JPH0527455B2 - - Google Patents

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JPH0527455B2
JPH0527455B2 JP61135579A JP13557986A JPH0527455B2 JP H0527455 B2 JPH0527455 B2 JP H0527455B2 JP 61135579 A JP61135579 A JP 61135579A JP 13557986 A JP13557986 A JP 13557986A JP H0527455 B2 JPH0527455 B2 JP H0527455B2
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JP
Japan
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sheet
discharge electrode
plasma processing
processing apparatus
drum
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Hideaki Teraoka
Takao Akagi
Shinji Yamaguchi
Itsuki Sakamoto
Akira Nanba
Isao Okagaki
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Kuraray Co Ltd
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29CSHAPING OR JOINING OF PLASTICS; SHAPING OF MATERIAL IN A PLASTIC STATE, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; AFTER-TREATMENT OF THE SHAPED PRODUCTS, e.g. REPAIRING
    • B29C59/00Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor
    • B29C59/14Surface shaping of articles, e.g. embossing; Apparatus therefor by plasma treatment
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05HPLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
    • H05H1/00Generating plasma; Handling plasma
    • H05H1/24Generating plasma
    • H05H1/46Generating plasma using applied electromagnetic fields, e.g. high frequency or microwave energy

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Treatment Of Fiber Materials (AREA)
  • Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は、シート状物のプラズマ処理装置、
詳しくは、プラズマ雰囲気にある真空容器内で、
回転するドラム形状の放電電極の外周面にシート
状物を沿わせて、低温プラズマ処理する装置に関
するものである。
[従来の技術] 近年、プラズマ処理は、たとえばプラスチツク
フイルム、布帛などのシート状物の化学的、物理
的、力学的、光学的もしくは電気的性質または表
面構造を改善する処理方法として注目されてい
る。つまり、プラズマ処理によつて、シート状物
の接着性、摩擦特性、風合、光沢もしくは染色堅
牢度を向上させ、または帯電防止、表面硬化、粗
面化、ブロツキング防止もしくは染色物の濃色化
を図り得ることが知られている(たとえば、特開
昭57−18737号公報、特開昭60−149441号公報参
照)。
この種のシート状物のプラズマ処理装置は、従
来より、真空容器を貫通する回転軸に固定された
ドラム形状の放電電極と、これに対向する棒状の
放電電極とを真空容器内に設けている。そして、
たとえば、真空容器を上記両放電電極が接続され
る電気回路から、絶縁することによつて、両放電
