JPH052747A - 磁気記録媒体用基板および磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体用基板および磁気記録媒体の製造方法Info
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- JPH052747A JPH052747A JP15666091A JP15666091A JPH052747A JP H052747 A JPH052747 A JP H052747A JP 15666091 A JP15666091 A JP 15666091A JP 15666091 A JP15666091 A JP 15666091A JP H052747 A JPH052747 A JP H052747A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 薄型の磁気記録媒体に用いられる基板におい
て、その両面に形成されているメッキ層を平面度を良好
な状態としながら、その厚みが同じとなるように研磨さ
れた基板を実現し、スパッタリング工程における熱変形
を防止して、低浮上高さの磁気記録媒体を形成可能とす
る。 【構成】 基板の研磨工程において、基板の表面と裏面
を研磨する相対速度の比を０．８以下とした。この製造
方法により、例えば、通称３．５インチディスク用の基
板において、平面度１０μｍ以下、両面のメッキ層の厚
さの差（ＡＢＲ）０．４μｍ以下、面だれ（ロールオ
フ）０．１μｍ以下の基板を実現できた。
て、その両面に形成されているメッキ層を平面度を良好
な状態としながら、その厚みが同じとなるように研磨さ
れた基板を実現し、スパッタリング工程における熱変形
を防止して、低浮上高さの磁気記録媒体を形成可能とす
る。 【構成】 基板の研磨工程において、基板の表面と裏面
を研磨する相対速度の比を０．８以下とした。この製造
方法により、例えば、通称３．５インチディスク用の基
板において、平面度１０μｍ以下、両面のメッキ層の厚
さの差（ＡＢＲ）０．４μｍ以下、面だれ（ロールオ
フ）０．１μｍ以下の基板を実現できた。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、磁気ディスクなどの磁
気記録媒体の製造方法に関し、特に、磁気記録媒体に用
いられる基板の製造方法に関するものである。
気記録媒体の製造方法に関し、特に、磁気記録媒体に用
いられる基板の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図３に、一般的な磁気ディスクの構造を
示してある。円板状の磁気ディスク１は、先ず、Ａｌ合
金製の基体２の両面にＮｉ−Ｐのメッキ層３が形成され
て基板４が製造される。そして、この基板上にＣｒ製の
下地層５、Ｃｏ合金系の磁性層６およびカーボン製の保
護層７がスパッタ法により積層されてディスクが形成さ
れる。この下地層５、磁性層６および保護層７を均一な
層として成形するために、メッキ層３の施された基板４
の表面Ａおよび裏面Ｂはポリシング装置により研磨され
る。
示してある。円板状の磁気ディスク１は、先ず、Ａｌ合
金製の基体２の両面にＮｉ−Ｐのメッキ層３が形成され
て基板４が製造される。そして、この基板上にＣｒ製の
下地層５、Ｃｏ合金系の磁性層６およびカーボン製の保
護層７がスパッタ法により積層されてディスクが形成さ
れる。この下地層５、磁性層６および保護層７を均一な
層として成形するために、メッキ層３の施された基板４
の表面Ａおよび裏面Ｂはポリシング装置により研磨され
る。
【０００３】図４および５に、一般的に用いられるポリ
シング装置の概要を示してある。この装置は、基板４の
表面Ａを研磨する上定盤１２および裏面Ｂを研磨する下
定盤１３を備えており、基板４は円板状のキャリア１１
に設置されて上定盤１２と下定盤１３の間に挟み込まれ
るように設定されている。キャリア１１は、基板４より
薄い円板で、４つの基板設定用の穴が設けられている。
本装置の上定盤１２は周速度Ｖａで反時計方向に回転
し、下定盤１３は周速度Ｖｂで時計方向に回転する。そ
して、キャリア１１は、時計方向に周速度Ｖｉで回転す
るインターナルギア１５と、時計方向に周速度Ｖｓで回
転するサンギア１５とにその円周を接して回転している
ので、その中心は時計方向に周速度Ｖｃで回転し、速度
Ｖｃは以下の式で表される。
シング装置の概要を示してある。この装置は、基板４の
表面Ａを研磨する上定盤１２および裏面Ｂを研磨する下
定盤１３を備えており、基板４は円板状のキャリア１１
に設置されて上定盤１２と下定盤１３の間に挟み込まれ
