JPH0523277B2

JPH0523277B2 -

Info

Publication number: JPH0523277B2
Application number: JP2840786A
Authority: JP
Inventors: Sanji Yasumoto; Hiroshi Matsumoto; Yukio Tada; Kazuhiro Kobayashi; Kazuharu Noguchi
Original assignee: Taiho Pharmaceutical Co Ltd
Current assignee: Taiho Pharmaceutical Co Ltd
Priority date: 1986-02-12
Filing date: 1986-02-12
Publication date: 1993-04-02
Also published as: JPS62187482A

Description

【発明の詳細な説明】産業上の利用分野本発明は、新規な２−デオキシ−３−Ｏ−チオ
ベンゾイル−Ｄ−リボフラノース誘導体に関す
る。

従来の技術及びその問題点一般式〔式中、Ｘはハロゲン原子、低級アルキル基又
はトリフルオロメチル基を示す。〕で表わされる3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−
β−ウリジン類は、優れた制癌作用を有し、抗腫
瘍剤として有用な化合物である。

従来、上記一般式（）のウリジン類の製造法
としては、例えば一般式〔式中、X′は弗素原子又はトリフルオロメチ
ル基を示す。〕で表わされる化合物の糖部水酸基
をベンジル化した後、Ｎ−ベンゾイル基の除去反
応を行なうことにより製造されている。例えば糖
部水酸基のベンジル化に際し、酸化銀、酸化バリ
ウム又は酸化水銀の存在下に臭化ベンジルを作用
させる方法が知られている（特開昭59−216899号
公報、特開昭60−61591号公報参照）。しかしなが
ら、上記方法において、酸化バリウム又は酸化水
銀を使用する場合には、ベンジル化は殆んど進行
せず、従つて目的化合物を微量に得ることができ
るに過ぎない。また酸化銀を使用する場合、酸化
バリウム及び酸化水銀を使用する場合に比し、ベ
ンジル化は進行するものの、目的とする3′−Ｏ−
ベンジル−2′−デオキシ−β−ウリジン類を選択
的に得ることができず、5′−Ｏ−ベンジル−2′−
デオキシ−β−ウリジン類との混合物として得ら
れるに止まり、それ故必然的に3′−Ｏ−ベンジル
−2′−デオキシ−β−ウリジン類の収率は低くな
ると共に、カラムクロマトグラフイーによる分離
操作が必要となり、加えて酸化銀は高価なもので
あるため、工業的製造法として適したものではな
い。

問題点を解決するための手段本発明者らは、上記一般式（）の3′−Ｏ−ベ
ンジル−2′−デオキシ−β−ウリジン類を工業的
に有利な方法で製造し得る新しい製造法を開発す
べく研究を重ねた結果、下記一般式（）を経由
した場合に本発明の所期の目的を達成し得ること
を見い出した。本発明は、斯かる知見に基づき完
成されたものである。

本発明は、下記一般式（）で表わされる２−
デオキシ−３−Ｏ−チオベンゾイル−Ｄ−リボフ
ラノース誘導体に係る。

〔式中、R¹はトリチル基、低級アシル基、ト
リアルキルシリル基又はモノハロゲン置換ベンゾ
イル基を示す。R²は低級アルキル基を示す。〕本明細書において、低級アシル基としては、炭
素数１〜６のアシル基、具体的にはホルミル、ア
セチル、プロピオニル、ブチリル、ピバロイル、
ヘキサノイル基等を例示できる。

トリアルキルシリル基としては、トリメチルシ
リル、トリエチルシリル、トリプロピルシリル、
トリブチルシリル、tert−ブチルジメチルシリル
基等を例示できる。

モノハロゲン置換ベンゾイル基としては、弗素
原子、塩素原子、臭素原子及び沃素原子によりオ
ルト位、メタ位又はパラ位のいずれか一ケ所が置
換されたベンゾイル基、具体的にはｐ−クロルベ
ンゾイル、ｏ−フルオロベンゾイル、ｍ−クロル
ベンゾイル、ｐ−ブロモベンゾイル、ｐ−ヨード
ベンゾイル基等を例示できる。

