JPH05290941A - 異方性導電膜を用いた基板の接続方法 - Google Patents

異方性導電膜を用いた基板の接続方法

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JPH05290941A JP9558292A JP9558292A JPH05290941A JP H05290941 A JPH05290941 A JP H05290941A JP 9558292 A JP9558292 A JP 9558292A JP 9558292 A JP9558292 A JP 9558292A JP H05290941 A JPH05290941 A JP H05290941A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 基板間の接着強度及び接続信頼性を向上しう
る異方性導電膜を用いた基板の接続方法を提供する。 【構成】 4層リジッド基板1上に、幅0.50mm、
厚み0.080mmの銅パターン4が複数形成される。
各銅パターン4間の間隔は0.10mmである。両面F
PC7上に、幅0.30mm、厚み0.035mmの銅
パターン9が形成される。各銅パターン9間の間隔は
0.30mmである。対応する銅パターン4,9間に異
方性導電膜12を挟んで熱圧着することにより、4層リ
ジッド基板4と両面FPC7とを接続する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えば液晶表示装置等
に用いて好適な異方性導電膜を用いた基板の接続方法に
関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、LCD(液晶表示板)とFP
C(フレキシブルプリント基板)や、片面若しくは両面
リジッド基板とFPCとの電気的な接続を行うために粘
着性の樹脂フィルム中に導電性粒子を分散させた異方性
導電膜が用いられている。図4,5は多層プリント基板
とFPCとの接続に異方性導電膜が用いられた場合を示
すものである。ここで、図4はファインパターンの場
合、図5はラフパターンの場合を示す。同図に示すよう
に、多層リジッド基板21内には内層回路を構成する銅
パターン22が形成され、さらに多層リジッド基板21
上には接続端子である外層の銅パターン23が形成され
ている。一方、多層リジッド基板21に対向するFPC
24には、上記銅パターン23に対応する銅パターン2
5が形成されている。そして、多層リジッド基板21及
びFPC24上に形成された銅パターン23,25間に
厚み0.030mm程度の異方性導電膜26を挿入し、
これらを熱圧着することにより導電性粒子27を介して
銅パターン23,25同士を接続する。ここで、多層リ
ジッド基板21の外層の銅パターン23の厚みは0.0
80mm程度、FPC24の外層の銅パターン25の厚
みは0.035mm程度である。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、かかる
従来例の場合、多層リジッド基板21とFPC24の接
着強度が低く、また、電気的接続の信頼性が低いという
問題があった。すなわち、多層リジッド基板21におい
ては、その製造工程に起因して外層の銅パターン23の
厚みが厚く形成されるため、銅パターン間に形成される
空間の体積がこれに伴って大きくなり、その結果、この
空間内に異方性導電膜26が充填されず、相対的に接着
剤の量が不足して導体パターン間の接着が十分に行われ
ないことがこの原因であった。つまり、図4Aに示すパ
ターンの場合、図4Bに示すように銅パターン23,2
5間に形成される空間28の断面積は0.0375mm
2 になるのに対し、圧着に供する異方性導電膜26の断
面積は0.018mm2 しかなく、空間28内に空隙が
生ずる。また、図5Aに示すパターンの場合も同様に、
図5Bに示すようにかかる空間28の断面積は0.10
mm2 であるのに対し、圧着に供する異方性導電膜26
の断面積は0.048mm2 で、空間28内に空隙が生
ずる。この場合、異方性導電膜26の厚みを厚くするこ
とにより上記問題の解決を図ることも考えられるが、異
方性導電膜26はその製造工程から現状(0.030m
m程度)以上に厚くすることが困難で、また厚くすると
接続信頼性が低下することからかかる方法は採用するこ
とができない。
【0004】本発明は従来例のかかる点に鑑みてなされ
たもので、その目的とするところは、基板間の接着強度
及び接着信頼性を向上しうる異方性導電膜を用いた基板