電極から真空容器へのプラズマ放電を防止して、
電力の消費を防止している。
[発明が解決しようとする問題点] ところが、従来は、ドラム形状の放電電極が直
接回転軸に固定されているから、回転軸も充電さ
れた状態になつていた。このため、回転軸に対し
ても棒状の放電電極からのプラズマの放電がなさ
れるので、電力の浪費を招く。
また、シート状物のプラズマ処理装置は、処理
を施すシート状物の幅が広いことなどから、一般
にその設備が大がかりになるので、これが工業的
に採用されるためには、大きな設備費に見合う処
理能力の備える必要がある。つまり、元々、プラ
ズマ雰囲気を作るプラズマ処理装置の大きな入力
を、さらに増大させて、プラズマ密度を上昇させ
ることによつて、処理能力を向上する必要があ
る。しかし、電気抵抗が小さいプラズマ雰囲気に
ある真空容器内では、上記入力を大きくしていつ
た場合、真空容器内の互いに絶縁された放電用の
電気回路と真空容器との間に、局所的に大きな電
気的不均一が生じ、このため、狭い隅部、たとえ
ば、真空容器を貫通する回転軸と、この回転軸に
近接する真空容器との間の部分が絶縁不十分とな
り、真空容器内に電流が流れ、真空容器内壁が発
光して、やがて瞬時的な異常なアーク放電を生じ
る。したがつて、プラズマの放電状態が不安定に
なり、連続運転ができない。
この発明は上記従来の問題に鑑みてなされたも
ので、大電力を流した状態で連続運転が可能で、
しかも電力の浪費を防止した、つまり、工業的に
利用し得るシート状物のプラズマ処理装置を提供
することを目的としている。
[問題点を解決するための手段] 上記目的を達成するために、この発明のシート
状物のプラズマ処理装置は、まず、真空容器が、
ドラム形状の第1の放電電極と、これに対向する
第2の放電電極とを接続する電気回路から絶縁さ
れている。上記第1の放電電極におけるドラムの
円筒部と、真空容器を貫通する回転軸との間に
は、絶縁部材が介装されている。
[作用] この発明によれば、真空容器が電気回路から絶
縁されているから、プラズマが真空容器に放電す
るロスを防止し得る。特に、回転軸と円筒部との
間に絶縁部材が介装されているから、回転軸全体
が第1の放電電極から絶縁されているので、第2
の放電電極から回転軸に対してプラズマ放電が生
じるおそれがない。
また、回転軸が第1の放電電極から絶縁され、
かつ真空容器が電気回路から絶縁されているの
で、たとえば、回転軸が貫通する真空容器と回転
軸の貫通部との間の部分、つまり狭い隅部が絶縁
不十分となるおそれがないので、ここに異常なア
ーク放電の生じるおそれがない。
[実施例] 以下、この発明の実施例を図面にしたがつて説
明する。
この発明の第1の実施例を示す第1図におい
て、真空容器1内には、ドラム形状のドラム電極
(第1の放電電極)2と、このドラム電極2に対
向する多数の棒電極(第2の放電電極)3とが、
平行に設置されている。これら両放電電極2,3
間には、交流電源4から、トランス5ならびに上
記両放電電極2,3を接続する電気回路6を介し
て電圧が付加されている。
上記真空容器1は、ステンレス製で、プラズマ
処理ガスが封入されたガス容器7、ならびに、真
空容器1内を真空にするための真空排気装置8に
より、内部が極く低圧のプラズマ処理ガスで充填
された状態に保たれている。この真空容器1の両
側には、巻出機11および巻取機13がそれぞれ
内部に設置された他の真空容器1Aおよび1Bが
フランジ接合されている。Aはシート状物で、巻
出機11から、多数のガイドロール12にガイド
され、回転駆動されているドラム電極2の外周面
に沿つて、巻取機13に巻き取られる。つまり、
巻出機11のシート状物Aは、プラズマ雰囲気に
保持された真空容器1内のドラム電極2上で連続
的に低温プラズマ処理されて、巻取機13に巻き
取られる。
第2図において、上記ドラム電極2には、蒸留
水またはシリコンオイルなどの導電性の小さい冷
却媒体が流通する水ジヤケツト(冷却通路)2a
が、ドラムの円筒部2cに設けられている。この
ドラム電極2の両側壁部2bは、内側へ球面状に
曲成され、その中心部で、絶縁部材14,15お
よび継手16を介して回転軸17に固定されてい
る。上記絶縁部材14は、断面コの字状の円環
で、耐候性に優れた、たとえばグラスライニング
からなる。一方、上記絶縁部材15は円環状で、
たとえばポリカーボネイト製である。30はゴム
リングで、ドラム電極2の側壁部2bに設けられ
た環状溝に配設され、ドラム電極2と、継手16
にライニングされた絶縁部材14との間をシール
している。31はゴムリングで、継手16に設け