ハロゲン原子としては、弗素原子、臭素原子、
沃素原子等を例示できる。

低級アルキル基としては、炭素数１〜４のアル
キル基、具体的にはメチル、エチル、プロピル、
イソプロピル、ブチル基等を例示できる。

本発明の２−デオキシ−３−Ｏ−チオベンゾイ
ル−Ｄ−リボフラノース誘導体（）は、例えば
下記反応式に示す方法により容易に製造され得
る。

〔式中R¹及びR²は前記に同じ。〕即ち、２−デオキシ−３−Ｏ−チオベンゾイル
−Ｄ−リボフラノース誘導体（）は、公知の２
−デオキシ−Ｄ−リボフラノースより公知の方法
で導いた化合物（）の５位水酸基をＲで表わさ
れる適当な置換基で保護して化合物（）を得た
後、通常のチオベンゾイル化反応を適用すること
により製造される。

ここで化合物（）及び化合物（）は、公知
の化合物であるか又は公知の方法により容易に製
造される化合物である〔ケミシエベリヒテ
（Chem，Ber，93，2777（1960）参照〕。

例えばR¹がトリアルキルシリル基である化合
物（）は、対応する化合物（）にｔ−ブチル
ジメチルシリルクロライド等のトリアルキルシリ
ル化剤を作用させることにより製造される。該反
応は、通常適当な溶媒中で行なわれる。ここで用
いられる溶媒としては、反応に悪影響を及ぼすも
のでない限り特に制限されないが、具体的にはベ
ンゼン、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、塩化メチレン、クロロホルム、アセトニト
リル、ピリジン、ジメチルホルムアミド等の非プ
ロトン性溶媒が挙げられる。ｔ−ブチルジメチル
シリルクロライドの使用量としては、化合物
（）に対して等モル〜２倍モル程度とするのが
望ましい。上記反応系内には、塩基を存在させる
のが好ましく、斯かる塩基としては例えば水素化
ナトリウム、ピリジン、トリアルキルアミン、イ
ミダゾール等が好ましく使用される。該塩基の使
用量としては、ｔ−ブチルジメチルシリルクロラ
イドに対して等モル〜５倍モル程度が好ましい
が、該塩基が反応溶媒としても使用され得る場合
には上記モル数を越えて使用することも可能であ
る。上記反応の反応温度としては、特に限定され
るものではなく、通常氷冷下乃至溶媒の沸点温度
の範囲内から適宜選択することができる。該反応
は、氷冷下乃至室温付近で好適に進行し、一般に
0.5〜10時間程度で完結する。

化合物（）から化合物（）を得る反応は、
例えばチオベンゾイルクロライド、フエニルジチ
オベンゾエート等のチオベンゾイル化試薬を用
い、通常のエステル化反応と同様にして行ない得
る。具体的には、使用されるチオベンゾイル化試
薬の種類により異なるが、例えばチオベンゾイル
クロライドを用いた場合には、次のようになる。

化合物（）から化合物（）を得る反応は、
通常適当な溶媒中で行なわれる。ここで用いられ
る溶媒としては、該反応に悪影響を与えるもので
ない限り特に限定されず、従来公知のものを広く
使用でき、具体的にはベンゼン、エーテル、テト
ラヒドロフラン、ジオキサン、塩化メチレン、ク
ロロホルム、アセトニトリル、ピリジン、ジメチ
ルホルムアミド等の慣用の非プロトン性溶媒を用
いることができる。チオベンゾイルクロライドの
使用量としては、化合物（）１モルに対し１〜
３モル程度とするのが好ましい。また上記反応系
内には、塩基を存在させるのがよく、斯かる塩基
としては、水素化ナトリウム、ピリジン、トリア
ルキルアミン等の有機塩基を好ましく例示でき
る。該塩基の使用量としては、チオベンゾイルク
ロライド１モルに対し１〜５モル程度とするのが
好ましいが、該塩基が反応溶媒としても使用でき
る場合には、上記モル数を越えて使用することも
勿論可能である。該反応の反応温度は、特に限定
されないが、通常氷冷下乃至溶媒の沸騰温度範
囲、好ましくは氷冷下〜室温付近である。反応時
間は、一般に0.5〜10時間程度である。

