JPH0529238B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

産業上の利用分野 本発明は、新規な3′−Ｏ−チオベンゾイル−
2′−デオキシ−β−ウリジン誘導体に関する。 従来の技術及びその問題点 一般式 〔式中、Ｘはハロゲン原子、低級アルキル基又
はトリフルオロメチル基を示す。〕 で表わされる3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−
β−ウリジン類は、優れた制癌作用を有し、抗腫
瘍剤として有用な化合物である。 従来、上記一般式（）のウリジン類の製造法
としては、例えば一般式 〔式中、X′は弗素原子又はトリフルオロメチ
ル基を示す。〕で表わされる化合物の糖部水酸基
をベンジル化した後、Ｎ−ベンゾイル基の除去反
応を行なうことにより製造されている。例えば糖
部水酸基のベンジル化に際し、酸化銀、酸化バリ
ウム又は酸化水銀の存在下に臭化ベンジルを作用
させる方法が知られている（特開昭59−216899号
公報、特開昭60−61591号公報参照）。しかしなが
ら、上記方法において、酸化バリウム又は酸化水
銀を使用する場合には、ベンジル化は殆んど進行
せず、従つて目的化合物を微量に得ることができ
るに過ぎない。また酸化銀を使用する場合、酸化
バリウム及び酸化水銀を使用する場合に比し、ベ
ンジル化は進行するものの、目的とする3′−Ｏ−
ベンジル−2′−デオキシ−β−ウリジン類を選択
的に得ることができず、5′−Ｏ−ベンジル−2′−
デオキシ−β−ウリジン類との混合物として得ら
れるに止まり、それ故必然的に3′−Ｏ−ベンジル
−2′−デオキシ−β−ウリジン類の収率は低くな
ると共に、カラムクロマトグラフイーによる分離
操作が必要となり、加えて酸化銀は高価なもので
あるため、工業的製造法として適したものではな
い。 問題点を解決するための手段 本発明者らは、上記一般式（）の3′−Ｏ−ベ
ンジル−2′−デオキシ−β−ウリジン類を工業的
に有利な方法で製造し得る新しい製造法を開発す
べく研究を重ねた結果、下記一般（）を経由し
た場合に本発明の所期の目的を達成し得ることを
見い出した。本発明は、斯かる知見に基づい完成
されたものである。 本発明は、下記一般式（）で表わされる3′−
Ｏ−チオベンゾイル−2′−デオキシ−β−ウリジ
ン誘導体に係る。 〔式中、Ｒはトリチル基、低級アシル基又はモ
ノハロゲン置換ベンゾイル基を示す。Ｘはハロゲ
ン原子、低級アルキル基又はトリフルオロメチル
基を示す。〕 本明細書において、低級アシル基としては、炭
素数１〜６のアシル基、具体的にホルミル、アセ
チル、プロピオニル、ブチリル、ピバロイル、ヘ
キサノイル基等を例示できる。 モノハロゲン置換ベンゾイル基としては、弗素
原子、塩素原子、臭素原子及び沃素原子によりオ
ルト位、メタ位又はパラ位のいずれか一ケ所が置
換されたベンゾイル基、具体的にはｐ−クロルベ
ンゾイル、ｏ−フルオロベンゾイル、ｍ−クロル
ベンゾイル、ｐ−ブロモベンゾイル、ｐ−ヨード
ベンゾイル基等を例示できる。 ハロゲン原子としては、弗素原子、臭素原子、
沃素原子等を例示できる。 低級アルキル基としては、炭素数１〜４のアル
キル基、具体的にはメチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル基等を例示できる。 本発明の一般式（）で表わされる3′−Ｏ−チ
オベンゾイル−2′−デオキシ−β−ウリジン誘導
体は、例えば下記反応式に示すように２−デオキ
シ−３−Ｏ−チオベンゾイル−Ｄ−リボフラノー
ス誘導体（）とピリミジン誘導体（）とを縮
合反応させることにより製造される。 〔式中Ｒ及びＸは前記に同じ。Ｙは低級アルキ
