JPH0527458B2 - - Google Patents

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JPH0527458B2
JPH0527458B2 JP19459985A JP19459985A JPH0527458B2 JP H0527458 B2 JPH0527458 B2 JP H0527458B2 JP 19459985 A JP19459985 A JP 19459985A JP 19459985 A JP19459985 A JP 19459985A JP H0527458 B2 JPH0527458 B2 JP H0527458B2
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JP
Japan
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plasma
camphor
polymerization
optically active
low
Prior art date
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JP19459985A
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JPS6253734A (ja
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Yoshihito Osada
Akio Nishino
Yoshikazu Kondo
Toshihiro Yamamoto
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Kanebo Ltd
Original Assignee
Kanebo Ltd
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  • Treatment Of Liquids With Adsorbents In General (AREA)
  • Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Other Resins Obtained By Reactions Not Involving Carbon-To-Carbon Unsaturated Bonds (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野) 本発明はアミノ酸の選択吸着性を有するプラズ
マ重合膜被覆粒子の製造方法に関する。 (従来の技術) 光学活性を有する化合物は天然有機化合物では
極めて重要で、生命は光学活性物質のうえに築か
れている。又、医薬、農薬、商品添加物、香料、
飼料などの生体にかかわる化学及び工業的な分野
において非常に重要なものとなつてきている。こ
れら光学活性の物質を分離するには、光学活性の
物質を利用した光学分割剤への応用がある。特に
光学活性高分子が特に重要である。 光学活性高分子としてはタンパク質、多糖類な
どで、生体にかかわる多くの高分子は光学活性で
ある。ところが合成高分子では、特別な合成によ
る高分子以外は光学活性を有していない。従つて
種々の方法で光学活性を有する高分子の合成がな
されている。 光学活性な重合用触媒を用いる方法としては例
えば、特開昭60−67504号公報では、特定の不斉
配位子化合物とアニオン開始剤化合物とからなる
光学活性な重合触媒を用いた光学活性な高分子の
合成方法を示している。又光学活性なモノマーを
重合する方法として、特開昭51−81891号公報に
開示されている。その他、光学活性な化合物を高
分子に固定、不溶化等の方法も提案されている。 これらの方法では光学活性な化合物への官能基
導入という非常に困難なかつ収率の低いプロセス
や、特別な重合触媒を使用し、二重結合を有する
モノマーにしか採用されない等、問題が残る。 (発明が解決しようとする問題点) 本発明の目的は光学活性を有するカンフアーの
重合、固定化をより簡単なプロセスで行うこと、
及びより広汎な担体に固定化すること及びアミノ
酸の選択吸着性を有するプラズマ重合膜被覆粒子
の製造する方法が提案するにある。 (問題点を解決する為の手段) 本発明方法は、Dカンフアーを低温プラズマ中
で活性化し、微粒子と接触させて該微粒子の表面
にプラズマ重合膜を形成させることを特徴とす
る。 本発明に使用するカンフアは光学活性をもつカ
ンフアーならいずれでもよく特に限定されない。