るように設定されている。キャリア１１は、基板４より
薄い円板で、４つの基板設定用の穴が設けられている。
本装置の上定盤１２は周速度Ｖａで反時計方向に回転
し、下定盤１３は周速度Ｖｂで時計方向に回転する。そ
して、キャリア１１は、時計方向に周速度Ｖｉで回転す
るインターナルギア１５と、時計方向に周速度Ｖｓで回
転するサンギア１５とにその円周を接して回転している
ので、その中心は時計方向に周速度Ｖｃで回転し、速度
Ｖｃは以下の式で表される。
【０００４】
Ｖｃ ＝ （Ｖｓ＋Ｖｉ）／２ ・・・ （１）
また、基板の表面Ａおよび裏面Ｂを研磨するときの指標
とされるＡ、Ｂ面と各定盤との相対速度比は、以下の式
で表される。
とされるＡ、Ｂ面と各定盤との相対速度比は、以下の式
で表される。
【０００５】
Ａ／Ｂ＝（Ｖａ＋Ｖｃ）／（Ｖｂ−Ｖｃ） ・・・（２）
このような装置において、従来は、Ａ／Ｂが１となるよ
うな条件で基板の研磨が行われている。
うな条件で基板の研磨が行われている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上記の装置において研
磨された基板においては、表面と裏面の平面度を同じと
するように研磨を行うと、表面側のメッキ層の厚みが裏
面側のメッキ層と比較して薄くなってしまう。すなわ
ち、研磨工程において、研磨屑などの影響のため下定盤
の研磨性能が時間と共に劣化する。従って、裏面側の平
面度を確保するためには、表面側の研磨量が裏面側の研
磨量と比較し増加してしまう。近年、従来の基板厚１．
２７ｍｍのものから、薄型の基板厚０．８ｍｍのものが
主流になっている。このため、上記のようなメッキ層の
厚みに差のある基板においては、磁性層などを形成する
スパッタ工程において、基板が加熱されたときに、熱膨
張率の差による変形が生じてしまう。従って、ディスク
と記録ヘッドの浮上安定性の確保が難しく、磁気ディス
クに要求される高密度記録のために必要な低浮上性能を
実現することができない。
磨された基板においては、表面と裏面の平面度を同じと
するように研磨を行うと、表面側のメッキ層の厚みが裏
面側のメッキ層と比較して薄くなってしまう。すなわ
ち、研磨工程において、研磨屑などの影響のため下定盤
の研磨性能が時間と共に劣化する。従って、裏面側の平
面度を確保するためには、表面側の研磨量が裏面側の研
磨量と比較し増加してしまう。近年、従来の基板厚１．
２７ｍｍのものから、薄型の基板厚０．８ｍｍのものが
主流になっている。このため、上記のようなメッキ層の
厚みに差のある基板においては、磁性層などを形成する
スパッタ工程において、基板が加熱されたときに、熱膨
張率の差による変形が生じてしまう。従って、ディスク
と記録ヘッドの浮上安定性の確保が難しく、磁気ディス
クに要求される高密度記録のために必要な低浮上性能を
実現することができない。
【０００７】また、上記の研磨中においては、微小なが
らも定盤が基板の形状に従って歪むため、基板の端部で
ある周辺部が、基板の中心部と比較し薄くなる面だれが
生ずる。面だれが大きいディスクでは、周辺部における
記録ヘッドとの距離と、中心部における記録ヘッドとの
距離とに差が生ずるため、周辺部においては良好な記録
ができない。従って、周辺部を記録領域として用いるた
めには、面だれの少ない基板が望ましい。この面だれ
は、研磨量と密接な関係があり、一般には研磨量を増加
して平面度を向上すると面だれは大きくなる傾向があ
る。従って、高密度記録に必要な低浮上性能を確保する
ために、平面度を向上すると、面だれが大きくなり磁気
記録媒体の記録領域が減少してしまう。
らも定盤が基板の形状に従って歪むため、基板の端部で
ある周辺部が、基板の中心部と比較し薄くなる面だれが
生ずる。面だれが大きいディスクでは、周辺部における
記録ヘッドとの距離と、中心部における記録ヘッドとの
距離とに差が生ずるため、周辺部においては良好な記録
ができない。従って、周辺部を記録領域として用いるた
めには、面だれの少ない基板が望ましい。この面だれ
は、研磨量と密接な関係があり、一般には研磨量を増加
して平面度を向上すると面だれは大きくなる傾向があ
る。従って、高密度記録に必要な低浮上性能を確保する
ために、平面度を向上すると、面だれが大きくなり磁気
記録媒体の記録領域が減少してしまう。
【０００８】そこで、本発明の課題は、上記の問題点に
鑑みて、磁気記録媒体の記録密度を向上するために必要
な、良好な平面度を保持しつつ、面だれが抑制され、さ
らに、スパッタ工程における歪みの発生の少ない基板を
実現することにある。
鑑みて、磁気記録媒体の記録密度を向上するために必要
な、良好な平面度を保持しつつ、面だれが抑制され、さ
らに、スパッタ工程における歪みの発生の少ない基板を
