない試料固定台を備えた偏光解析装置で測定して
も、ただ一方向からの屈折率が得られるに過ぎず、全方
向からの屈折率を得ようとすると試料を一々回転操作さ
せて求めるほかなく、従って、この実施例の偏光解析装
置によれば、従来に比較して精度・信頼度がはるかに向
上したものとなる。

【００３５】以上、実施例の偏光解析装置によって、光
学的異方性を有する試料２についての回転角度−屈折率
の特性曲線（屈折率の角度依存性）を得られることを説
明したが、以下では、回転角度と測定屈折率との関係か
ら、屈折率の角度依存性と共に他の物理的性質をも測定
できることを例を上げて説明する。

【００３６】図３は、一軸性結晶であるルチル（ＴｉＯ
₂）単結晶の基本構造を、ａ−ｂ−ｃ軸内に示したもの
である。ルチル単結晶は（００１）面において光学的等
方性を有し、（１００）面と（０１０）面においては光
学的異方性を有するものである。

【００３７】図４は、このルチル単結晶の屈折率測定の
結果を示すものである。図４において、直線Ａはルチル
単結晶を光学的等方性を有する（００１）面に平行に切
断・研磨し、その表面を測定面２ａとし、回転機構４に
よって５度ずつ回転させて得られた測定屈折率から得た
ものである。また、正弦波状の曲線Ｂはルチル単結晶を
（１００）面に平行に切断・研磨し、その表面を測定面
２ａとし、回転機構４によって５度ずつ回転させて得ら
れた測定屈折率から得たものである。図４において、×
印は各回転角度θでの屈折率の測定値をプロットしたも
のであり、これらの値から回転角度−屈折率の直線Ａ及
び曲線Ｂが求められた。

【００３８】ルチル単結晶の（００１）面は上述したよ
うに光学的等方性を有するが、この実施例の偏光解析装
置による測定結果（図４の直線Ａ）でもルチル単結晶の
該表面の屈折率は回転角度に拘らず測定誤差の範囲内で
一定値２．５４０となり、この実験に供した試料２の表
面２ａが（００１）面に正しく平行であることが確かめ
られた。

【００３９】このようにこの実施例の偏光解析装置を用
れば、ルチル単結晶の（００１）面だけでなく、光学的
等方性を有する結晶面に平行に切り出され研磨された試
料表面２ａが真に平行に切り出され研磨されているかを
確認することができる。

【００４０】これに対して、ルチル単結晶の（１００）
面に平行な表面は上述したように光学的異方性であり、
図４の曲線Ｂに示すように屈折率は回転角度に応じて周
期的に変動し、試料２が法線回りに３６０°回転する間
に１８０度だけ異なる２点（θ＝８７度、２６７度）に
おいて屈折率が最大値ｎmax （３．１７８）をとり、ま
た、１８０度だけ異なる２点（θ＝１７７度、３５７
度）において屈折率が最小値ｎmin （２．４４３）をと
る。

【００４１】ここで、仮に試料２の測定面２ａが（１０
０）面に平行でなければ、２個の最大値ｎmax 及び２個
の最小値ｎmin はそれぞれ一致しない。図４の曲線Ｂに
示す今回の測定結果によれば、２個の屈折率の最大値ｎ
max 、及び、２個の屈折率の最小値ｎmin はそれぞれ測
定誤差の範囲内で一致しているので、このルチル単結晶
の試料２の表面２ａが（１００）面に対して正しく平行
であることが確認された。

【００４２】以上のように、実施例の偏光解析装置を用
いることによって、光学的異方性を有する結晶面に平行
に切り出された試料が真に平行に切り出されているかを
確認することができる。

【００４３】また、図４における直線Ａ及び曲線Ｂとの
比較から明らかなように、実施例の偏光解析装置を用い
れば、光学的等方性を有するか光学的異方性を有するか
が不明な試料がいずれの性質を有するかを判別すること
ができる。

