JPS60226533A - 連続式プラズマ処理装置 - Google Patents
連続式プラズマ処理装置Info
- Publication number
- JPS60226533A JPS60226533A JP8187084A JP8187084A JPS60226533A JP S60226533 A JPS60226533 A JP S60226533A JP 8187084 A JP8187084 A JP 8187084A JP 8187084 A JP8187084 A JP 8187084A JP S60226533 A JPS60226533 A JP S60226533A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- processing chamber
- vacuum
- vacuum processing
- positive electrode
- plasma
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J19/00—Chemical, physical or physico-chemical processes in general; Their relevant apparatus
- B01J19/08—Processes employing the direct application of electric or wave energy, or particle radiation; Apparatus therefor
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Treatment Of Fiber Materials (AREA)
- Treatments Of Macromolecular Shaped Articles (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
【発明の利用分野〕
本発明は合成繊維やプラスチック成形品、たとえば塩化
ビニール系樹脂フィルムなどの被処理物を連続的に真空
状態でプラズマ処理する連続式プラズマ処理装置に関す
るものである。
ビニール系樹脂フィルムなどの被処理物を連続的に真空
状態でプラズマ処理する連続式プラズマ処理装置に関す
るものである。
従来、真空処理室の前後側にそれぞれ予備真空室を配置
し、段階的に真空圧力を下げて被処理物を連続的に表面
処理する装置が本出願人により特開昭５７−３０７３３
号公報などで出願されている。
し、段階的に真空圧力を下げて被処理物を連続的に表面
処理する装置が本出願人により特開昭５７−３０７３３
号公報などで出願されている。
この種の装置においては、真空処理室内に備えられる陰
電極と陽電極間でプラズマ放電を発生するように構成さ
れているが、この両電極間以外の所でも異常のプラズマ
放電が発生する事態を生じてお多、本来のプラズマ処理
以外にもエネルギーが消費されるなどの問題点を有して
いる。す々わち、プラズマ放電は両電極間以外にも、た
とえば真空処理室内壁面と陽電極間および陽電極と被処
理物と搬送するガイドローラ間なども発生する。
電極と陽電極間でプラズマ放電を発生するように構成さ
れているが、この両電極間以外の所でも異常のプラズマ
放電が発生する事態を生じてお多、本来のプラズマ処理
以外にもエネルギーが消費されるなどの問題点を有して
いる。す々わち、プラズマ放電は両電極間以外にも、た
とえば真空処理室内壁面と陽電極間および陽電極と被処
理物と搬送するガイドローラ間なども発生する。
このため、真空処理室内壁と陽電極間においては、真空
処理槽の壁の温度が上昇する。また、陽電極とガイドロ
ーラ間においては、被処理物の幅方向に処理ムラが発生
したり、ガイドローラ用の軸受が放電熱のために固しゆ
うするなどの問題点がある０ （発明の目的〕 本発明の目的は、主として本来のプラズマ放電処理以外
に消費されるエネルギーを低減するような連続式プラズ
マ処理装置を提供することにある。
処理槽の壁の温度が上昇する。また、陽電極とガイドロ
ーラ間においては、被処理物の幅方向に処理ムラが発生
したり、ガイドローラ用の軸受が放電熱のために固しゆ
うするなどの問題点がある０ （発明の目的〕 本発明の目的は、主として本来のプラズマ放電処理以外
に消費されるエネルギーを低減するような連続式プラズ
マ処理装置を提供することにある。
本発明の特徴は、真空処理室の少なくとも内壁表面の一
部に非導電性のプラズマ放′区防止材を設けたものであ
る。
部に非導電性のプラズマ放′区防止材を設けたものであ
る。
［発明の実施例］
以下本発明の一実施例を図面により説明する０第１図お
よび第２図において、１はプラスチックフィルムの例え
ば塩化ビニール系樹脂フィルムのように可撓性の被処理
物Ｆを真空状態で連続的にプラズマ処理する真空処理室
