JPH05287513A - イオンプレーティング装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 蒸発材をベルジャ内の所定の位置に扉を開け
ることなしに指定した量だけ確実に供給することができ
るようにすると共に、その蒸発材を供給する装置が蒸発
物質を遮蔽しないようにする。 【構成】 真空容器であるベルジャ１１内に、所定の位
置に蒸発材１５を指定した量だけ供給可能なパーツフィ
ーダ３０，３１を設けると共に、そのパーツフィーダ３
０，３１の少なくともスライダ部３２，３３を蒸発物質
の蒸発経路外に退避可能に構成し、蒸発材１５をベルジ
ャ１１内の所定の位置に扉１８を開けることなしに指定
量だけ確実に供給できるようにし、そのパーツフィーダ
のスライダ部３２，３３を蒸発物質の蒸発経路外に退避
させることによって、蒸発物質の遮蔽を防止して被処理
物に膜厚と色調が均一な薄膜を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、真空容器であるベル
ジャ内で蒸発材を蒸発させ、その蒸発物質をイオン化し
てその蒸発物質又はその蒸発物質と雰囲気ガスとの反応
による化合物を被処理物に付着させて薄膜を形成するイ
オンプレーティング装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】イオンプレーティング装置は、ベルジャ
内でルツボ等の所定の位置に置かれた蒸発材を加熱ある
いはそこに電子ビームを照射して蒸発させ、その蒸発物
質をイオン化してその蒸発物質又はその蒸発物質と雰囲
気ガスとの反応による化合物を被処理物に付着させて薄
膜を形成する。この薄膜を被処理物の表面に形成する処
理を行うに当たっては、通常の場合において予め被処理
物の表面を清掃するイオンボンバードを行うが、その際
にはベルジャ内に例えばアルゴンガスを導入してその容
器内を所定の圧力に保つ必要がある。

【０００３】また、イオンボンバードの後で薄膜を被処
理物の表面に形成する処理を行う場合においても、ベル
ジャ内にさらに反応ガスとして例えば窒素ガスを導入し
て、その窒素ガスと既に導入されているアルゴンガスと
で混合ガスとし、容器内を所定の圧力に保つ必要があ
る。

【０００４】ところが、そのベルジャ内で蒸発させる蒸
発材が１バッチ（１ロット）の薄膜形成処理を終える前
にルツボ上に無くなってしまった場合には、そのルツボ
上に蒸発材を必要量だけ補充しなければならないのでベ
ルジャに設けられている扉を開放することになって、せ
っかく反応ガス等を導入して所定の圧力に保っていたベ
ルジャ内の状態が崩れてしまい、それを蒸発材の補充後
に再び元の状態にまで立ち上げるのに時間を要してしま
うことになる。

【０００５】そして、この立ち上げに要する時間は１０
〜１５分程度であり、１バッチの被膜処理に要する時間
を例えば２時間とし、２４時間操業で１日当たり１２回
の処理を行っている場合に毎回扉を開けて蒸発材を補充
したとすると、１２０〜１８０分もの無駄な時間を要し
てしまうことになる。

【０００６】そこで、このような立ち上げのための無駄
な時間を無くすため、例えば実開昭６３−２４２５８号
公報に記載されている図９及び図１０に示すような手動
式の蒸発材供給装置を使用して、蒸発材が無くなったと
きでもベルジャの扉を開けることなしに蒸発材を補充で
きるようにしたものがある。

【０００７】この蒸発材供給装置は、ベルジャ１内の蒸
発材２をセットするルツボ９の上方に板状の蒸発材２を
積層状態で収納すると共に、下端部に排出口３ａを形成
した収納ガイド３を設け、その排出口３ａに回転ラチェ
ット４をブラケット６，軸受７によってベルジャ１に回
転自在に支持される軸８の一端に固定することにより設
け、その軸８の他端側に一体に固定したハンドル５を回
転させたときに、回転ラチェット４が図１０の矢示Ａ方
向に回転してその外周部に形成している爪部４ａによっ
て蒸発材２の端面を係止した状態で収納ガイド３から引
き出してスライダ１０上に落下させ、それをスライダ１
０によりルツボ９上に案内する。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな蒸発材供給装置は、それ自体がベルジャに固定され
ている構造であるため、ルツボ上から蒸発源によって蒸
発される蒸発物質の蒸発経路上にその蒸発材供給装置の
一部であるスライダの部分が位置して、それが蒸発物質
の一部を遮蔽してしまうため、その遮蔽領域にセットさ
れた被処理物に形成される薄膜の膜厚が薄くなったり、
色調が他の遮蔽されない部分に比べて異なりやすかっ
た。