の接続方法を提供することにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】第1の発明は、例えば図
1に示すように、相対向する基板1,7に形成された複
数の導体パターン4,9間に異方性導電膜12を介在さ
せることによりこれらの基板1,7間の電気的な接続を
行う異方性導電膜を用いた基板の接続方法において、一
方の基板1の隣接する導体パターン4間の間隔を、他方
の基板7の隣接する導体パターン9の間隔より狭くした
ものである。
【0006】また、第2の発明は、例えば図3に示すよ
うに、相対向する基板1,7に形成された複数の導体パ
ターン4,9間に異方性導電膜12を介在させることに
よりこれらの基板1,7間の電気的な接続を行う異方性
導電膜を用いた基板の接続方法において、一方の基板1
の隣接する導体パターン4間に、フォトソルダーレジス
トによるパターン14を形成したものである。
【0007】
【作用】かかる構成を有する第1の発明においては、一
方の基板1の隣接する導体パターン4間の間隔を他方の
基板7の隣接する導体パターン9の間隔より狭くするこ
とにより、基板1,7間の空間13の体積が従来例に比
べて小さくなる。また、第2の発明においては、一方の
基板1の隣接する導体パターン4間にフォトソルダーレ
ジストによるパターン14を形成することにより、第1
の発明と同様に、基板1,7間の空間13の体積が従来
例に比べて小さくなる。従って、本発明によれば、かか
る空間13に対する異方性導電膜12の比率が高めら
れ、空隙が発生しにくくなる。
【0008】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。図2Aは本発明が適用される多層基板である4層
リジッド基板1の構成を示すものである。同図に示すよ
うに、ガラスエポキシ樹脂からなる基板2内には、内層
導体である2層の銅パターン3が形成されている。この
場合、4層リジッド基板1全体の厚みは0.8mm、各
銅パターン3の厚みは0.035mmである。また、基
板2の両面には、それぞれ厚み0.080mmの外層導
体である銅パターン4が形成されている。さらに、銅パ
ターン4の接続部の表面は金めっきによる表面処理5が
施され、その他の表面部分にはソルダーレジスト層6が
形成されている。
【0009】図2Bは本発明が適用される両面フレキシ
ブルプリント基板(以下「両面FPC」という)7の構
成を示すものである。ここで、基板8は、厚みが0.0
25mmのポリイミド樹脂層8aと、このポリイミド樹
脂層8aの両面に形成した厚み0.020mmの接着剤
層8bとから構成される。この場合、接着剤として商品
名CKI−0102W(ソニーケミカル社製)を用い
た。これら各接着剤層8bの表面には厚み0.035m
mの銅パターン9が形成されている。
【0010】上述の接着剤層8b又は銅パターン9の表
面にはカバーレイ10が形成されている。このカバーレ
イ10は、接着剤層8b又は銅パターン9上に形成され
る接着剤層10aと、この接着剤層10a上に形成され
るポリイミド樹脂層10bとから構成される。この場
合、接着剤として商品名CFK2(ソニーケミカル社
製)を用いた。尚、銅パターン9の接続部はニッケル及
び金めっきによる表面処理11が施されている。また、
この両面FPC7の全体の厚みは0.23mmである。
【0011】図1Aは、本発明の第1実施例の要部を示
すもので、上述の4層リジッド基板1と両面FPC7と
の接続部分を示す断面図である。同図に示すように、本
実施例においては、従来例と同様4層リジッド基板1上
に形成された銅パターン4と両面FPC7上に形成され
た銅パターン9とが異方性導電膜12中の導電性粒子1
2aを介して接続されている。尚、理解を容易にするた
め、各銅パターン4,9の厚みは幅方向に比べて厚く描
いてある。
【0012】同図に示すように、本実施例においては、
4層リジッド基板1の銅パターン4の幅Dが、両面FP
C7の銅パターン9の幅dよりも大きくなるように形成
されている。具体的には、D=0.50mmに対し、d
=0.30mmとなっている。一方、各銅パターン4,
9の厚みについては、従来例と変わらず、4層リジッド
基板1の銅パターン4の厚みHは0.080mm、FP
C7の銅パターン9の厚みhは0.035mmである。
尚、4層リジッド基板1の銅パターン4相互間の間隔A
は0.10mm、両面FPC7の銅パターン9相互間の
間隔aは0.30mmに設定されている。さらに、銅パ
ターン4,9間の間隔gは従来例と同様に0.005m
mである。
【0013】かかる構成を有する本実施例にあっては、
図1Bに示すように各銅パターン4,9間の空間13の
断面積は以下のようになる。