られた環状溝に配設され、継手16と回転軸17
との間をシールしている。なお、継手16と絶縁
部材14との間は、絶縁部材14が継手16にラ
イニングされたものであるから、シールされてい
る。したがつて、ドラム電極2の内部空間2d
は、真空容器1の内部空間1aに対してシールさ
れている。
上記回転軸17は、真空容器1の外部に設けら
れたモータ(図示せず)により駆動され、その真
空容器1を貫通する貫通部17a、ならびに、左
端部17bにおいて、それぞれ軸受部18および
19のベアリング18aおよび19aを介して、
真空容器1に軸支されている。つまり、回転軸1
7は、ドラム電極2を貫通し、このドラム電極2
の両側壁部2b,2bから突出し、この両側の突
出している部分において軸支されている。18b
はメカニカルシールで、上記軸受部18に設けら
れ、真空容器1の内部空間1aを大気に対してシ
ールしている。
上記回転軸17には、その右端部17dからド
ラム電極2の内部空間2dに開口する2本の長孔
17cが設けられている。この長孔17cには、
フツ素樹脂からなる絶縁部材26を外周面に設け
た銅管20が、第3図のように、若干の隙間17
eを有して挿入されている。上記銅管20は、そ
の内部である冷却通路20aを冷却媒体が流れ、
第2図のフレキシブルチユーブ21を介して水ジ
ヤケツト2aに直列に連通している。
第3図の32はガス継手で、回転軸17に穿設
された小孔17f、ならびに、長孔17cの隙間
17eを介して、第1図のガス容器7内のプラズ
マ処理ガスを、第2図のドラム電極2の内部空間
2dに供給するためのものである。なお、長孔1
7cは回転軸17の右端部17dにおいて、第3
図のように、ゴムリング33で大気に対してシー
ルされている。つまり、第2図のドラム電極2の
内部空間2dは、プラズマ処理ガスが充填され、
真空容器1の内部空間1aよりも高い圧力に保持
されている。
上記多数の棒電極3は、その両端3aが一対の
支持部材22に固定されている。この支持部材2
2は碍子23を介して真空容器1に支持されてい
る。
上記電気回路6の一方は、真空容器1を電気回
路6から絶縁する導入端子6aを介して真空容器
1内に挿入され、棒電極3に接続されている。他
方は、スリツプリング25、銅管20および導線
27などを介してドラム電極2に接続されてい
る。つまり、真空容器1は電気回路6から電気的
に絶縁され、また、アースされた接地状態に保た
れている。なお、電気回路6および両放電電極
2,3は非接地状態に保たれて、真空容器1と厳
格に絶縁されている。
上記構成において、この発明は、真空容器1が
電気回路6から絶縁されているから、棒電極3か
ら真空容器1にプラズマが放電するおそれがない
ので、電力の浪費を防止し得る。特に、ドラム電
極2の円筒部2cと回転軸17との間に絶縁部材
14,15を介装して、両者2,17を絶縁して
いる。つまり、回転軸17がドラム電極2から絶
縁されているから、棒電極3から回転軸17にプ
ラズマが放電するおそれがないので、電力の浪費
を防止し得る。
また、上記のように、回転軸17がドラム電極
2の円筒部2cから絶縁され、かつ、真空容器1
が電気回路6から絶縁されているので、回転軸1
7および真空容器1の両者が共に帯電していない
から、回転軸17の貫通部17aと、これに近接
する真空容器1の軸受部18との間の部分、つま
り狭い隅部が絶縁不十分になるおそれがない。し
たがつて、真空容器内壁で異常なアーク放電の生
じるおそれがないから、連続的な運転を図り得
る。また、真空容器1から外部へ突出する回転軸
17が充電されていない状態に保持されているか
ら、作業者が感電するおそれがない。
また、上記のように、回転軸17が充電されて
いないから、プラズマ雰囲気にさらされ、かつ複
雑な構造であるメカニカルシール18bにおい
て、アーク放電が生じるおそれがない。したがつ
て、長期連続運転に耐え得る。
また、ベアリング19aにおいても、同様に、
アーク放電が生じるおそれがないので、ベアリン
グ19aをプラズマ雰囲気にある真空容器1内に
設けることができる。したがつて、重いドラム電
極2を回転軸17を介してその両側のベアリング
18a,19aで支持し得るので、回転軸17の
径小化、ベアリング18a,19aの小型化など
を図り得る。
ところで、この実施例では、ドラム電極2の内
部空間2dが、ゴムリング30,31によつて、
真空容器1の内部空間1aからシールされてい
る。ここで、上記ドラム電極2の内部空間2d
が、ガス継手32などを介して、真空容器1の内
部空間1aよりも高い圧力に保持されている。し
たがつて、内部空間1aのプラズマガスが内部空