【０００９】そこで、図９のスライダ１０の先端側を短
くしてルツボ９から離すことも考えられるが、このよう
にすると蒸発材をルツボ９上に確実に案内することがで
きなくなるため問題が生じる。また、蒸発材のルツボ上
への供給は作業者が手動でハンドルを回転させることに
よって行わなければならず、しかもその蒸発材の供給先
はベルジャ内のルツボ上であって見えにくいため、その
供給量を誤って少なく供給してしまった場合には１バッ
チの処理の途中でルツボ上に蒸発材が無くなってしまう
恐れもあった。

【００１０】この発明は上記の問題点に鑑みてなされた
ものであり、蒸発材を真空容器であるベルジャ内の所定
の位置に扉を開けることなしに外部から指定した量だけ
確実に供給することができ、その蒸発材を供給する装置
が蒸発物質を遮蔽するようなことがないようにして、被
処理物に膜厚と色調が均一な薄膜を形成できるようにす
ることを目的とする。また、１バッチの被膜処理が終了
した後で、被処理物を取り出して次のバッチの処理を行
う際にベルジャ内の状態を、薄膜を形成する処理が可能
な状態にまで立ち上げるのをできるだけ短時間でできる
ようにすることも目的とする。

【００１１】

【課題を解決するための手段】この発明は、上記の目的
を達成するため、上述したようなイオンプレーティング
装置において、真空容器内に、その容器内の所定の位置
に蒸発材を指定した量だけ供給可能なパーツフィーダを
設けると共に、そのパーツフィーダの少なくとも蒸発材
を上記所定の位置に導くスライダ部を蒸発物質の蒸発経
路外に退避可能に構成したものである。また、上記イオ
ンプレーティング装置において、真空容器に被処理物を
出し入れするための小窓を設ければ効果的である。

【００１２】

【作用】このように構成したイオンプレーティング装置
によれば、真空容器内の所定の位置にパーツフィーダに
よって蒸発材を指定した量だけ自動的に供給することが
できるので、手動式のように蒸発材の供給個数を間違え
たり、真空容器内の蒸発材を見ながら供給したりせずに
指定した供給量を確実に供給することができる。

【００１３】また、そのパーツフィーダは、少なくとも
スライダ部が蒸発物質の蒸発経路外に退避可能に構成さ
れているので、それが蒸発物質を遮蔽するようなことが
ないため、被処理物に膜厚と色調が均一な薄膜を形成す
ることができる。さらに、真空容器に被処理物を出し入
れするための小窓を設ければ、１バッチの被膜処理が終
了した後で、次のバッチの処理を行う際にその小窓のみ
を開放して被処理物を出し入れすることができるので、
ベルジャ内のガス及び圧力等を所定の状態に短時間で立
ち上げることができるため効率的な処理ができる。

【００１４】

【実施例】以下、この発明の実施例を図面に基づいて具
体的に説明する。図１はこの発明の一実施例を示すイオ
ンプレーティング装置のベルジャ内の要部を示す平面
図、図２は同じくそのイオンプレーティング装置の全体
を示す構成図、図３は図１のイオンプレーティング装置
の要部をベルジャの一部を破断して示す斜視図である。

【００１５】このイオンプレーティング装置は、図２に
示す真空容器であるベルジャ１１内の所定の位置、すな
わちルツボ１３Ａあるいはルツボ１３Ｂ（図１参照）上
にセットした蒸発材１５を蒸発源２０によって蒸発させ
ると共にその蒸発物質１５′をイオン化し、その蒸発物
質１５′又はその蒸発物質１５′と雰囲気ガスとの反応
による化合物を被処理物１６に付着させて薄膜を形成す
る。

【００１６】ベルジャ１１は、図２で上下の面が共に塞
がれた略円筒形状をしており、その一部に図１に示すよ
うに扉１８が矢示Ｂ方向に開閉可能に取り付けられてい
て、さらにその扉１８に被処理物１６を出し入れするた
めの小窓２５を設け、そこに開閉可能な小ドア２６（図
３に明示）を取り付けている。ベルジャ１１内の下方に
設けられている蒸発源２０は、電子銃１４Ａとルツボ１
３Ａ及び電子銃１４Ｂとルツボ１３Ｂとを備えており、
その上方にはプラズマ状態を生成するプローブ１２を配
設し、その上方に薄膜を形成する被処理物１６をセット
するようになっている。