、２は真空処理室１の前方側に複数個配置される予備真
空室、３は真空処理室１の後方側に複数個配置される予
備真空室、前記真空処理室１内はこれに接続する真空ポ
ンプ４によ、９１０’−２）−ル程度の真空圧力に保持
するように排気管５を介して真空排気される。
よび第２図において、１はプラスチックフィルムの例え
ば塩化ビニール系樹脂フィルムのように可撓性の被処理
物Ｆを真空状態で連続的にプラズマ処理する真空処理室
、２は真空処理室１の前方側に複数個配置される予備真
空室、３は真空処理室１の後方側に複数個配置される予
備真空室、前記真空処理室１内はこれに接続する真空ポ
ンプ４によ、９１０’−２）−ル程度の真空圧力に保持
するように排気管５を介して真空排気される。
前記予備真空室２．３内はこれに接続する真空ポンプ６
により真空処理室１内の真空圧力より若干高く、かつ大
気圧より段階的に減じる真空圧力に保持するように排気
管７を介して真空排気される０処理される被処理物Ｆは
巻出装置８より前方側の予備真空室２を経て真空処理室
１へ送られ、そこでプラズマ処理された後、さらに後方
側の予備真空室３を経て巻取装置９で巻取られる。１０
は駆動用モータで、この駆動用モータ１０はラインシャ
フト１１および無段変速機１２，１３，１４゜１５を介
して真空処理室１．予備真空室２，３、巻取装置９へ駆
動力を伝達し、真空処理室１．予備真空室２，３および
巻取装置９の各駆動系の回転速度は前記無段変速機１２
，１３，１４，１５により適宜調整される。
により真空処理室１内の真空圧力より若干高く、かつ大
気圧より段階的に減じる真空圧力に保持するように排気
管７を介して真空排気される０処理される被処理物Ｆは
巻出装置８より前方側の予備真空室２を経て真空処理室
１へ送られ、そこでプラズマ処理された後、さらに後方
側の予備真空室３を経て巻取装置９で巻取られる。１０
は駆動用モータで、この駆動用モータ１０はラインシャ
フト１１および無段変速機１２，１３，１４゜１５を介
して真空処理室１．予備真空室２，３、巻取装置９へ駆
動力を伝達し、真空処理室１．予備真空室２，３および
巻取装置９の各駆動系の回転速度は前記無段変速機１２
，１３，１４，１５により適宜調整される。
第３図〜第５図は前記真空処理室１の詳細を示すもので
、１６はドラム状の陰電極、１７は陰電極１６の外周側
に配列される棒状の陽電極、１８は被処理物Ｆを案内す
るガイドローラで、これら陰電極１６．陽電極１７およ
びガイドローラ１８は一方の側板１９に片持支持され、
他方の側板２０は開閉扉になっている。２１は厚肉円筒
により形成されるドラム状の陰電極１６に設けられる温
度調節用媒体通路で、この媒体通路２１は外部から供給
される媒体の例えば冷却水により陰電極１６を冷却する
。
、１６はドラム状の陰電極、１７は陰電極１６の外周側
に配列される棒状の陽電極、１８は被処理物Ｆを案内す
るガイドローラで、これら陰電極１６．陽電極１７およ
びガイドローラ１８は一方の側板１９に片持支持され、
他方の側板２０は開閉扉になっている。２１は厚肉円筒
により形成されるドラム状の陰電極１６に設けられる温
度調節用媒体通路で、この媒体通路２１は外部から供給
される媒体の例えば冷却水により陰電極１６を冷却する
。
２２は前記真空処理室１の内壁表面に焼着されるプラズ
マ放電防止用の非導電材例えば弗素樹脂膜で、この弗素
樹脂膜２２は前記陽電極１７と真空処理室１内での異常
プラズマ放電の発生を防止する。
マ放電防止用の非導電材例えば弗素樹脂膜で、この弗素
樹脂膜２２は前記陽電極１７と真空処理室１内での異常
プラズマ放電の発生を防止する。
また、この弗素樹脂膜２２は陽電極１７の反陰電極側お
よびガイドロー２１８の外周表ｍｌにも被覆されて陽電
極１７とガイドローラ１８間の異常プラズマ放電の発生
をも防止する。
よびガイドロー２１８の外周表ｍｌにも被覆されて陽電
極１７とガイドローラ１８間の異常プラズマ放電の発生
をも防止する。
次に本発明の連続式プラズマ処理装置の作動を説明する
。
。
先ず、真空ポンプ４，６を作動させることにより１、真
空処理室１内および予備真空室２，３内を真空排気する
。このとき、真空処理室１内の圧力は予備真空室２，３
内の圧力よシ低く保持される。
空処理室１内および予備真空室２，３内を真空排気する
。このとき、真空処理室１内の圧力は予備真空室２，３
内の圧力よシ低く保持される。
また、真空処理室１内には、プラズマ特性を良好にする
だめのアルゴンガス、窒素ガスなどを供給する０ 次に予備真空室２，３に備えられる一対の上ロール、下
ロールを駆動モータ１０の駆動力によシ回転させると共
に真空処理室１の陰電極１６および陽電極１７間に高周
波電力を供給する。この状態で被処理物Ｆは巻出装置８
から予備真空室２の上、下ロールを経て真空処理室１内
へ導入される。
だめのアルゴンガス、窒素ガスなどを供給する０ 次に予備真空室２，３に備えられる一対の上ロール、下