間 2dに入り込むことがないので、この内部空間2
d内でのプラズマ放電を引き起すおそれがないか
ら、プラズマ放電が安定する。また、プラズマ処
理ガスをガス容器7(第1図参照)から、内部空
間2dに導入した場合には、内部空間2dから内
部空間1aに漏れるガスによつて、真空容器1内
のプラズマ処理ガスの純度が低下するおそれがな
い。なお、内部空間2dを回転軸17の第3図の
小孔17fを介して大気に接続することも可能で
ある。
ところで、プラズマ雰囲気にさらされる第2図
の絶縁部材14は、耐候性に優れたグラスライニ
ングであるから、低温プラズマ処理されたり、ま
たは、アーク放電により変質するおそれがない。
したがつて絶縁部材14自体が侵されたり、また
は、真空容器1内で不純ガスの発生するおそれが
ない。なお、絶縁部材14としては、グラスライ
ニングの他に、セラミツクス、フアインセラミツ
クスまたは耐熱性、耐紫外線性もしくは耐電子線
性プラスチツクを単独で、あるいは、組合せて用
いることもできる。
第4図はこの発明の第2の実施例を示す。
この実施例の場合ドラム電極2の円筒部2c
は、中央に孔を設けた平板状の絶縁部材40を介
して、回転軸17に固定されている。このドラム
電極2は、その側面部2eに絶縁部材41が、第
5図のように、ボルト42により固定され、この
絶縁部材41の座グリ孔41aに絶縁キヤツプ4
3が嵌め込まれて、上記側面部2eが絶縁部材4
1でおおわれている。上記ドラム電極2の内部空
間2dは、絶縁部材40、ゴムリング30,31
などによつて、真空容器1の内部空間1aおよび
大気から完全に密閉されている。
第4図において、回転軸17には、長孔17g
が設けられ、この長孔17g内にパイプ17hが
挿入され、パイプ17hの内側および外側に冷却
媒体の流通する冷却通路44,45が設けられて
いる。46は短管(配管材料)で、たとえばゴム
などの絶縁体からなり、上記冷却通路44,45
を水ジヤケツト2aに連通させている。
なお、この実施例では、スリツプリング25が
真空容器1内に設けられ、このスリツプリング2
5が導線47を介してドラム電極2の側面部2e
の一部に接続されている。その他の構造は第1の
実施例と同様であり、同一部分もしくは相当部分
に同一符号を附して、その詳しい説明を省略す
る。
この実施例によれば、ドラム電極2の側面部2
eが絶縁部材41でおおわれているから、上記側
面部2eへの不必要なプラズマ放電が防止され
る。また、これにより、ドラム電極2の両側面部
2e近傍における昇温を防止し得るから、シート
状物を全面に亙つて均一にプラズマ処理し得る。
また、絶縁体からなる短管46を介して、水ジ
ヤケツト2aが冷却通路44,45に連通してい
るから、ドラム電極2から冷却媒体を通して回転
軸17へ流れる電流が小さくなるので、回転軸1
7をドラム電極2から、より厳格に絶縁し得る。
また、ドラム電極2の内部空間2dは、ドラム
電極2が大気中で組立てられるので、大気で満た
されており、プラズマ雰囲気でないから、この内
部空間2dでの局部的な発光が減退し、プラズマ
放電が安定化する。
なお、第2図の第2の実施例についても、第6
図のように、ドラム電極2の側面部2eを絶縁部
材41でおおうことができる。
第7図はこの発明が適用される他のシート状物
のプラズマ処理装置を示す。この図において、
9,10は予備真空室で、複数のシールロール
(図示せず)とシール室(図示せず)とをシート
状物Aの走行方向に設け、上記シール室内を真空
吸引することによつて、大気圧より段階的に圧力
を減じて、真空容器1内を所定圧力に保持するの
を助ける。
なお、図示していないが、第1図の巻出機11
および巻取機13を両電極2,3とともに、真空
容器1内に配設したものについてもこの発明は適
用される。
[発明の効果] 以上説明したように、この発明によれば、大き
な電力を消費するシート状物のプラズマ処理装置
における電力の浪費を防止し得るとともに、異常
なアーク放電を防止し得るので、上記処理装置が
工業的な処理能力を得るとともに、これの連続運
転が可能になる。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明の第1の実施例を示す概略構
成図、第2図は第1図の縦断面図、第3図は回転
軸を明示する右端部の縦断面図、第4図は第2の
実施例を示す縦断面図、第5図はドラム電極の側
面をおおう絶縁部材の取付方法を示す断面図、第
6図は第2図のドラム電極にその側面をおおう絶
縁部材を取り付けた縦断面図、第7図はこの発明
が適用される他のシート状物のプラズマ処理装置
の概略構成図である。 1……真空容器、1a……内部空間、2……第