【００４４】図５は、二軸性結晶であるリン酸チタン・
カリウム（ＫＴｉＰＯ₄、以下ＫＴＰと称する）単結晶
の模式図をａ−ｂ−ｃ軸内に示したものであり、図６
は、このＫＴＰ単結晶の（１００）面に平行な面と（１
００）面に平行な面との屈折率を測定した結果を示すも
のである。図６における曲線ＡはＫＴＰ単結晶を（１０
０）面に平行に切断・研磨し、その表面を測定面とした
ものであり、正弦波状の曲線ＢはＫＴＰ単結晶を（００
１）面に平行に切断・研磨し、その表面を測定面とした
ものである。図６においても、×印は各回転角度での屈
折率の測定値をプロットしたものであり、これら値から
回転角度−屈折率の特性曲線Ａ又はＢが求められた。

【００４５】ＫＴＰ単結晶の（１００）面に平行な表面
と（００１）面に平行な表面とはいずれも光学的異方性
を有するため、図６の曲線Ａ及びＢに示すように屈折率
は回転角度に応じて周期的に変動した。

【００４６】ＫＴＰ単結晶の（１００）面に平行な表面
２ａは、試料台１が３６０度回転する間に、１８０度だ
け異なる２点（θ＝３０度、２１０度）において屈折率
の最大値ｎmax （１．８７３）をとり、１８０度だけ異
なる２点（θ＝１２０度、３００度）において屈折率の
最小値ｎmin （１．７４９）をとった。また、ＫＴＰ単
結晶の（００１）面に平行な表面は、試料台１が３６０
度回転する間に、１８０度だけ異なる２点（θ＝１１５
度、２９５度）において屈折率の最大値ｎmax（１．７
５１）をとり、１８０度だけ異なる２点（θ＝２５度、
２０５度）において屈折率の最小値ｎmin （１．７３
３）をとった。

【００４７】これらの場合においても、仮に、ＫＴＰ単
結晶でなる試料２の測定面２ａが（１００）面又は（０
０１）面にそれぞれ平行でなければ、２個の最大値ｎma
x 又は２個の最小値ｎmin はそれぞれ一致しない。従っ
て、図６に示す測定結果を得た試料２は、２個の最大値
ｎmax 及び２個の最小値ｎmin がそれぞれ測定誤差の範
囲内で一致しているので、表面２ａが（１００）面又は
（００１）面に対して正しく平行に切り出されたもので
ある。

【００４８】以上のように、この実施例の偏光解析装置
を用いれば、試料２が結晶面に正しく平行に切り出され
たか否かをＫＴＰ単結晶についても確認することができ
る。また、光学的異方性を有する２個の結晶面のいずれ
に平行に切り出されたかが不明な場合であっても、図６
の曲線Ａ及びＢからの比較から明らかなように、測定に
よって得られた回転角度−屈折率の特性曲線からこれを
決定することができる。

【００４９】以上、実験による測定結果を利用して、実
施例の偏光解析装置によって測定できる物理的性質を説
明したが、さらに、以下のような物理的性質を測定する
ことができる。

【００５０】例えば、光学的２軸性結晶基板に、ＬＰＥ
法を用いて、二次元導波路を構成する場合、必要とされ
る基板とエピタキシャル膜との間の屈折率差を評価しな
ければならないが、同一面内で測定する方位によって屈
折率が異なるため、これらを評価するのは一般的に困難
である。しかし、実施例の偏光解析装置を用いて、基板
とエピタキシャル成長した薄膜のそれぞれの屈折率の角
度依存性のカーブを求め、これらを比較することによっ
てこれらの相対的な屈折率差を見積もることができる。

【００５１】上述した実施例の偏光解析装置によれば、
試料を載置する試料固定台が試料表面の法線を軸とする
回転機構を備えたので、試料表面の法線を軸として試料
を回転させて測定することができ、従来の偏光解析装置
によって測定できていた試料の物理的性質に加えて、さ
らに試料についての各種の物理的性質を測定することが
できる。この実施例の偏光解析装置によってのみ測定で
きる物理的性質としては、上述したように、試料２の測
定面２ａにおける屈折率の角度依存性や、試料２の測定
面２ａの結晶面に対する平行性の確認や、試料２の測定
面２ａの結晶面の同定や、試料２の測定面２ａが光学的
等方性及び異方性のいずれを有するものであるかの確認
を挙げることができる。なお、試料２の測定面２ａにお
ける吸収係数の角度依存性等も、この実施例の偏光解析
装置によってのみ測定できる物理的性質である。