【００１７】プローブ１２は、リング部１２ａが蒸発源
２０から例えば７０〜２００mm上方にあって、その位置
を蒸発源２０によって蒸発された蒸発物質１５′の通過
を遮蔽しない位置に配置して、その外側にフィラメント
１７を配設している。

【００１８】蒸発源２０は、ベルジャ１１内の下方にあ
って、２個のルツボ１３Ａ，１３Ｂ上にセットした蒸発
材１５に電子銃１４Ａ，１４Ｂから電子ビームをそれぞ
れ照射して蒸発物質１５′を蒸発させる。なお、図２で
２１は蒸発用電源、２２はプローブ用直流電源、２３は
被処理物用直流電源、２４はフィラメント用交流電源で
ある。

【００１９】図４はイオンプレーティング装置の一方の
側のルツボ１３Ａと電子銃１４Ａを示す概略図、図５は
そのルツボ１３Ａの形状を示す斜視図である。電子銃１
４Ａは、図４に示すように銅製のハース２７に設けられ
ており、そのハース２７の上面には凹部２７ａが形成さ
れていて、そこにルツボ１３Ａを載置する。また、他方
の図１に示す電子銃１４Ｂも同様に銅製のハースに設け
られており、その上面の凹部にルツボ１３Ｂを載置す
る。

【００２０】ルツボ１３Ａ及び１３Ｂは、共に保温効果
を高めるために、例えばグラファイトカーボン等の熱伝
導性の悪い材料で形成し、その形状を図５に示すように
円柱形の底部１３ａの上側に上方へ向けて径が大きくな
るテーパ部１３ｂを形成し、その上側に同一径の帯部１
３ｃを形成すると共に、その帯部１３ｃの一部に切欠き
１３ｄを形成し、その切欠き１３ｄを通してルツボ１３
Ａ及び１３Ｂの内部を、ベルジャ１１の外部から透明な
覗き窓（図示せず）を通して見ることができるようにし
ている。

【００２１】このように、このイオンプレーティング装
置のルツボ１３Ａ，１３Ｂは形成されているので、これ
らのルツボ内に蒸発材１５をセットして電子銃１４Ａ，
１４Ｂによってそれらを溶融して蒸発させたときに、蒸
発材１５が粒状の飛散（スプラッシュ）を生じても、そ
の飛散した粒はルツボの帯部１３ｃに当たってテーパ部
１３ｂによって底部１３ａ上に回収される。

【００２２】したがって、蒸発材１５に金のように高価
な材料を使用しているときにルツボに帯部１３ｃがなか
ったときには、スプラッシュによって金の回収率が低下
してしまうため薄膜形成処理に係るコストが上昇してし
まうが、この実施例によればそのようなことがなくなっ
て蒸発材１５の回収率が向上する。また、スプラッシュ
が防止されるため、被処理物１６に形成される薄膜が平
滑な膜となる。

【００２３】さらに、その帯部１３ｃは周方向の一部を
切り欠いて切欠き１３ｄを形成しているので、その切欠
き１３ｄを通してルツボ内を見ることができるため、蒸
発材１５の減少状態を常にベルジャ１１の扉１８を開放
せずに外部から監視することができる。したがって、そ
の蒸発材１５の減少量を確認するためにベルジャ１１の
扉１８を開放したときには、ベルジャ１１内をせっかく
所定の状態に保っていたガス及び圧力の状態を崩してし
まうが、そのようなことがないので、それを再び元の状
態にまで立ち上げるために無駄な時間を費してしまうよ
うなことがない。

【００２４】ところで、このイオンプレーティング装置
では、そのルツボ１３Ａ及び１３Ｂ上に蒸発材１５を自
動的に供給できるようになっている。すなわち、図１及
び図３に示すようにベルジャ１１内の扉１８側に、ルツ
ボ１３Ａ及び１３Ｂ上の所定の位置に蒸発材１５を指定
した量だけ供給可能なパーツフィーダ３０及び３１を設
けると共に、そのパーツフィーダ３０，３１の蒸発材１
５を上記所定の位置に導くスライダ部３２，３３を、蒸
発物質１５′（図２）の蒸発経路外となる図１に仮想線
でそれぞれ示す退避位置に退避可能に構成している。

【００２５】そのパーツフィーダ３０及び３１は、共に
公知の振動を利用して供給部材を供給口３０ａ，３１ａ
から排出するものであり、振動を停止させたときにその
供給を停止する。