1の放電電極(ドラム電極)、2a……冷却通路
(水ジヤケツト)、2b……側壁部、2c……円筒
部、2d……内部空間、2e……側面部、3……
第2の放電電極(棒電極)、6……電気回路、7
……ガス供給源(ガス容器)、14,15,40
……絶縁部材、17……回転軸、17a,17b
……突出部(貫通部、左端部)、41……絶縁部
材、44,45……冷却通路、46……配管材料
(短管)、A……シート状物。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 真空容器を貫通する回転軸に固定されて回転
    し、その外周面にシート状物を沿わせるドラム形
    状の第1の放電電極と、この第1の放電電極に対
    向する第2の放電電極とを真空容器の内部に設け
    たシート状物のプラズマ処理装置であつて、 上記真空容器が上記両放電電極を接続する電気
    回路から電気的に絶縁されているとともに、 上記第1の放電電極におけるドラムの円筒部と
    上記回転軸との間に絶縁部材が介装されて上記第
    1の放電電極と回転軸とが絶縁されているシート
    状物のプラズマ処理装置。 2 上記第1の放電電極は、そのドラムの内部空
    間がプラズマ処理ガスを含むガス供給源に連結さ
    れて、上記真空容器の内部空間の圧力よりも高い
    圧力に保持されていることを特徴とする特許請求
    の範囲第1項記載のシート状物のプラズマ処理装
    置。 3 上記第1の放電電極は、そのドラムの内部空
    間が大気に接続されていることを特徴とする特許
    請求の範囲第1項記載のシート状物のプラズマ処
    理装置。 4 上記第1の放電電極は、そのドラムの内部空
    間が密閉されていることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項記載のシート状物のプラズマ処理装
    置。 5 上記第1の放電電極が冷却媒体の流通する冷
    却通路を備え、この冷却通路が、上記回転軸の内
    部に設けられた冷却通路に、絶縁体からなる配管
    材料を介して連通されていることを特徴とする特
    許請求の範囲第1項記載のシート状物のプラズマ
    処理装置。 6 上記第1の放電電極は、その側面部が絶縁部
    材でおおわれていることを特徴とする特許請求の
    範囲第1項記載のシート状物のプラズマ処理装
    置。 7 上記回転軸は、上記第1の放電電極を貫通し
    て、この第1の放電電極の両側壁部から突出し、
    この両側の突出部においてそれぞれ軸支されてい
    ることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
    シート状物のプラズマ処理装置。
JP13557986A 1986-06-10 1986-06-11 シ−ト状物のプラズマ処理装置 Granted JPS62294437A (ja)

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JP13557986A JPS62294437A (ja) 1986-06-11 1986-06-11 シ−ト状物のプラズマ処理装置
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US07/058,858 US4803332A (en) 1986-06-10 1987-06-05 Apparatus for plasma treatment of a sheet-like structure
CN87104097A CN1015614B (zh) 1986-06-10 1987-06-09 薄状物等离子体处理装置
DE87108331T DE3788160T2 (de) 1986-06-10 1987-06-10 Plasmabehandlungsvorrichtung.
EP87108331A EP0249198B1 (en) 1986-06-10 1987-06-10 Plasma treating apparatus

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JPS62294437A JPS62294437A (ja) 1987-12-21
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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