実現することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記のような基板を実現
するために、本発明においては、基板の製造過程の研磨
工程において、基板の表面と裏面とを研磨する相対速度
を０．８以下としている。すなわち、上記のような基板
は、ディスク状の磁気記録媒体用基板のメッキ層が形成
されている表面を上方から上定盤により研磨する相対速
度と、同様のメッキ層が形成されている裏面を下方から
下定盤により研磨する相対速度との比を０．８以下とし
て、この表面および裏面の両面を研磨する研磨工程を有
することを特徴とする製造方法により製造することがで
きる。
するために、本発明においては、基板の製造過程の研磨
工程において、基板の表面と裏面とを研磨する相対速度
を０．８以下としている。すなわち、上記のような基板
は、ディスク状の磁気記録媒体用基板のメッキ層が形成
されている表面を上方から上定盤により研磨する相対速
度と、同様のメッキ層が形成されている裏面を下方から
下定盤により研磨する相対速度との比を０．８以下とし
て、この表面および裏面の両面を研磨する研磨工程を有
することを特徴とする製造方法により製造することがで
きる。
【００１０】上記のメッキ層は、Ｎｉ−Ｐのメッキ層で
あっても良く、上記の研磨工程に特徴を有する製造方法
により製造された基板に、少なくとも磁性層を積層する
工程を有することを特徴とする製造方法により磁気記録
媒体を製造することができる。
あっても良く、上記の研磨工程に特徴を有する製造方法
により製造された基板に、少なくとも磁性層を積層する
工程を有することを特徴とする製造方法により磁気記録
媒体を製造することができる。
【００１１】
【作用】上記のように、表面を研磨する相対速度と、裏
面を研磨する相対速度との比を０．８以下とすることに
より、良好な平面度を保持しながら、基板の端部におけ
る面だれを少なくし、さらに、メッキ層の膜厚の差の減
少を図ることができる。
面を研磨する相対速度との比を０．８以下とすることに
より、良好な平面度を保持しながら、基板の端部におけ
る面だれを少なくし、さらに、メッキ層の膜厚の差の減
少を図ることができる。
【００１２】例えば、この製造方法により、通称３．５
インチの磁気記録媒体に用いられる、表面および裏面の
両面がメッキ層により形成されているディスク状の磁気
記録媒体用基板を製造する場合は、基板の両面の平面度
と、その端部における面だれとが、表面および裏面の各
面毎に、平面度１０μｍ以下、面だれ０．１μｍ以下に
相当する磁気記録媒体用基板を製造することができる。
そして、この基板の表面および裏面のメッキ層の平均膜
厚の差を０．４μｍ以下とすることが可能である。
インチの磁気記録媒体に用いられる、表面および裏面の
両面がメッキ層により形成されているディスク状の磁気
記録媒体用基板を製造する場合は、基板の両面の平面度
と、その端部における面だれとが、表面および裏面の各
面毎に、平面度１０μｍ以下、面だれ０．１μｍ以下に
相当する磁気記録媒体用基板を製造することができる。
そして、この基板の表面および裏面のメッキ層の平均膜
厚の差を０．４μｍ以下とすることが可能である。
【００１３】従って、このような基板を用いて磁気記録
媒体を製造することにより、変形の少ない、低浮上性能
の記録媒体を実現できる。また、この磁気記録媒体は、
面だれも少ないので、広い記録領域を確保することがで
きる。
媒体を製造することにより、変形の少ない、低浮上性能
の記録媒体を実現できる。また、この磁気記録媒体は、
面だれも少ないので、広い記録領域を確保することがで
きる。
【００１４】
〔実験例〕図１に、本発明に係る磁気ディスクを用いて
測定したディスク表面Ａと裏面Ｂのメッキ層の膜厚の差
（ＡＢＲ）、面だれ（ロールオフ）および平面度を示し
てある。本実験に用いられたディスク基板は、直径９５
ｍｍ（通称３．５インチ）のＡｌ合金製の基体に、Ｎｉ
−Ｐを無電解メッキにより、１３〜１４μｍ程度施した
ものである。この基板を前述した図４および５に示すポ
リシング装置により、表面と裏面を研磨するときの相対
速度比Ａ／Ｂを０．６〜１．２として３μｍ研磨する。
なお、上定盤１２および下定盤１３の半径は、１２イン
チであり、研磨液としては、ＤＩＳＫＬＩＴＥ−１３２
（商品名）とＭＥＤＩＰＯＬ−Ｎ１３（商品名）の１：
１混合液を用いた。研磨パッドは、Ｓｕｒｆｉｎ０１８
−３（商品名）を用いた。
測定したディスク表面Ａと裏面Ｂのメッキ層の膜厚の差
（ＡＢＲ）、面だれ（ロールオフ）および平面度を示し
てある。本実験に用いられたディスク基板は、直径９５
ｍｍ（通称３．５インチ）のＡｌ合金製の基体に、Ｎｉ