【００２６】すなわち、一方のパーツフィーダ３０は、
図６に示すように有底の円柱状の収納部３４内に螺旋状
に巻いたループ部３５を設けると共に、そのループ部３
５の縦断面形状を図７に示すように上面側を開放したコ
字状とし、その内側の壁面３５ａを外側の壁面３５ｂよ
りも低い高さにして、図６の収納部３４内に小片状に形
成した供給部材となる蒸発材１５を入れて上面の蓋３６
を閉じて振動させることによって、蒸発材１５が螺旋状
のループ部３５内に入り込んで順次上昇していき、最先
端に位置する蒸発材１５から順次供給口３０ａからスラ
イダ部３２上に落下するようになっている。

【００２７】そして、そのスライダ部３２は図３に示す
ように傾斜させてあるので、そこに供給された小片状の
蒸発材１５はその上を滑ってルツボ１３Ａ内の所定の位
置に落下していく。そして、その蒸発材１５を収納する
収納部３４はベルジャ１１の扉１８に固定されており、
スライダ部３２はその一端が回転軸３７に固定されてい
て、その回転軸３７の下方が図８に示すように軸受３８
によって回転自在に支持されてベルジャ１１の外部に突
出すると共に、その回転軸３７が３個のリング状のシー
ル部材３９ａ，３９ｂ及び３９ｃによってシールされ、
ベルジャ１１内の気密が保たれるようになっている。

【００２８】その回転軸３７には係合部材４１を固定す
ると共に、それに対応させてベルジャ１１側にその係合
部材４１の球状部４１ａを係合させる係合孔４３ａ，４
３ｂをそれぞれ形成し、回転軸３７を回転させて球状部
４１ａを係合孔４３ａに係合させたときに、図１に示す
パーツフィーダ３０のスライダ部３２が蒸発材１５をル
ツボ１３Ａ上に導く実線で示す位置になり、また球状部
４１ａを係合孔４３ｂに係合させたときにそのスライダ
部３２が蒸発物質の蒸発経路外に退避する仮想線で示す
位置になるようにしてある。

【００２９】そして、この回転軸３７の回転は、モータ
等を使用した回転機構（図示せず）によりそれを回転さ
せたり、その回転軸３７の下端に図８に仮想線で示すよ
うに回転アーム４４を軸に対して直角に固定し（回転軸
を直接曲げて形成してもよい）、それを手動で回転させ
るようにしてもよい。

【００３０】また、このパーツフィーダ３０によって蒸
発材１５をルツボ１３Ａ上に供給するには、図３に示す
ようにベルジャ１１の外側に設けてある操作釦４５を押
す。そして、この実施例では、その釦を押すと小片状の
蒸発材１５の供給個数を設定する操作部４６によって予
め指定した個数の蒸発材１５が、パーツフィーダ３０に
より供給され、その指定個数の供給が完了すると自動的
に停止する。

【００３１】なお、このパーツフィーダ３０による蒸発
材１５の供給は、操作部４６を設けずに操作釦４５を押
している間だけ供給を続けるようにしてもよい。また、
パーツフィーダ３０による蒸発材１５の供給を、パーツ
フィーダ３０の振動とその停止により行ったが、パーツ
フィーダ３０を常に振動させておき、パーツフィーダ３
０の供給口３０ａの先端に自動的に開閉するドアを設
け、そのドアの開閉により蒸発材１５の供給を行っても
よい。

【００３２】また、図１に示すもう一方のルツボ１３Ｂ
上に蒸発材１５を供給するパーツフィーダ３１は、パー
ツフィーダ３０に対して収納部４７が直線状の収納部で
ある点のみが異なり、他の基本的な構成及び振動により
蒸発材１５を供給する点については同一であり、供給口
３１ａから排出させた蒸発材１５をスライダ部３３によ
ってルツボ１３Ｂ内の所定の位置に導く。

【００３３】そして、そのスライダ部３３の一端に回転
自在にベルジャ１１の底部に支持した回転軸４８を固定
すると共に、その下端側をベルジャ１１との間をシール
した状態で外部に突出させて、パーツフィーダ３０の場
合と同様にスライダ部３３が蒸発材１５をルツボ１３Ｂ
上に導く図１に実線で示す位置と、そのスライダ部３３
が蒸発物質の蒸発経路外に退避する仮想線で示す位置と
に移動して、その位置が係合部材（図８の係合部材４１
と同様なもの）によって保たれるようにしてある。