またチオベンゾイル化試薬としてフエニルジチ
オベンゾエートを使用する場合には、次のように
なる。

化合物（）から化合物（）を得る反応は、
通常適当な溶媒中で行なわれる。ここで用いられ
る溶媒としては、該反応に悪影響を与えるもので
ない限り特に限定されず、従来公知のものを広く
使用でき、具体的には上記と同様の慣用の非プロ
トン性溶媒を用いることができる。フエニルジチ
オベンゾエートの使用量としては、化合物（）
１モルに対し１〜３モル程度とするのが好まし
い。また上記反応系内には、上記と同様の塩基を
存在させるのがよい。これらの塩基の中でも水素
化ナトリウムが好ましい。該塩基の使用量として
は、化合物（）１モルに対し0.5〜５モル程度
とするのが好ましい。該反応の反応温度は、特に
限定されないが、通常氷冷下乃至溶媒の沸騰温度
範囲、好ましくは室温付近で反応は良好に進行す
る。反応時間は、一般に10分〜10時間程度であ
る。

上記の方法で得られる本発明の目的化合物は、
通常公知の分離精製手段、例えば再結晶、カラム
クロマトグラフイー等により単離、精製され得
る。

本発明の一般式（）で表わされる２−デオキ
シ−３−Ｏ−チオベンゾイル−Ｄ−リボフラノー
スは、以下に示す方法に従い医薬として有用な
3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−β−ウリジン
類（）に誘導され得る。

まず下記反応式に示すように本発明の２−デオ
キシ−３−Ｏ−チオベンゾイル−Ｄ−リボフラノ
ース誘導体（）にピリミジン誘導体（）を縮
合反応させることにより一般式（）で表わされ
る3′−Ｏ−チオベンゾイル−2′−デオキシ−β−
ウリジン誘導体が製造される。

〔式中R¹，R²及びＸは前記に同じ。〕２−デオキシ−３−Ｏ−チオベンゾイル−Ｄ−
リボフラノース誘導体（）とピリミジン誘導体
（）との反応は、通常適当な溶媒中触媒の存在
下で行なわれる。ここで用いられる溶媒として
は、該反応に悪影響を与えないものである限り従
来公知のものを広く使用でき、具体的にはベンゼ
ン、エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサ
ン、塩化メチレン、１，２−ジクロルエタン、ク
ロロホルム、アセトン、アセトニトリル、ジメチ
ルホルムアミド等の慣用の非プロトン性溶媒を用
いることができる。また触媒としては、トリメチ
ルシリルトリフルオロメタンスルホネート、トリ
エチルシリルトリフルオロメタンスルホネート等
のトリアルキルシリルパーフルオロアルカンスル
ホネートを使用するのが好ましい。上記触媒の使
用量としては、化合物（）に対して通常0.5〜
５モル当量程度、好ましくは１〜３モル当量程度
とするのがよい。化合物（）と化合物（）と
の使用割合としては、特に限定されるものではな
いが、通常前者に対して後者を0.5〜２モル当量
程度とするのがよい。上記反応の反応温度として
は、使用される溶媒の種類により異なり一概には
言えないが、凝固点以上〜室温以下で反応を行な
うのが好適である。また反応時間も特に限定され
ないが、一般に10時間以内で該反応は完結する。

上記縮合反応により、3′−Ｏ−チオベンゾイル
−2′−デオキシ−α−ウリジン誘導体に優先して
3′−Ｏ−チオベンゾイル−2′−デオキシ−β−ウ
リジン誘導体（）を収得し得る。