ロールを駆動モータ１０の駆動力によシ回転させると共
に真空処理室１の陰電極１６および陽電極１７間に高周
波電力を供給する。この状態で被処理物Ｆは巻出装置８
から予備真空室２の上、下ロールを経て真空処理室１内
へ導入される。
真空処理室１内では、陰電極１６と陽電極１７間でプラ
ズマ放電を発生させる。このとき、陰電極１６と陽電極
１７との間に挿入されている被処理物Ｆの表面にはプラ
ズマ処理が施される。このプラズマ放電による陰電極１
６の温度上昇は、温度調節用媒体通路２１に外部から供
給される冷却水により冷却されて一定温度に保持される
ため、被処理物Ｆのプラズマ放電によシ処理ムラが防止
される。このとき、陽電極１７と真空処理室１の内壁間
での異常なプラズマ放電の発生を弗素樹脂膜２２により
防止し、陰電極１６と陽電極１７間のみをプラズマ放電
させる。このため、電力消費量の省エネルギー化を図る
ことができる。
ズマ放電を発生させる。このとき、陰電極１６と陽電極
１７との間に挿入されている被処理物Ｆの表面にはプラ
ズマ処理が施される。このプラズマ放電による陰電極１
６の温度上昇は、温度調節用媒体通路２１に外部から供
給される冷却水により冷却されて一定温度に保持される
ため、被処理物Ｆのプラズマ放電によシ処理ムラが防止
される。このとき、陽電極１７と真空処理室１の内壁間
での異常なプラズマ放電の発生を弗素樹脂膜２２により
防止し、陰電極１６と陽電極１７間のみをプラズマ放電
させる。このため、電力消費量の省エネルギー化を図る
ことができる。
また、陽電極１７とガイドローラ１８間でプラズマ放電
の発生についても防止できるため、従来被処理物Ｆの幅
方向に発生していた処理ムラを防止可能となる。さらに
、ガイドローラ１８用軸受２３の温度上昇による固じゆ
うについても防止できる。
の発生についても防止できるため、従来被処理物Ｆの幅
方向に発生していた処理ムラを防止可能となる。さらに
、ガイドローラ１８用軸受２３の温度上昇による固じゆ
うについても防止できる。
前に戻って、真空処理室１内でプラズマ処理された塩化
ビニール樹脂フィルムなどの被処理物Ｆは、直ちに予備
真空室３の上、下ロールとの間を経て巻取装置９によシ
巻き取られる。このように被処理物Ｆは真空処理室１内
で短時間にプラズマ処理されるため、塩化ビニール樹脂
フィルムなどに含有している可塑剤などの揮発性成分が
急激に抜けることがなく、したがって被処理物の表面に
は良好な改質特性が得られる。また、被処理物は連続的
に処理されるため、従来のバッチ式処理に比べて生産性
の大幅な向上が図れる。
ビニール樹脂フィルムなどの被処理物Ｆは、直ちに予備
真空室３の上、下ロールとの間を経て巻取装置９によシ
巻き取られる。このように被処理物Ｆは真空処理室１内
で短時間にプラズマ処理されるため、塩化ビニール樹脂
フィルムなどに含有している可塑剤などの揮発性成分が
急激に抜けることがなく、したがって被処理物の表面に
は良好な改質特性が得られる。また、被処理物は連続的
に処理されるため、従来のバッチ式処理に比べて生産性
の大幅な向上が図れる。
尚、本発明装置の一実施例においては、プラズマ放電防
止材として非導電性の弗素樹脂膜を用いているが、ホー
ロ等のガラスでもよい。
止材として非導電性の弗素樹脂膜を用いているが、ホー
ロ等のガラスでもよい。
また、弗素樹脂膜を真空処理室内壁の全表面およびガイ
ドローラに設けているが、両電極間近傍の内壁表面の一
部に設けるようにしてもよい。
ドローラに設けているが、両電極間近傍の内壁表面の一
部に設けるようにしてもよい。
本発明によれば、真空処理室に備えられる陰電極と陽電
極間板外でのプラズマ放電の発生を防止することができ
るため、プラズマ放電処理以外に消費される電力エネル
ギーの低減が図れる。また、被処理物の良好な改質特性
が得られると共に生産性の向上も図ることができる。
極間板外でのプラズマ放電の発生を防止することができ
るため、プラズマ放電処理以外に消費される電力エネル
ギーの低減が図れる。また、被処理物の良好な改質特性
が得られると共に生産性の向上も図ることができる。
第１図は本発明の連続式プラズマ処理装置の概略縦断面
図、第２図は第１図の概略平面図、第３図は本発明装置
における真空処理室の側断面図、第４図は第３図の詳細
側断面図、第５図は真空処理室におけるガイドローラの
要部拡大図である。 １・・・真空処理室、２、３・・・予備真空室、１６・
・・陰電極、１７・・・陽電極、１８・・・ガイドロー
ラ、２２・・・プラズマ放電防止材、Ｆ・・・被処理物
。 代理人弁理士高橋明夫
図、第２図は第１図の概略平面図、第３図は本発明装置
における真空処理室の側断面図、第４図は第３図の詳細
側断面図、第５図は真空処理室におけるガイドローラの
要部拡大図である。 １・・・真空処理室、２、３・・・予備真空室、１６・
・・陰電極、１７・・・陽電極、１８・・・ガイドロー
ラ、２２・・・プラズマ放電防止材、Ｆ・・・被処理物