−Ｐを無電解メッキにより、１３〜１４μｍ程度施した
ものである。この基板を前述した図４および５に示すポ
リシング装置により、表面と裏面を研磨するときの相対
速度比Ａ／Ｂを０．６〜１．２として３μｍ研磨する。
なお、上定盤１２および下定盤１３の半径は、１２イン
チであり、研磨液としては、ＤＩＳＫＬＩＴＥ−１３２
（商品名）とＭＥＤＩＰＯＬ−Ｎ１３（商品名）の１：
１混合液を用いた。研磨パッドは、Ｓｕｒｆｉｎ０１８
−３（商品名）を用いた。
【００１５】本実験の主な条件における各周速度（ｍ／
ｍｉｎ）は以下の通りである。
ｍｉｎ）は以下の通りである。
【００１６】
Ａ／Ｂ １．０ ０．８
Ｖａ ２５ ３８
Ｖｂ ７６ １１４
Ｖｉ ３２ ２７
Ｖｓ １７．６ ３０
Ｖｃ ２４．８ ２８．５
図１に示すように、本実験において速度比を減少する
と、ＡＢＲ、ロールオフおよび平面度が共に減少する。
そして速度比が約０．８において、上記の３つの値はほ
ぼ最小値となり、ＡＢＲ０．４μｍ以下、ロールオフ
０．１μｍ以下および平面度１０μｍ以下が達成でき
た。
と、ＡＢＲ、ロールオフおよび平面度が共に減少する。
そして速度比が約０．８において、上記の３つの値はほ
ぼ最小値となり、ＡＢＲ０．４μｍ以下、ロールオフ
０．１μｍ以下および平面度１０μｍ以下が達成でき
た。
【００１７】なお、ロールオフ値は、図２に示す基板表
面の形状を測定したグラフにおいて、基板の半径４２．
５ｍｍの表面形状と半径４６．５ｍｍの表面形状とを直
線IIで結び、この直線IIと表面形状の偏差の最大値とし
ている。
面の形状を測定したグラフにおいて、基板の半径４２．
５ｍｍの表面形状と半径４６．５ｍｍの表面形状とを直
線IIで結び、この直線IIと表面形状の偏差の最大値とし
ている。
【００１８】以上の実験例の結果から分かるように、基
板を研磨する際の条件として、表面Ａとポリシング装置
の上定盤との相対速度と、裏面Ｂと下定盤との相対速度
との比Ａ／Ｂを１．０未満、好ましくは０．８〜０．
６、最適値としては０．８とすることにより、従来の基
板と同様の１０μｍ以下の平面度を保持しながら、表面
および裏面のメッキ層の厚さの差が０．４μｍ以下であ
りさらに、ロールオフも０．１μｍ以下である基板を実
現できた。
板を研磨する際の条件として、表面Ａとポリシング装置
の上定盤との相対速度と、裏面Ｂと下定盤との相対速度
との比Ａ／Ｂを１．０未満、好ましくは０．８〜０．
６、最適値としては０．８とすることにより、従来の基
板と同様の１０μｍ以下の平面度を保持しながら、表面
および裏面のメッキ層の厚さの差が０．４μｍ以下であ
りさらに、ロールオフも０．１μｍ以下である基板を実
現できた。
【００１９】そして、この基板上に、従来と同様に磁性
層などの各層をスパッタ法を用いて磁気記録媒体を形成
することにより、その特性の向上の図られたものを製造
することができた。
層などの各層をスパッタ法を用いて磁気記録媒体を形成
することにより、その特性の向上の図られたものを製造
することができた。
【００２０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る磁気
記録媒体用基板は、基板の表面および裏面のメッキ層の
厚さが均等となるように基板面が研磨されている。この
ため、この基板上に磁性層等を積層させるスパッタリン
グにおける熱変形を防止できる。従って、本発明の基板
を用いて形成された磁気記録媒体においては、その表面
の湾曲などの変形が抑制でき、媒体表面と記録ヘッドと
の浮上距離を短縮して、高密度の記録を行うことが可能
となる。
記録媒体用基板は、基板の表面および裏面のメッキ層の
厚さが均等となるように基板面が研磨されている。この
ため、この基板上に磁性層等を積層させるスパッタリン
グにおける熱変形を防止できる。従って、本発明の基板
を用いて形成された磁気記録媒体においては、その表面
の湾曲などの変形が抑制でき、媒体表面と記録ヘッドと
の浮上距離を短縮して、高密度の記録を行うことが可能
となる。
【００２１】また、本発明に係る磁気記録媒体用基板に
おいては、ロールオフ（面だれ）も減少されている。こ
のため、この基板を用いて形成された磁気記録媒体にお
いては、記録領域を基板端部まで拡張できるので、記録
量の向上を図ることが可能となる。
おいては、ロールオフ（面だれ）も減少されている。こ
のため、この基板を用いて形成された磁気記録媒体にお
いては、記録領域を基板端部まで拡張できるので、記録
量の向上を図ることが可能となる。
【図１】本発明に係る磁気記録媒体用基板のメッキ層
厚、面だれ、平面度の値と、研磨速度の比との関係を示
すグラフ図である。