上記反応において使用されるピリミジン誘導体
（）は、公知の方法、例えば特開昭50−105673
号公報に記載の方法に従い製造される。

上記で得られる一般式（）で表わされる3′−
Ｏ−チオベンゾイル−2′−デオキシ−β−ウリジ
ン誘導体は、これを脱硫還元し、次いで脱保護反
応させるか、又は脱保護反応させ、次いで脱硫還
元することにより医薬として有用な3′−Ｏ−ベン
ジル−2′−デオキシ−β−ウリジン類（）に誘
導される。

脱硫還元は、通常適当な溶媒中、適当な還元剤
を用いて行なわれる。還元剤としては、例えば水
素化リチウムアルミニウム−塩化アルミニウム、
水素化硼素ナトリウム−三弗化硼素等の他、ラネ
−ニツケル触媒等の接触還元触媒を例示でき、特
にラネ−ニツケル触媒が好適である。斯かる触媒
の使用量としては、通常還元されるべき化合物に
対し１〜50倍重量程度、好ましくは５〜20倍重量
程度とするのがよい。また溶媒としては、該反応
に悪影響を及ぼさない限り従来公知のものを広く
使用でき、具体的にはエーテル、テトラヒドロフ
ラン、塩化メチレン、クロロホルム、アセトン、
アセトニトリル、ジメチルホルムアミド等の慣用
の非プロトン性溶媒、メタノール、エタノール等
のアルコール類等が挙げられる。該反応は、冷却
下、室温下及び加熱下のいずれでも行ない得る
が、通常−50〜100℃程度、好ましくは−30℃〜
室温付近で反応が好適に進行し、一般に10時間以
内で該反応は終了する。

脱保護反応は、この分野で通常行なわれている
アルコリシス、アミノリシス、アンモノリシス、
酸加水分解、緩和な接触還元等が広く適用し得
る。

保護基Ｒがトリチル基又はｔ−ブチルジメチル
シリル基である場合には、特に酸加水分解が望ま
しく、通常は塩化水素等の鉱酸、塩化アルミニウ
ム等のルイス酸、トリフルオロ酢酸等の有機酸等
の存在下、水、メタノール等のアルコール類、酢
酸等の有機酸、又はこれらの混合溶媒中にて脱保
護反応が実施される。該反応の反応温度は、特に
限定されるものではないが、０〜50℃程度とする
のが好ましく、一般に10時間以内で該反応は完結
する。

保護基Ｒが低級アシル基又はモノハロゲン置換
ベンゾイル基である場合には、水酸化カリウム、
水酸化ナトリウム、水酸化バリウム等の無機金属
の水酸化物、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム等の
無機炭酸塩、アンモニア、トエチルアミン等の有
機アミン等の存在下、水、メタノール等のアルコ
ール類、エーテル類、ハロゲン化炭化水素類、ジ
メチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒、
又はこれらの混合溶媒中にて脱保護反応を行なう
のが好ましい。該反応の反応温度は、特に限定さ
れるものではないが、０〜50℃程度とするのが好
ましく、一般に10時間以内で該反応は完結する。

保護基Ｒがｔ−ブチルジメチルシリル基以外の
トリアルキルシリル基である場合には、水により
容易に脱保護され得る。

上記の方法で得られる化合物（）は、通常公
知の分離精製手段、例えば再結晶、カラムクロマ
トグラフイー等により単離、精製され得る。

発明の効果本発明の上記一般式（）で表わされる２−デ
オキシ−３−Ｏ−チオベンゾイル−Ｄ−リボフラ
ノース誘導体は、上述したように医薬として有用
な3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−β−ウリジ
ン類（）を合成するための中間体として有用で
ある。本発明の化合物を経由する場合には、簡便
な方法で目的化合物を収率よく、安価に製造する
ことができる。