ル基を示す。〕 ２−デオキシ−３−Ｏ−チオベンゾイル−Ｄ−
リボフラノース誘導体（）とピリミジン誘導体
（）との反応は、通常適当な溶媒中触媒の存在
下で行なわれる。ここで用いられる溶媒として
は、該反応に悪影響を与えないものである限り従
来公知のものを広く使用でき、具体的にはベンゼ
ン、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、塩化メチレン、１，２−ジクロルエタン、ク
ロロホルム、アセトン、アセトニトリル、ジメチ
ルホルムアミド等の慣用の非プロトン性溶媒を用
いることができる。また触媒としては、トリメチ
ルシリルトリフルオロメタンスルホネート、トリ
エチルシリルトリフルオロメタンスルホネート等
のトリアルキルシリルパーフルオロアルカンスル
ホネートを使用するのが好ましい。上記触媒の使
用量としては、化合物（）に対して通常0.5〜
５モル当量程度、好ましくは１〜３モル当量程度
とするのがよい。化合物（）と化合物（）と
の使用割合としは、特に限定されるものではない
が、通常前者に対し後者を0.5〜２モル当量程度
とするのがよい。上記反応の反応温度としては、
使用される溶媒の種類により異なり一概には言え
ないが、凝固点以上〜室温以下で反応を行なうの
が好適である。また反応時間も特に限定されない
が、一般に10時間以内で該反応は完結する。 上記縮合反応により、3′−Ｏ−チオベンゾイル
−2′−デオキシ−α−ウリジン誘導体に優先して
本発明の3′−Ｏ−チオベンゾイル−2′−デオキシ
−β−ウリジン誘導体を収得し得る。 上記反応において、出発原料として用いられる
２−デオキシ−３−Ｏ−チオベンゾイル−Ｄ−リ
ボフラノース誘導体（）は、例えば下記反応式
に示す方法により容易に製造され得る。 〔式中Ｒ、Ｘ及びＹは前記に同じ。〕 即ち、２−デオキシ−３−Ｏ−チオベンゾイル
−Ｄ−リボフラノース誘導体（）は、公知の２
−デオキシ−Ｄ−リボフラノースより公知の方法
で導いた化合物（）の５位水酸基Ｒで表わされ
る適当な置換基で保護して化合物（）を得た
後、通常のチオベンゾイル化反応を適用すること
により製造される。 ここで化合物（）及び化合物（）は、公知
の化合物であるか又は公知の方法により容易に製
造される化合物である〔ケミシエ ベリヒテ
（Chem，Ber，93，2777（1960）参照〕。 化合物（）から化合物（）を得る反応は、
例えばチオベンゾイルクロライド、フエニルジチ
オベンゾエート等のチオベンゾイル化試薬を用
い、通常のエステル化反応と同様にして行ない得
る。具体的には、使用されるチオベンゾイル化試
薬の種類により異なるが、例えばチオベンゾイル
クロライドを用いた場合には、次のようになる。 化合物（）から化合物（）を得る反応は、
通常適当な溶媒中で行なれる。ここで用いられる
溶媒としては、該反応に悪影響を与えるものでな
い限り特に限定されず、従来公知のものを広く使
用でき、具体的にはベンゼン、エーテル、テトラ
ヒドロフラン、ジオキサン、塩化メチレン、クロ
ロホルム、アセトニトリル、ピリジン、ジメチル
ホルムアミド等の慣用の非プロトン性溶媒を用い
ることができる。チオベンゾイルクロライドの使
用量としては、化合物（）１モルに対し１〜３
モル程度とするのが好ましい。また上記反応系内
には、塩基を存在させるのがよく、斯かる塩基と
しては、水素化ナトリウム、ピリジン、トリアル
キルアミン等の有機塩基を好ましく例示できる。
該塩基の使用量としては、チオベンゾイルクロラ
イド１モルに対し１〜５モル程度とするのが好ま
しいが、該塩基が反応溶媒としても使用できる場
合には、上記モル数を越えて使用することも勿論