厚、面だれ、平面度の値と、研磨速度の比との関係を示
すグラフ図である。
【図２】図１に示す面だれ（ロールオフ）の測定方法を
示す説明図である。
示す説明図である。
【図３】磁気ディスクの構造を示す斜視図である。
【図４】磁気記録媒体用基板の研磨を行うポリシング装
置の概要を示す説明図である。
置の概要を示す説明図である。
【図５】図４に示すポリシング装置の平断面を示す断面
図である。
図である。
１ ・・・ 磁気ディスク
２ ・・・ Ａｌ合金製の基体
３ ・・・ Ｎｉ−Ｐ製のメッキ層
４ ・・・ 基板
５ ・・・ Ｃｒ製の下地層
６ ・・・ Ｃｏ合金製の磁性層
７ ・・・ カーボン保護層
１１・・・ キャリア
１２・・・ 上定盤
１３・・・ 下定盤
１４・・・ サンギア
１５・・・ インターナルギア
Ｖａ・・・ 上定盤の周速度
Ｖｂ・・・ 下定盤の周速度
Ｖｉ・・・ インターナルギアの周速度
Ｖｓ・・・ サンギアの周速度
Ａ ・・・ 基板の表面
Ｂ ・・・ 基板の裏面
Ａ／Ｂ・・・ 表面と裏面の研磨時における相対速度比
ＡＢＲ・・・ 表面と裏面のメッキ層の厚さの差
Claims (3)
- 【請求項１】 ディスク状の磁気記録媒体用基板のメッ
キ層が形成されている表面を上方から上定盤により研磨
する相対速度と、これと同様のメッキ層が形成されてい
る該磁気記録媒体用基板の裏面を下方から下定盤により
研磨する相対速度との比を０．８以下として該表面およ
び裏面の両面を研磨する研磨工程を有することを特徴と
する磁気記録媒体用基板の製造方法。 - 【請求項２】 請求項１において、前記メッキ層は、Ｎ
ｉ−Ｐのメッキ層であることを特徴とする磁気記録媒体
用基板の製造方法。 - 【請求項３】 請求項１または２に記載の研磨工程と、
この研磨工程により研磨された前記磁気記録媒体用基板
上に少なくとも磁性層を積層する工程とを有することを
特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3156660A JP2993184B2 (ja) | 1991-06-27 | 1991-06-27 | 磁気記録媒体用基板および磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3156660A JP2993184B2 (ja) | 1991-06-27 | 1991-06-27 | 磁気記録媒体用基板および磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH052747A true JPH052747A (ja) | 1993-01-08 |
| JP2993184B2 JP2993184B2 (ja) | 1999-12-20 |
Family
ID=15632516
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3156660A Expired - Lifetime JP2993184B2 (ja) | 1991-06-27 | 1991-06-27 | 磁気記録媒体用基板および磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2993184B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6488729B1 (en) | 1999-09-30 | 2002-12-03 | Showa Denko K.K. | Polishing composition and method |
-
1991
- 1991-06-27 JP JP3156660A patent/JP2993184B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6488729B1 (en) | 1999-09-30 | 2002-12-03 | Showa Denko K.K. | Polishing composition and method |
| US6607571B2 (en) | 1999-09-30 | 2003-08-19 | Showa Denko K.K. | Polishing composition and method |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2993184B2 (ja) | 1999-12-20 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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