実施例本発明化合物の製造例を実施例として掲げ、次
に3′−Ｏ−チオベンゾイル−2′−デオキシ−β−
ウリジン（）の製造例及び医薬として有用な
3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−β−ウリジン
類（）の製造例を参考例として掲げる。

尚、各実施例及び各参考例で得られた化合物の
核磁気共鳴スペクトルの分析結果を示すが、これ
らは全てDMSO−d₆中、TMSを内部標準として
測定したδ値である。

実施例１２−デオキシ−１−Ｏ−メチル−３−Ｏ−チオ
ベンゾイル−５−Ｏ−トリチル−Ｄ−リボフラ
ノースの製造２−デオキシ−１−Ｏ−メチル−５−Ｏ−トリ
チル−Ｄ−リボフラノース7.8ｇ（0.02モル）を
テトラヒドロフラン40mlに溶解し、室温にて水素
化ナトリウム0.48ｇ（0.02モル）を加え、30分間
攪拌する。次いでフエニルジチオベンゾエート
5.06ｇ（0.022モル）を加え、室温にて30分間攪
拌する。ベンゼン50ml及び水50mlを加え、ベンゼ
ン層を分取し、水洗後、芒硝で乾燥する。溶媒を
留去後、得られる残留物をシリカゲルクロマトグ
ラフイーに付し、石油エーテル−ベンゼン（１：
1v／ｖ）溶出部より油状の２−デオキシ−１−
Ｏ−メチル−３−Ｏ−チオベンゾイル−５−Ｏ−
トリチル−Ｄ−リボフラノース9.07ｇ（収率89
％）を得る。

NMRスペクトル 3.24及び3.34（3H，ｓ，−OCH₃） 4.3〜4.5（1H，ｍ，H⁴） 5.16〜5.3（1H，ｍ，H³） 5.8〜6.0（1H，ｍ，H¹） 7.15〜8.2（20H，ｍ，芳香族Ｈ）実施例２２−デオキシ−１−Ｏ−メチル−３−Ｏ−チオ
ベンゾイル−５−Ｏ−（ｐ−クロルベンゾイル）
−Ｄ−リボフラノースの製造２−デオキシ−１−Ｏ−メチル−Ｄ−リボフラ
ノース4.44ｇ（0.03モル）をピリジン30mlに溶解
し、氷冷下ｐ−クロルベンゾイルクロリド5.25ｇ
（0.03モル）を滴下し、２時間攪拌する。ピリジ
ンを減圧留去後、残渣を塩化メチレンに溶解し、
水洗、芒硝で乾燥して溶媒を留去する。この油状
残渣にテトラヒドロフラン40mlを加えて溶解し、
氷冷下水素化ナトリウム0.72ｇ（0.03モル）を加
え、30分間攪拌し、フエニルジチオベンゾエート
6.9ｇ（0.03モル）を加え、氷冷下１時間攪拌す
る。反応物にベンゼン80ml及び水80mlを加え、ベ
ンゼン層を分取し、水洗後、芒硝で乾燥する。溶
媒を留去後、得られる残留物をシリカゲルクロマ
トグラフイーに付し、クロロホルム溶出部より油
状の２−デオキシ−１−Ｏ−メチル−３−Ｏ−チ
オベンゾイル−５−Ｏ−（ｐ−クロルベンゾイル）
−Ｄ−リボフラノース5.86ｇ（収率48％）を得
る。