【0014】 a×h=0.30×0.035=0.0105mm2 A×H=0.10×0.080=0.008mm2 p×g=0.60×0.005=0.003mm2 ───────────────────────── 計0.0215mm2
【0015】従って、本実施例によれば、各銅パターン
4,9間の空間13の断面積が0.0215mm2 にな
り、従来例(0.035mm2 )の57.3%に削減さ
れる。この結果、銅パターン4,9間の接着剤フローが
十分行えるようになり、銅パターン4,9間における空
隙の発生する比率が、約16%(従来例の場合は52
%)に向上する。
【0016】《実験例1》次に、本発明を実験例を用い
てさらに詳しく説明する。
【0017】まず、上述の構成を有する4層リジッド基
板1と両面FPC7とを、異方性導電膜12を用いて接
続した。この場合、幅が2mm、長さが200mmのプ
レスヘッドを有する異方性導電膜用の圧着機を用い、圧
着部の温度を170℃とし、40kg/cm2 の圧力下
で20秒間プレスすることにより圧着を行った。
【0018】その後、4層リジッド基板1と両面FPC
7との接着強度を測定した。この場合、引張角度は90
°ピールとし、また引張速度は50mm/minとし
た。また、サンプル数は10個とした。その結果、本実
験例においては、接着力強度が0.7〜0.9kg/c
2 となった。
【0019】次に、以下の試験により本実験例の信頼性
を評価した。A.高温高湿度保存性試験 上述の4層リジッド基板1とFPC7との圧着体を、温
度60℃、湿度95%の環境下に2000時間置いたの
と同等の試験を行った。B.ヒートショック試験 上述の圧着体を、40℃の温度下に30分置いた後、1
00℃の温度下に30分置くというサイクルを500サ
イクル繰り返した。C.MILサイクル試験 MILSTD−202F−106Eを用い、MILサイ
クル試験を50サイクル行った。
【0020】上記A〜Cの試験において、表1に示す時
間又はサイクル毎に導通抵抗の測定を行い、異方性導電
膜部の導通抵抗が0.01Ω以上増加した場合に不良
(×)と判定し、その増加分が0.01Ω未満であれば
良好(○)と判定した。尚、各試験ともにサンプル数は
5個とした。
【0021】《比較例1》図4に示す従来例と同様の構
成を有する4層リジッド基板21とFPC24とを異方
性導電膜26を用いて上述の実験例1と同様の圧着条件
で接続した。そして、この圧着体について実験例1と同
様の方法により接着力強度測定を行ったところ、接着力
は0.5〜0.8kg/cm2 となり、実験例1よりも
劣っていた。尚、サンプル数は実験例1と同じく10個
とした。また、この比較例1について実験例1と同様の
方法により信頼性を評価したところ、表1に示すよう
に、高温高湿度保存性およびMILサイクル試験におい
て実験例1よりも劣っていることが判明した。
【0022】
【表1】
【0023】図3は本発明の第2実施例の要部を示すも
のであり、以下、上述の第1実施例と対応する部分につ
いては同一の符号を付して説明する。本実施例において
は、1.6mmピッチの4層リジッド基板と両面FPC
の接続を、2.5mm幅の異方性導電膜(商品名CP3
131)を用いて行った。この場合、4層リジッド基板
と両面FPCの基本的な構成は第1実施例と同一であ
る。
【0024】図2に示すように、本実施例の場合、4層
リジッド基板1の銅パターン4及び両面FPC7の銅パ
ターン9の幅D,dは、ともに0.80mmとなるよう
に形成されている。そして、各銅パターン4,9の幅a
は0.80mmとなっている。尚、4層リジッド基板1
及びFPC7の各銅パターン4,9の厚みH,hは、第
1実施例と同じくそれぞれ0.080mm、0.035
mmであり、また対応する銅パターン4,9間のギャッ
プgも第1実施例と同様に0.005mmである。
【0025】さらに本実施例においては、4層リジッド
基板1の各銅パターン4間にフォトソルダーレジストパ
ターン14が形成されている。このフォトソルダーレジ
ストパターン14は、幅bが0.60mmで厚みcが
0.070mmである。ここで、フォトソルダーレジス
トとしては、商品名PSR4000(太陽インキ社製)
を用いた。
【0026】かかる構成を有する本実施例にあっては、
各銅パターン4,9間の空間13の断面積は、図5Bに
示す従来例における空間28の断面積が0.100mm
2 であることを考慮すると、以下のようになる。
【0027】 0.100−b×c=0.100−0.60×0.07=0.058mm2
【0028】すなわち、本実施例によれば、各銅パター
ン4,9間の空間13の断面積が0.1mm2 から0.