可能である。該反応の反応温度は、特に限定され
ないが、通常氷冷下乃至溶媒の沸騰温度範囲、好
ましくは氷冷下〜室温付近である。反応時間は、
一般に0.5〜10時間程度である。 またチオベンゾイル化試薬としてフエニルジチ
オベンゾエートを使用する場合には、次のように
なる。 化合物（）から化合物（）を得る反応は、
通常適当な溶媒中で行なわれる。ここで用いられ
る溶媒としては、該反応に悪影響を与えるもので
ない限り特に限定されず、従来公知のものを広く
使用でき、具体的には上記と同様の慣用の非プロ
トン性溶媒を用いることができる。フエニルジチ
オベンゾエートの使用量としては、化合物（）
１モルに対し１〜３モル程度とするのが好まし
い。また上記反応系内には、上記と同様の塩基を
存在させるのがよい。これらの塩基の中でも水素
化ナトリウムが好ましい。該塩基の使用量として
は、化合物（）１モルに対し0.5〜５モル程度
とするのが好ましい。該反応の反応温度は、特に
限定されないが、通常氷冷下乃至溶媒の沸騰温度
範囲、好ましくは室温付近で反応は良好に進行す
る。反応時間は、一般に10分〜10時間程度であ
る。 他の一方の出発原料として使用されるピリミジ
ン誘導体（）もまた、公知の方法、例えば特開
昭５−105673号公報に記載の方法に従い製造され
る。 上記各々の方法で得られる目的化合物は、通常
公知の分離製手段、例えば再結晶、カラムクロマ
トグラフイー等により単離、精製され得る。 本発明の上記一般式（）で表わされる3′−Ｏ
−チオベンゾイル−2′−デオキシ−β−ウリジン
誘導体は、これを脱硫還元し、次いで脱保護反応
させるか、又は脱保護反応させ、次いで脱硫還元
することにより医薬として有用な3′−Ｏ−ベンジ
ル−2′−デオキシ−β−ウリジン類（）に誘導
することができる。 脱硫還元は、通常適当な溶媒中、適当な還元剤
を用いて行なわれる。還元剤としては、例えば水
素化リチウムアルミニウム−塩化アルミニウム、
水素化硼素ナトリウム−三弗化硼素等の他、ラネ
ーニツケル触媒等の接触還元触媒を例示でき、特
にラネーニツケル触媒が好適である。斯かる触媒
の使用量としては、通常還元されるべき化合物に
対し１〜50倍重量程度、好ましくは５〜20倍重量
程度とするのがよい。また溶媒としては、該反応
に悪影響を及ぼさない限り従来公知のものを広く
使用でき、具体的にはエーテル、テトラヒドロフ
ラン、塩化メチレン、クロロホルム、アセトン、
アセトニトリル、ジメチルホルムアミド等の慣用
の非プロトン性溶媒、メタノール、エタノール等
のアルコール類等が挙げられる。該反応は、冷却
下、室温下及び加熱下のいずれでも行ない得る
が、通常−50〜100℃程度、好ましくは−30℃〜
室温付近で反応が好適に進行し、一般に10時間以
内で該反応は終了する。 脱保護反応には、この分野で通常行なわれてい
るアルコリシス、アミノリシス、アンモノリシ
ス、酸加水分解、緩和な接触還元等が広く適用し
得る。 保護基Ｒがトリチル基である場合には、特に酸
加水分解が望ましく、通常は塩化水素等の鉱酸、
塩化アルミニウム等のルイス酸、トリフルオロ酢
酸等の有機酸等の存在下、水、メタノール等のア
ルコール類、酢酸等の有機酸、又はこれらの混合
溶媒中にて脱保護反応が実施される。該反応の反
応温度は、特に限定されるものではないが、０〜
50℃程度とするのが好ましく、一般に10時間以内
で該反応は完結する。 保護基Ｒは低級アシル基又はモノハロゲン置換
ベンゾイル基である場合には、水酸化カリウム、
水酸化ナトリウム、水酸化バリウム等の無機金属
の水酸化物、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の
無機炭酸塩、アンモニア、トリエチルアミン等の