又光学活性をもつカンフアー誘導体でもかまわな
い。好ましくはD−カンフアーがよい。 カンフアー又はカンフアー誘導体は通常高沸点
であり、常温では蒸気圧が低い。カンフアー又は
カンフアー誘導体で昇華性を有する場合昇華によ
り気化させるとよい。しかし蒸気圧が低い場合
は、加熱し蒸気圧を増大する必要がある。加熱の
方法には、ヒーター加熱、高周波加熱、遠赤外線
加熱或いはレーザー加熱のいずれの方法を用いて
もよいが、加熱による分解が生じないよう加熱す
ることが重要である。 本発明で用いるプラズマはいわゆる低温プラズ
マを指し、該イオン化ガスプラズマはかかるプラ
ズマを生成するための公知方法のいずれによつて
も生成させることができる。例えばJ.R.ホラハン
(Hollahan)とA.T.ベル(Bell)版「プラズマ化
学の応用技術」、ワイリー、ニユーヨーク1974お
よびMシエン(Shen)版「重合体のプラズマ化
学」デツカー・ニユーヨーク・1976に記載されて
いる。即ち高周波発生器に連結された平行板電極
の間にモノマーを真空下で入れ、真空室の外部又
は内部のいずれかの平行板を用いてプラズマを生
成させることが出来る。また外部誘導コイルによ
つて電場をつくらせ、イオン化ガスのプラズマを
発生させてもよく、また反対に荷電した電極に間
隔をおいて直接真空室に入れてプラズマを生成さ
せてもよい。 プラズマ重合物はプラズマ重合条件によりグリ
ース(液)状−フイルム(膜)状−粒子(粉末)
状と変化するので、膜状の重合物を得る為には、
プラズマ重合条件を適宜選択する。 プラズマ重合物は通常紙、ガラス、シリカゲ
ル、ポリマー等のシート、繊維或いは微粒子上に
薄膜として形成させる。この中で表面積が大きい
ものが好ましく、特に0.1mm以下の粒径のシリカ
ゲル微粒子が好ましい。 本発明のDカンフアーのプラズマ重合物は、有
機溶剤例えば、アルコール、エーテル、ピリジ
ン、クロロホルム、アセトン、ベンゼン、ギ酸、
ジメチルホルムアミド等への溶解性は全くなく、
架橋重合物である事がわかる。 但し、有機溶剤に対する膨潤性は、重合条件に
よつて変化する。プラズマ重合物の構造、化学構
造の特定は仲々困難である。IR、NMR、X線、
電顕等での測定、及び旋光度の測定で一応の評価
が出来る。モノマーと重合物の間の一次(化学)
構造の相関性はモノマーの種類、プラズマ重合条
件によつて変化する。モノマーの代表的な化学構
造、例えば不斉中心が大部分残存される条件を選
択することが必要である。 一般的な重合法、光熱等によつて化学構造がく
ずれやすいモノマーはプラズマ重合によつても同
様で、一次構造を残す事は容易ではない。一般に
Dカンフアーのプラズマ重合は、通常1分以上好
ましくは10分以上であり、又、パルス的に高周波
を印加する方法も好ましい。プラズマ重合時間を
低下させるとともにプラズマ出力を下げる或いは
真空度を下げる或いは基板の温度を下げるといつ
た方法を併合する事が好ましい。プラズマ出力に
関しては出力が大きいモノマーの構造がこわれや
すいが出力を余り下げると重合が十分に進行せ
ず、モノマーの残存率が高くなつたり或いは生成
物の分子量が十分高くならず溶剤等に溶解したり
する。従つて、出力はこれらのかねあいで決定す
る事が重要である。Dカンフアーの重合の場合の
高周波出力は通常10〜300W、好ましくは50〜
200Wである。尚高周波出力は当然、目的とする
用途によつて適宜選択する必要がある。 真空度も出力と同様の傾向、効果を示し、真空
度が低下すると重合の進行が十分でなく、重合物
の物性も十分とはいえない。一方、真空度を余り
にも高くしすぎるとプラズマのエネルギーが高く
なりすぎ、モノマーの構造を殆んど残さない重合
物が出来たり、極めて架橋度の高いフイルム或い
は粉末が出来、重合物内部への物質の出入りが出
来にくくなりモノマーの性質を残存していたとし
ても重合物の性能が発現出来ない。真空度は通常
10-5〜102Torr、好ましくは10-4〜10Torr、更に
好ましくは10-3〜1Torrである。 基板の温度はプラズマ重合の本質的メカニズム
との関連は少ないが、基板温度が高い時重合生成
物の分子量、架橋が小さい場合は生成物が気化
し、放散してしまう。 又、基板温度が低い場合は温度勾配による拡散
により活性化されていないモノマーが付着凝固
し、重合性の低下がある。 (発明の効果) 本発明方法は従来の光学活性高分子の製造方法
における、工程の煩雑さ、特殊性等、又特定の光
学活性化合物にしか適用できない方法に代つてモ
ノマーを直接的かつ一段でプラズマ重合し、高分
子化出来たという点で工学的に極めて有効な方法
である。 シリカゲルを担体にして得られたDカンフアー