058mm2 になり、従来例の58%に削減される。こ
の結果、第1実施例の場合と同様に、銅パターン4,9
間の接着剤フローが十分行えるようになり、銅パターン
4,9間における空隙の発生率が約17%に減少し、安
定した接着力が得られるようになる。
【0029】《実験例2》上述の実験例1と同じ条件で
異方性導電膜の圧着及び接着力強度の測定を行った。そ
の結果、実験例2においては、銅パターン4,9の間に
おいて0.6〜0.9kg/cm2 、銅パターン4,9
部において1.0〜2.5kg/cm2 であった。尚、
サンプル数は10個とした。また、実験例2についても
実験例1と同じ条件で信頼性の評価を行ったところ、表
2に示すように、各試験ともに良好な結果が得られた。
尚、サンプル数は実験例1と同じく5個とした。
【0030】《比較例2》図5に示す従来例と同様の構
成を有する4層リジッド基板21とFPC24とを、異
方性導電膜26を用い、実験例2と同じ圧着条件で接続
した。そして、この圧着体について実験例2と同様の方
法により圧着力強度測定を行ったところ、銅パターン2
3,25の間において0.4〜0.6kg/cm2 、銅
パターン23,25部において0.8〜1.8kg/c
2 となり、いずれも実験例2より劣っていた。また、
この比較例2について実験例2と同様の方法により信頼
性を評価したところ、表2に示すように、高温高湿度保
存性およびMILサイクル試験において実験例2よりも
劣っていることが判明した。
【0031】
【表2】
【0032】尚、本発明は上述の寸法の導体パターンを
有する基板に限られることはなく、種々の寸法の導体パ
ターンを有する基板に適用することができる。ただし、
導体パターンの厚みが厚くなる多層リジッド基板に適用
した場合に最も効果がある。
【0033】また、第2実施例のソルダーレジストパタ
ーンの厚みについても、4層リジッド基板の厚みよりも
薄ければ種々の値を適宜選択可能である。
【0034】
【発明の効果】以上述べたように本発明にあっては、一
方の基板の隣接する導体パターン間の間隔を他方の基板
の隣接する導体パターンの間隔より狭くすること、ま
た、一方の基板の隣接する導体パターン間にフォトソル
ダーレジストによるパターンを形成することによって、
基板間の接着強度及び接続信頼性を向上させることがで
きる。
【図面の簡単な説明】
【図1】A 本発明の第1実施例の接続部分の断面図で
ある。 B 同実施例の銅パターン間の空間の断面積を示す説明
図である。
【図2】A 本発明が適用される4層リジッド基板の断
面図である。 B 本発明が適用される両面フレキシブル基板の断面図
である。
【図3】A 本発明の第2実施例の接続部分の断面図で
ある。 B 同実施例の銅パターン間の空間の断面積を示す説明
図である。
【図4】A 従来例の接続部分の断面図である。 B 同従来例の銅パターン間の空間の断面積を示す説明
図である。
【図5】A 他の従来例の接続部分の断面図である。 B 同従来例における銅パターン間の空間の断面積を示
す説明図である。
【符号の説明】
1 4層リジッド基板 4,9 銅パターン 7 両面フレキシブル基板 12 異方性導電膜

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 相対向する基板に形成された複数の導体
    パターン間に異方性導電膜を介在させることにより該基
    板間の電気的な接続を行う異方性導電膜を用いた基板の
    接続方法において、 一方の基板の隣接する導体パターン間の間隔を、他方の
    基板の隣接する導体パターンの間隔より狭くしたことを
    特徴とする異方性導電膜を用いた基板の接続方法。
  2. 【請求項2】 相対向する基板に形成された複数の導体
    パターン間に異方性導電膜を介在させることにより該基
    板間の電気的な接続を行う異方性導電膜を用いた基板の
    接続方法において、 一方の基板の隣接する導体パターン間に、フォトソルダ
    ーレジストによるパターンを形成したことを特徴とする
    異方性導電膜を用いた基板の接続方法。
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