有機アミン等の存在下、水、メタノール等のアル
コール類、エーテル類、ハロゲン化炭化水素類、
ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶
媒、又はこれらの混合溶媒中にて脱保護反応を行
なうのが好ましい。該反応の反応温度は、特に限
定されるものではないが、０〜50℃程度とするの
が好ましく、一般に10時間以内で該反応は完結す
る。 上記の方法で得られる化合物（）は、通常公
知の分離精製手段、例えば再結晶、カラムクロマ
トグラフイー等により単離、精製され得る。 発明の効果 本発明の上記一般式（）で表わされる3′−Ｏ
−チオベンゾイル−2′−デオキシ−β−ウリジン
誘導体は、上述したように医薬として有用な3′−
Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−β−ウリジン類
（）を合成するための中間体として有用である。
本発明の化合物を経由する場合には、簡便な方法
で目的化合物を収率よく、安価に製造することが
できる。 実施例 本発明化合物の製造原料である２−デオキシ−
３−Ｏ−チオベンゾイル−Ｄ−リボフラノース誘
導体（）の製造例を参考例として掲げ、次に本
発明化合物の製造例を実施例として掲げ、更に医
薬として有用な3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ
−β−ウリジン類（）の製造例を参考例として
掲げる。 尚、各参考例及び各実施例で得られた化合物の
核磁気共鳴スペクトル分析結果を示すが、これら
は全てDMSO−d₆中、TMSを内部標準として測
定したδ値である。 参考例 １ ２−デオキシ−１−Ｏ−メチル−３−Ｏ−チオ
ベンゾイル−５−Ｏ−トリチル−Ｄ−リボフラ
ノースの製造 ２−デオキシ−１−Ｏ−メチル−５−Ｏ−トリ
チル−Ｄ−リボフラノース7.8ｇ（0.02モル）を
テトラヒドロフラン40mlに溶解し、室温にて水素
化ナトリウム0.48ｇ（0.02モル）を加え、30分間
攪拌する。次いでフエニルジチオベンゾエート
5.06ｇ（0.022モル）を加え、室温にて30分間攪
拌する。ベンゼン50ml及び水50mlを加え、ベンゼ
ン層を分取し、水洗後、芒硝で乾燥する。溶媒を
留去後、得られる残留物をシリカゲルクロマトグ
ラフイーに付し、石油エーテル−ベンゼン（１：
1v／ｖ）溶出部より油状の２−デオキシ−１−
Ｏ−メチル−３−Ｏ−チオベンゾイル−５−Ｏ−
トリチル−Ｄ−リボフラノース9.07ｇ（収率89
％）を得る。 NMRスペクトル 3.24及び3.34（3H、ｓ、−COH₃） 4.3〜4.5（1H、ｍ、H⁴） 5.16〜5.3（1H、ｍ、H³） 5.8〜6.0（1H、ｍ、H¹） 7.15〜8.2（20H、ｍ、芳香族Ｈ） 参考例 ２ ２−デオキシ−１−Ｏ−メチル−３−Ｏ−チオ
ベンゾイル−５−Ｏ−（ｐ−クロルベンゾイル
−Ｄ−リボフラノースの製造 ２−デオキシ−１−Ｏ−メチル−Ｄ−リボフラ
ノース4.44ｇ（0.03モル）をピリジン30mlに溶解
し、氷冷下ｐ−クロルベンゾイルクロリド5.25ｇ
（0.03モル）を滴下し、２時間攪拌する。ピリジ
ンを減圧留去後、残渣を塩化メチレンに溶解し、
水洗、芒硝で乾燥して溶媒を留去する。この油状
残渣にテトラヒドロフラン40mlを加えて溶解し、
氷冷下水素化ナトリウム0.72ｇ（0.03モル）を加
え、30分間攪拌し、フエニルジチオベンゾエート
6.9ｇ（0.03モル）を加え、氷冷下１時間攪拌す
る。反応物にベンゼン80ml及び80mlを加え、ベン
ゼン層を分取し、水洗後、芒硝で乾燥する。溶媒
を留去後、得られる残渣物をシリカゲルクロマト