のプラズマ重合体はアミノ酸に対して選択吸着性
を有し、プラズマ重合体を形成させる担体を任意
の選択でき、光学分割材料等の製造に極めて有用
である。 以下実施例を示して本発明を更に詳細に説明す
る。 実施例 1 第1図には今回使用したプラズマ重合装置を示
す。1は高周波(RF)電源でここでは13.56MHz
の高周波電源を使用した。1で発生させられた高
周波は2のマツチングボツクスを通じて反応容器
3内の直径10cmの電極4に通じられる。 電極4とアースされた対の電極5との間に高周
波が印加されると反応容器内部でプラズマが発生
する。 D−カンフアー6,6′は電極の左右のモノマ
ー容器に5.0gづつ入れ、排気コントロールバル
ブ7により圧力を変化させることによりモノマー
のプラズマ中への供給量を変化させる。プラズマ
を発生させるガス或いは他のモノマーは17〜1
9から供給することができる。 2.0gの多孔性シリカ(粒径4〜32μm)20は
ガラス製容器21に入れ電極間に設置した。 D−カンフアーは減圧で昇華させ反応容器内は
圧力が一定になつたところで、高周波電圧を電極
に印加し、Dカンフアープラズマを発生させる。
高周波出力は100Wとし60分間重合を5回繰り返
した。各バツチ間にシリカを取り出しスパチユラ
ーで撹拌した。D−カンフアーのプラズマは上下
電極付近に発生し、シリカは淡茶色に着色した。
モノマー供給量は47mg/minである。 重合後シリカを取り出しアセトンにて1夜撹拌
洗浄し、過、減圧乾燥を行い、試料を得た。重
合体の付着量はシリカに対して3.9重量%であつ
た。 このシリカ微粒子200mgを2.4×10-2M/のD
及びL−トリプトフアン水溶液をそれぞれ8ml中
に入れて3時間撹拌し、吸着量を測定したとこ
ろ、D体で6.3×10-6Mの吸着が、L体で27.3×
10-6Mの吸着がありD体に対してL体の吸着量は
4.3倍で選択吸着性を有していた。尚、吸着量の
測定はトリプトフアン溶液を200倍に希釈し、紫
外吸光度法により28/nmの吸収ピークから定
量した。 実施例 2 実施例1と同様方法にて、高周波出力100W、
0.4トールの減圧下第1表に示した真空度重合時
間でプラズマ重合を行い、プラズマ重合シリカを
得た。その後実施例1と同様に洗浄過、乾燥を
行い、次いでD及びLトリプトフアンの吸着量を
測定した結果を表1に示す。
【表】 いずれにおいてもL体とD体で選択吸着性が見
られた。
【図面の簡単な説明】
第1図は一字管型プラズマ重合装置であり、1
は高周波(RF)電源、3はガラス製反応容器、
4は上部電極、5は下部電極、6,6′はD−カ
ンフアーを示し、20は微粒子を示す。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 Dカンフアーを低温プラズマ中で活性化し、
    微粒子と接触させて該微粒子の表面にプラズマ重
    合膜を形成させることを特徴とする、アミノ酸の
    選択吸着性を有するプラズマ重合膜被覆粒子の製
    造方法。 2 Dカンフアーを気化させ低温プラズマ中へ導
    入する特許請求の範囲第1項記載の方法。 3 低温プラズマを真空度10-5〜102Torrで発生
    させる特許請求の範囲第1項記載の方法。 4 微粒子が0.1mm以下の粒径のシリカゲルであ
    る特許請求の範囲第4項記載の方法。
JP19459985A 1985-09-02 1985-09-02 アミノ酸の選択吸着性を有するプラズマ重合膜被覆粒子の製造方法 Granted JPS6253734A (ja)

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JP19459985A JPS6253734A (ja) 1985-09-02 1985-09-02 アミノ酸の選択吸着性を有するプラズマ重合膜被覆粒子の製造方法

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JPS6253734A JPS6253734A (ja) 1987-03-09
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KR101217185B1 (ko) 2010-03-25 2012-12-31 광주과학기술원 플라즈마 중합 코팅에 의한 활성탄 또는 글래스비드의 표면 개질 방법, 표면 개질된 활성탄 또는 글래스비드 및 이를 포함하는 담배 필터

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