【００３４】そして、このパーツフィーダ３１の場合に
は、収納部４７内に小片状の蒸発材１５を収納した後
は、その収納部４７内の蒸発材１５を勝手に取り出せな
いようになっている。したがって、このパーツフィーダ
３１側には、高価な金等の蒸発材を収納するようにすれ
ば盗難防止にもなる。

【００３５】このイオンプレーティング装置を使用し
て、例えばステンレス製の時計バンドの表面に金色被膜
を形成するには、まず最初にその時計バンドである被処
理物を洗浄した後それを図２に示すベルジャ１１内の所
定の位置に１バッチ分の個数をセットする。

【００３６】次に、扉１８（図３参照）を十分開放する
ことによってベルジャ１１内を排気した後閉めて、その
中にアルゴンガスを導入して室内の圧力を０．０００１
Ｐａにし、蒸発用電源２１をオフにしたままで、フィラ
メント用交流電源２４によってフィラメント１７を加熱
して電子を放出させ、プローブ用直流電源２２によって
プローブ１２に所定の正電圧を印加し、フィラメント１
７から放出された電子を加速してベルジャ１１内のアル
ゴンガス分子に衝突させてイオン化する。

【００３７】そして、被処理物１６に例えば５０Ｖの負
電位の加速電圧を印加して、アルゴンイオンを被処理物
１６に引付けてその表面に衝突させることによって表面
をクリーニング（イオンボンバード）する。その後、反
応ガスとして窒素ガスをさらにベルジャ１１内に導入
し、アルゴンガスと窒素ガスの混合ガスとしてベルジャ
１１内を０．７Ｐａの圧力に保つ。

【００３８】次に、フィラメント用交流電源２４をオフ
にして、蒸発用電源２１をオンにし、蒸発源２０のフィ
ラメントを加熱すると共に負の高電圧によって電子銃１
４Ａ（図１に明示）から電子ビームを放出させる。この
際、蒸発源２０のルツボ１３Ａ上には、予め小片状に形
成した金属チタンである蒸発材１５がパーツフィーダ３
０によって複数個供給されており、そこに電子銃１４Ａ
から放出されてマグネットによって偏向された電子ビー
ムが照射されることによってそれが気化する。そして、
そのチタン蒸気と窒素ガスをイオン化して反応させ、窒
化チタン(ＴiＮ）被膜を被処理物１６の表面に形成す
る。

【００３９】次に、同様に蒸発材１５として金・ニッケ
ル（Ａｕ−Ｎｉ）合金が治められているもう一つのパー
ツフィーダ３１から、金・ニッケル（Ａｕ−Ｎｉ）合金
が１個供給されているもう一つのルツボ１３Ｂ（図１に
明示）に、前述した金属チタンの場合と同様に電子銃１
４Ｂから電子ビームを照射して、既に表面に窒化チタン
被膜が形成されている被処理物１６のその被膜上に、さ
らに金・ニッケル合金被膜を形成する。そして、最後に
小窓２５を小ドア２６を開けることによって開放し、そ
の金色被膜が形成された被処理物１６をベルジャ１１内
から取り出す。

【００４０】なお、このように金色被膜を形成する場合
には、一方のパーツフィーダ３１の収納部４７に、蒸発
材として「金・ニッケル合金」と「金（純金）」とを
「金・ニッケル合金」−「金」−「金・ニッケル合金」
……のように交互に配列して、「金・ニッケル合金」と
「金」とを交互にルツボ１３Ｂ上に供給するようにする
とよい。

【００４１】これは、金・ニッケル合金の場合には、そ
の蒸発過程において金の部分がニッケルよりも早く蒸発
してしまい、そのままの状態では金が不足して被処理物
１６に形成される薄膜にバラツキが生じてしまうため、
途中で金（純金）のみを補充して不足分を補うようにし
て、その後で再び金・ニッケル合金を供給する供給サイ
クルにすると、安定した薄膜を形成することができるた
めである。

【００４２】このように、この実施例によるイオンプレ
ーティング装置によれば、ベルジャ１１内の所定のルツ
ボ上にパーツフィーダ３０及び３１によってチタンや金
合金等の蒸発材１５を指定した量だけ自動的に供給する
ことができるので、手動式の供給装置のように蒸発材の
供給個数を間違えたり、ベルジャ内の蒸発材を見ながら
供給したりするようなことをせずに、指定した供給量を
確実に供給することができる。