グラフイーに付し、クロロホルム溶出部より油状
の２−デオキシ−１−Ｏ−メチル−３−Ｏ−チオ
ベンゾイル−５−Ｏ−（ｐ−クロルベンゾイル）−
Ｄ−リボフラノース5.86ｇ（収率48％）を得る。 NMRスペクトル 4.36〜4.76（3H、ｍ、H⁴及びH⁵） 5.14〜5.36（1H、ｍ、H¹） 5.82〜6.20（1H、ｍ、H³） 7.16〜8.20（9H、ｍ、芳香族Ｈ） 参考例 ３ ２−デオキシ−１−Ｏ−メチル−３−Ｏ−チオ
ベンゾイル−５−Ｏ−アセチル−Ｄ−リボフラ
ノースの製造 ２−デオキシ−１−Ｏ−メチル−３−Ｏ−チオ
ベンゾイル−５−Ｏ−トリチル−Ｄリボフラノー
ス10.2ｇ（0.02モル）を0.1N塩酸−メタノール
100mlに溶解し、室温にて30分間攪拌する。この
溶液にピリジン10mlを加え、室温にて10分間攪拌
した後、減圧下溶媒を留去する。得られる残留物
に無水酢酸10ml及びピリジン30mlを加えて室温に
て２時間攪拌する。溶媒を減圧下留去した後、得
られる残留物に水及びクロロホルムを加え、クロ
ロホルム層を分取し、水洗後、芒硝で乾燥する。
溶媒を留去後、得られる残留物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフイーに付し、クロロホルム溶出
部より油状の２−デオキシ−１−Ｏ−メチル−３
−Ｏ−チオベンゾイル−５−Ｏ−アセチル−Ｄ−
リボフラノース5.46ｇ（収率88％）を得る。 NMRスペクトル 2.05（3H、ｓ、CH₃CO−） 4.14〜4.32（1H、ｍ、H⁵） 4.38〜4.62（1H、ｍ、H⁴） 5.10〜5.40（1H、ｍ、H¹） 5.68〜6.16（1H、ｍ、H³） 7.10〜8.22（5H、ｍ、芳香族Ｈ） 実施例 １ ５−トリフルオロメチル−3′−Ｏ−チオベンゾ
イル−5′−Ｏ−トリチル−2′−デオキシ−β−
ウリジンの製造 ２−デオキシ−１−Ｏ−メチル−３−Ｏ−チオ
ベンゾイル−５−Ｏ−トリチル−Ｄ−リボフラノ
ース5.1ｇ（0.01モル）をアセトニトリル50mlに
溶解み、−40〜−45℃にてトリメチルシリルトリ
フルオロメタンスルホネート2.45ｇ（0.011モル）
及び２，４−ビス−（トリメチルシリルオキシ）−
５−トリフルオロメチルピリミジン3.24ｇ（0.01
モル）を加え、同温度にて30分間攪拌する。反応
液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し、ク
ロロホルムにより抽出後、クロロホルム層を水
洗、芒硝で乾燥し、減圧下に溶媒を留去する。得
られる残留物をシリカゲルクロマトグラフイーに
付しクロロホルム−アセトン（97：3v／ｖ）溶
出部より、５−トリフルオロメチル−3′−Ｏ−チ
オベンゾイル−5′−Ｏ−トリフエニルメチル−
2′−デオキシ−β−ウリジン5.83ｇ（収率89％）
を得る。 NMRスペクトル 3.40（2H、ｍ、H⁵′） 6.04（1H、ｍ、H³ ₃′） 6.22（1H、ｔ、H¹′） 6.50（1H、ｍ、H⁴′） 7.2〜8.3（20H、ｍ、芳香族Ｈ） 8.22（1H、ｍ、H⁶） 12.02（1H、ｓ、NH） 実施例 ２ ５−トリフルオロメチル−3′−Ｏ−チオベンゾ
イル−5′−Ｏ−アセチル−2′−デオキシ−β−
ウリジンの製造 ２−デオキシ−５−Ｏ−アセチル−１−Ｏ−メ
チル−３−Ｏ−チオベンゾイル−Ｄ−リボフラノ
ース3.1ｇ（0.01モル）をアセトニトリル50mlに
溶解し、−40〜−45℃にてトリメチルシリルトリ
フルオロメタンスルホネート2.45ｇ（0.011モル）
を加え、同温度にで15時間攪拌する。この溶液に
−40〜−45℃にて２，４−ビス−（トリメチルシ
リルオキシ）−５−トリフルオロメチルピリミジ