。 代理人弁理士高橋明夫
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、真空処理室内に陰電極と陽電極とを備え、両電極間
に被処理物を連続的に送り込むことによシ、被処理物の
表面にプラズマ処理する装置において、前記真空処理室
の少なくとも内壁表面の一部に非導電性のプラズマ放電
防止材を設けたことを特徴とする連続式プラズマ処理装
置。 λ前記非導電性のプラズマ放電防止材は、弗素樹脂膜で
ある特許請求の範囲第１項記載の連続式プラズマ処理装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8187084A JPS60226533A (ja) | 1984-04-25 | 1984-04-25 | 連続式プラズマ処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8187084A JPS60226533A (ja) | 1984-04-25 | 1984-04-25 | 連続式プラズマ処理装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60226533A true JPS60226533A (ja) | 1985-11-11 |
Family
ID=13758497
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8187084A Pending JPS60226533A (ja) | 1984-04-25 | 1984-04-25 | 連続式プラズマ処理装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60226533A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62294437A (ja) * | 1986-06-11 | 1987-12-21 | Kuraray Co Ltd | シ−ト状物のプラズマ処理装置 |
| JPS63329A (ja) * | 1986-06-20 | 1988-01-05 | Kuraray Co Ltd | シ−ト状物のプラズマ処理装置 |
| JPH0233234U (ja) * | 1988-08-19 | 1990-03-01 | ||
| US5224441A (en) * | 1991-09-27 | 1993-07-06 | The Boc Group, Inc. | Apparatus for rapid plasma treatments and method |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5730733A (en) * | 1980-07-30 | 1982-02-19 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Device for continuous plasma treatment |
-
1984
- 1984-04-25 JP JP8187084A patent/JPS60226533A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5730733A (en) * | 1980-07-30 | 1982-02-19 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Device for continuous plasma treatment |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62294437A (ja) * | 1986-06-11 | 1987-12-21 | Kuraray Co Ltd | シ−ト状物のプラズマ処理装置 |
| JPS63329A (ja) * | 1986-06-20 | 1988-01-05 | Kuraray Co Ltd | シ−ト状物のプラズマ処理装置 |
| JPH0233234U (ja) * | 1988-08-19 | 1990-03-01 | ||
| US5224441A (en) * | 1991-09-27 | 1993-07-06 | The Boc Group, Inc. | Apparatus for rapid plasma treatments and method |
| US5364665A (en) * | 1991-09-27 | 1994-11-15 | The Boc Group, Inc. | Method for rapid plasma treatments |
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