【００５２】また、上記実施例の偏光解析装置によれ
ば、煽り調節装置１２を有するので、試料２の測定面２
ａが試料台の回転軸に対して垂直になるように調節で
き、その結果、上述した各種の物理的性質を正しく測定
することができる。因に、煽り調節装置１２がない場合
において、上述した各種の物理的性質を正しく測定しよ
うとすると、試料２の非測定面側を加工して試料２の測
定面２ａが試料台１の回転軸に対して垂直になるように
する必要があり、測定の前処理が非常に複雑なものとな
る。

【００５３】ここで、上述したように、各種光学特性の
角度依存性の測定値に統計処理を施してフィッテイング
カーブ（回帰直線又は回帰曲線）を求めれば、測定結果
（屈折率の測定であれば最大屈折率や最小屈折率等）の
精度を高めることができる。すなわち、測定値を得てい
ない角度についての情報が得られるだけでなく、測定値
が得られたものであってもその測定の際に入り込んだ誤
差を除去した情報を得ることができる。

【００５４】なお、上記実施例においては、試料を載置
する試料台が試料の測定面の法線を軸として回転可能な
ものを示したが、試料台を回転できないものにし光学系
を試料の測定面の法線を軸として回転可能なものとして
も良く、上記実施例と同様な効果を得ることができる。

【００５５】また、上記実施例においては、試料を回転
だけさせるものを示したが、試料台３の下に、さらに試
料台３をその載置面（試料表面）と平行に移動させる試
料台平行移動装置を設けて試料２を平行移動できるよう
にしても良い。このようにした場合には、試料の表面全
体に亘って、迅速に物理的性質（回転動作を伴う性質を
含む）を測定できるようになる。

【００５６】さらに、上記実施例の説明においては、回
転角度−屈折率の特性曲線等を図示しない偏光解析装置
における演算装置が求めるかを明確に説明しなかった
が、回転機構４から回転角度情報を演算装置に与えて、
この演算装置が回転角度−屈折率の特性曲線を求める処
理や、求めた曲線又は直線情報から光学的異方性を有す
るか否かを判断する処理等をも自動的に行なうものであ
っても良い。

【００５７】また、上記実施例においては、試料台を測
定者が手動によって回転させるものを示したが、演算装
置（例えばコンピュータ）からの指令によって自動的に
回転させるようにしても良い。

【００５８】さらにまた、上記実施例においては、試料
２を試料台３に載置して固定するものを示したが、支持
部材等によって試料の非測定箇所を押さえることで試料
台に固定するようにしても良く、このようにした場合、
試料台３の試料取付け面が鉛直方向に垂直な面に限定さ
れなくなる。

【００５９】

【発明の効果】以上のように、本発明によれば、試料を
固定する試料固定台、又は、試料表面に偏光光を入射し
てそれからの反射光を光学処理する光学系の少なくとも
一方が、試料表面の法線を軸とする回転機構を備えたの
で、従来の偏光解析装置を用いた場合には、測定不可能
な物理的性質や、試料を置き直す等の煩雑な操作によっ
てのみ測定可能な物理的性質をも容易に測定することが
できる、汎用性が高い偏光解析装置を実現することがで
きる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例の偏光解析装置を示す概略図である。

【図２】図１の試料固定台の斜視図である。

【図３】ルチル単結晶の構造図である。

【図４】実施例の偏光解析装置を用いてルチル単結晶の
屈折率を測定した結果を示す説明図である。

【図５】ＫＴＰ単結晶の模式図である。

【図６】実施例の偏光解析装置を用いてＫＴＰ単結晶の
屈折率を測定した結果を示す説明図である。

【図７】従来の偏光解析装置の概略図である。

【符号の説明】

１…試料固定台、２…試料、３…試料台、４…試料台回
転装置、１２…煽り調節装置。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】偏光光を試料表面に入射し、その反射光
の偏光状態に基づいて前記試料の物理的性質を測定する
偏光解析装置において、前記試料を固定する試料固定台、又は、上記試料表面に
偏光光を入射してそれからの反射光を光学処理する光学
系の少なくとも一方が、前記試料表面の法線を軸とする
回転機構を備えたことを特徴とする偏光解析装置。
【請求項２】前記回転機構を備えた前記試料固定台又
は前記光学系が、前記回転機構による回転がなされた場
合にもその前後での前記試料に対する入射角を同一とす
るように調節できる煽り調節装置を備えていることを特
徴とする請求項１に記載の偏光解析装置。