【００４３】また、パーツフィーダ３０と３１は、共に
スライダ部３２，３３が蒸発物質の蒸発経路外に退避可
能であってそれが蒸発物質を遮蔽するようなことがない
ので、被処理物に膜厚と色調が均一な薄膜を形成するこ
とができる。なお、上記実施例はルツボが２個ある場合
の例について説明したが、この発明はルツボが３個以
上、あるいは１個のイオンプレーティング装置にも同様
に適用することができる。

【００４４】また、パーツフィーダ３０と３１は、蒸発
物質の蒸発経路外に退避可能な部位をスライダ部３２，
３３のみとしているが、その退避可能な部位はそれに限
ることなく、収納部３４，４７を含めた全体を回動させ
るようにしてもよいし、その移動をスライド移動によっ
て行うようにしてもよい。さらに、パーツフィーダは振
動式に限るものではなく、蒸発材を指定した量だけルツ
ボ上に確実に供給できるものであればそれ以外の供給方
式によるものであってもよい。

【００４５】

【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、真空容器の扉を開放するようなことをせずにその容
器内の所定の位置にパーツフィーダによって蒸発材を指
定した量だけ自動的に供給することができるため、扉を
開放して蒸発材を補充した時のように容器内のガスや圧
力の状態を再び元の状態までに立ち上げるのに時間を要
するようなことがないので、効率的な薄膜形成ができ
る。また、手動式のように蒸発材の供給個数を間違えた
り、真空容器内の蒸発材を見ながら供給したりせずに指
定した供給量を確実に供給することができるので、信頼
性が向上すると共に操作性も向上する。

【００４６】また、パーツフィーダは、少なくともスラ
イダ部が蒸発物質の蒸発経路外に退避可能に構成されて
いるので、それが蒸発物質を遮蔽するようなことがない
ため、被処理物に膜厚と色調が均一な薄膜を形成するこ
とができる。さらに、真空容器に被処理物を出し入れす
るための小窓を設ければ、１バッチの被膜処理が終了し
た後で、次のバッチの処理を行う際にその小窓のみを開
放して被処理物を出し入れすることができるので、ベル
ジャ内のガス及び圧力等を所定の状態に短時間で立ち上
げることができるため効率的な処理ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の一実施例を示すイオンプレーティン
グ装置のベルジャ内の要部を示す平面図である。

【図２】同じくそのイオンプレーティング装置の全体を
示す構成図である。

【図３】図１のイオンプレーティング装置の要部をベル
ジャの一部を破断して示す斜視図である。

【図４】同じくそのイオンプレーティング装置に設けら
れている一方のルツボ１３Ａとその付近を示す概略図で
ある。

【図５】同じくそのルツボ１３Ａの詳細形状を示す斜視
図である。

【図６】図３のイオンプレーティング装置に設けられて
いる一方のパーツフィーダ３０の収納部３４の内部を示
す概略図である。

【図７】同じくその収納部３４内に設けられているルー
プ部３５とそこを上昇する蒸発材１５を示す平面図であ
る。

【図８】図３のパーツフィーダ３０の回転支持部の構造
を示す断面図である。

【図９】従来の蒸発材供給装置の例を示す構成図であ
る。

【図１０】同じくその装置の蒸発材を排出する部分を示
した側面図である。

【符号の説明】

１１ ベルジャ（真空容器） １２ プローブ １３Ａ，１３Ｂ ルツボ １４Ａ，１４Ｂ
電子銃 １５ 蒸発材 １５′ 蒸発物
質 １６ 被処理物 １８ 扉 ２０ 蒸発源 ２５ 小窓 ３０，３１ パーツフィーダ ３２，３３ ス
ライダ部 ３７，４８ 回転軸

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 真空容器内の所定の位置にセットした蒸
   発材を蒸発源によって蒸発させると共にその蒸発物質を
   イオン化し、該蒸発物質又はその蒸発物質と雰囲気ガス
   との反応による化合物を被処理物に付着させて薄膜を形
   成するイオンプレーティング装置において、 前記真空容器内に、前記所定の位置に蒸発材を指定した
   量だけ供給可能なパーツフィーダを設けると共に、該パ
   ーツフィーダの少なくとも蒸発材を前記所定の位置に導
   くスライダ部を前記蒸発物質の蒸発経路外に退避可能に
   構成したことを特徴とするイオンプレーティング装置。
2. 【請求項２】 請求項１記載のイオンプレーティング装
   置において、前記真空容器に被処理物を出し入れするた
   めの小窓を設けたことを特徴とするイオンプレーティン
   グ装置。