ン3.24ｇ（0.01モル）を加え、同温度にて30分間
攪拌する。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液で中和し、クロロホルムにより抽出する。クロ
ロホルム層を水洗、芒硝で乾燥し、減圧下に溶媒
を留去する。得られる残留物をシリカゲルクロマ
トグラフイーに付しクロロホルム−アセトン
（95：5v／ｖ）溶出部より、５−トリフルオロメ
チル−3′−Ｏ−チオベンゾイル−5′−Ｏ−アセチ
ル−2′−デオキシ−β−ウリジン3.94ｇ（収率86
％）を得る。 NMRスペクトル 2.04（3H、ｓ、CH₃CO−） 2.58〜2.86（2H、ｍ、H²′） 4.37（2H、ｄ、H⁵′） 4.50〜4.70（1H、ｍ、H⁴′） 5.82〜6.40（1H、ｍ、H³′） 6.24（1H、ｔ、H¹′） 7.34〜8.24（5H、ｍ、芳香族Ｈ） 8.16（1H、ｑ、H⁶） 11.96（1H、brs、NH） 実施例 ３ ５−フルオロ−3′−Ｏ−チオベンゾイル−5′−
Ｏ−アセチル−2′−デオキシ−β−ウリジンの
製造 ２，４−ビス（トリメチルシリルオキシ）−５
−トリフルオロメチルピリミジンの代りに２，４
−ビス−（トリメチルシリルオキシ）−５−フルオ
ロピリミジン2.74ｇ（0.01モル）を用いる以外
は、実施例２と同様の操作を行ない、５−フルオ
ロ−3′−Ｏ−チオベンゾイル−5′−Ｏ−アセチル
−2′−デオキシ−β−ウリジン3.47ｇ（収率85
％）を得る。 NMRスペクトル 2.08（3H、ｓ、CH₃CO−） 2.50〜2.80（2H、ｍ、H²′） 4.24〜4.62（3H、ｍ、H⁴′及びH⁵′） 5.84〜6.04（1H、ｍ、H³′） 6.10〜6.40（1H、ｍ、H¹′） 7.30〜8.24（5H、ｍ、芳香族Ｈ） 8.06（1H、ｄ、H⁶） 11.94（1H、brs、NH） 実施例 ４ 3′−Ｏ−チオベンゾイル−5′−Ｏ−アセチル−
β−チミジンの製造 ２，４−ビス−（トリメチルシリルオキシ）−５
−トリフルオロメチルピリミジンの代りに２，４
−ビス−（トリメチルシリルオキシ）−５−メチル
ピリミジン2.7ｇ（0.01モル）を用いる以外は、
実施例２と同様の操作を行ない、3′−Ｏ−チオベ
ンゾイル−5′−Ｏ−アセチル−β−チミジン2.63
ｇ（収率95％）を得る。 NMRスペクトル 1.84（3H、ｄ、C⁵−CH₃） 2.10（3H、ｓ、CH₃CO−） 2.50〜2.80（2H、ｍ、H²′） 4.20〜4.60（3H、ｍ、H⁴′及びH⁵′） 5.86〜6.04（1H、ｍ、H³′） 6.34（1H、ｔ、H¹′） 7.30〜8.22（5H、ｍ、芳香族Ｈ） 7.54（1H、ｑ、H⁶） 11.42（1H、brs、NH） 実施例 ５ ５−トリフルオロメチル−3′−Ｏ−チオベンゾ
イル−5′−Ｏ−（ｐ−クロロベンゾイル）−2′−
デオキシ−β−ウリジンの製造 ２−デオキシ−１−Ｏ−メチル−５−Ｏ−（ｐ
−クロロベンゾイル）−３−Ｏ−チオベンゾイル
−Ｄ−リボフラノース4.07ｇ（0.01モル）をアセ
トニトリル50mlに溶解し、−40〜−45℃にてトリ
メチルシリルフルオロメタンスルホネート2.45ｇ
（0.011モル）を加え、同温度にて15分間攪拌す
る。この溶液に−40〜−45℃にて２，４−ビス−
（トリメチルシリルオキシ）−５−トリフルオロメ
チルピリミジン3.24ｇ（0.01モル）を加え、同温
度にて30分間攪拌する。反応液を飽和炭酸水素ナ
トリウム水溶液で中和し、クロロホルムにより抽
出する。クロロホルム層を水洗、芒硝で乾燥し、
減圧下に溶媒を留去する。得られる残留物をシリ
カゲルクロマトグラフイーに付しクロロホルム−
アセトン（95：5v／ｖ）溶出部より、５−トリ
フルオロメチル−3′−Ｏ−チオベンゾイル−5′−
Ｏ−（ｐ−クロロベンゾイル）−2′−デオキシ−β
−ウリジン4.55ｇ（収率82％）を得る。 NMRスペクトル 2.70〜2.96（2H、ｍ、H²′） 4.50〜4.86（3H、ｍ、H⁴′及びH⁵′） 6.02〜6.36（2H、ｍ、H¹′及びH³′） 7.30〜8.24（9H、ｍ、芳香族Ｈ） 8.13（1H、ｑ、H⁶） 11.90（1H、brs、NH） 参考例 ４ ５−トリフルオロメチル−3′−Ｏ−ベンジル−
2′−デオキシ−β−ウリジンの製造 ５−トリフルオロメチル−3′−Ｏ−チオベンゾ
イル−5′−Ｏ−トリチル−2′−デオキシ−β−ウ
リジン6.58ｇ（0.01モル）を0.1N塩酸−メタノー
ル50mlに溶解し、室温にて30分間攪拌する。飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し、クロロホル
ムにより抽出する。抽出液を水洗、芒硝で乾燥
し、減圧下に溶媒を留去する。得られる残留物を
テトラヒドロフラン20mlに溶解し、−20℃にてラ
ネーニツケル66ｇをテトラヒドロフラン80mlに懸
濁した液に加え、同温度にて１時間攪拌する。ラ
ネーニツケルを別後、溶媒を減圧下に留去し、
得られる残留物をクロロホルムから再結晶して、
融点150〜159℃の５−トリフルオロメチル−3′−
Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−β−ウリジン3.26
ｇ（収率84％）を得る。 参考例 ５ ５−トリフルオロメチル−3′−Ｏ−ベンジル−
2′−デオキシ−β−ウリジンの製造 ５−トリフルオロメチル−3′−Ｏ−チオベンゾ
イル−5′−Ｏ−（ｐ−クロロベンゾイル）−2′−デ
オキシ−β−ウリジン5.55ｇ（0.01モル）をテト
ラヒドロフラン10mlに溶解し、−20℃にてラネー
ニツケル55.5ｇをテトラヒドロフラン60mlに懸濁
した液に加え、同温度にて１時間攪拌する。ラネ
ーニツケルを別後、溶媒を減圧下に留去し、得
られる残留物を１％炭酸カリウム−メタノール溶
液140mlに溶解し、室温にて15分間攪拌する。溶
媒を減圧下に留去し、得られる残留物をクロロホ
ルムから再結晶して、融点158〜159℃の５−トリ
フルオロメチル−3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキ
シ−β−ウリジン2.85ｇ（収率74％）を得る。 参考例 ６ ５−フルオロ−３−Ｏ−ベンジル−2′−デオキ
シ−β−ウリジンの製造 ５−フルオロ−3′−Ｏ−チオベンゾイル−5′−
Ｏ−アセチル−2′−デオキシ−β−ウリジン4.08
ｇ（0.01モル）をテトラヒドロフラン10mlに溶解
し、−20℃にてラネーニツケル40.8ｇをテトラヒ
ドロフラン50mlに懸濁した液に加え、同温度にて
１時間攪拌する。ラネーニツケルを別後、溶媒
を減圧下に留去し、得られる残留物を飽和アンモ
ニア−メタノール溶液100mlに溶解し、室温にて
３時間攪拌する。溶媒を減圧下に留去し、得られ
る残留物をクロロホルムから再結晶して融点137
〜138℃の５−フルオロ−3′−Ｏ−ベンジル−
2′−デオキシ−β−ウリジン2.49ｇ（収率74％）
を得る。

【特許請求の範囲】

１ 一般式 〔式中、Ｒは水素原子、トリチル基、低級アシ
ル基又はモノハロゲン置換ベンゾイル基を示す。
Ｘはハロゲン原子又はトリフルオロメチル基を示
す。〕 で表わされる3′−Ｏ−チオベンゾイル−2′−デオ
キシ−β−ウリジン類を脱硫還元し、更に必要に
応じて脱保護反応させるか、又は必要に応じて脱
保護反応させ、次いで脱硫還元することにより一
般式