NMRスペクトル 4.36〜4.76（3H，ｍ，H⁴及びH⁵） 5.14〜5.36（1H，ｍ，H¹） 5.82〜6.20（1H，ｍ，H³） 7.16〜8.20（9H，ｍ，芳香族Ｈ）実施例３２−デオキシ−１−Ｏ−メチル−３−Ｏ−チオ
ベンゾイル−５−Ｏ−アセチル−Ｄ−リボフラ
ノースの製造２−デオキシ−１−Ｏ−メチル−３−Ｏ−チオ
ベンゾイル−５−Ｏ−トリチル−Ｄ−リボフラノ
ース10.2ｇ（0.02モル）を0.1N塩酸−メタノール
100mlに溶解し、室温にて30分間攪拌する。この
溶液にピリジン10mlを加え、室温にて10分間攪拌
した後、減圧下溶媒を留去する。得られる残留物
に無水酢酸10ml及びピリジン30mlを加えて室温に
て２時間攪拌する。溶媒を減圧下留去した後、得
られる残留物に水及びクロロホルムを加え、クロ
ロホルム層を分取し、水洗後、芒硝で乾燥する。
溶媒を留去後、得られる残留物をシリカゲルカラ
ムクロマトグラフイーに付し、クロロホルム溶出
部より油状の２−デオキシ−１−Ｏ−メチル−３
−Ｏ−チオベンゾイル−５−Ｏ−アセチル−Ｄ−
リボフラノース5.46ｇ（収率88％）を得る。

NMRスペクトル 2.05（3H，ｓ，CH₃CO−） 4.14〜4.32（2H，ｍ，H⁵） 4.38〜4.62（1H，ｍ，H⁴） 5.10〜5.40（1H，ｍ，H¹） 5.68〜6.16（1H，ｍ，H³） 7.10〜8.22（5H，ｍ，芳香族Ｈ）実施例４２−デオキシ−１−Ｏ−メチル−３−Ｏ−チオ
ベンゾイル−５−Ｏ−（ｔ−ブチルジメチルシ
リル）−Ｄ−リボフラノースの製造２−デオキシ−１−Ｏ−メチル−Ｄ−リボフラ
ノース14.8ｇ（0.1モル）をジメチルホルムアミ
ド60mlに溶解し、０℃に冷却する。この溶液にイ
ミダゾール15ｇ（0.22モル）及びｔ−ブチルジメ
チルシリルクロリド16.5ｇ（0.11モル）を加え、
０℃にて３時間攪拌する。減圧下ジメチルホルム
アミドを留去した後、ベンゼンにより抽出し、抽
出液を水洗後、芒硝で乾燥する。溶媒を減圧下に
留去し、残留物を無水テトラヒドロフラン100ml
に溶解する。この溶液を０℃に冷却し、水素化ナ
トリウム3.64ｇ（0.11モル）を加え、30分間攪拌
する。次いでフエニルジチオベンゾエート25.3ｇ
（0.11モル）を加え、０℃にて20分間攪拌する。
この溶液にベンゼン及び水を加え、ベンゼン層を
分取、水洗後、芒硝で乾燥し、溶媒を減圧下留去
する。得られる残留物をシリカゲルカラムクロマ
トグラフイーに付し、ベンゼン−アセトン（98：
2v／ｖ）溶出部より油状の２−デオキシ−１−
Ｏ−メチル−３−Ｏ−チオベンゾイル−５−Ｏ−
（ｔ−ブチルジメチルシリル）−Ｄ−リボフラノー
ス18.9ｇ（収率72％）を得る。

NMRスペクトル 0.05（6H，ｓ，Si（CH₃）₂） 0.84（9H，ｄ，（CH₃）₂Ｃ−） 1.95〜2.62（2H，ｍ，H²） 3.29及び3.31（3H，ｓ，CH₃Ｏ−） 3.54〜7.96（2H，ｍ，H⁵）参考例１５−トリフルオロメチル−3′−Ｏ−チオベンゾ
イル−5′−Ｏ−トリチル−2′−デオキシ−β−
ウリジンの製造２−デオキシ−１−Ｏ−メチル−３−Ｏ−チオ
ベンゾイル−５−Ｏ−トリチル−Ｄ−リボフラノ
ース5.1ｇ（0.01モル）をアセトニトリル50mlに
溶解し、−40〜−45℃にてトリメチルシリルトリ
フルオロメタンスルホネート2.45ｇ（0.011モル）
及び２，４−ビス−（トリメチルシリルオキシ）−
５−トリフルオロメチルピリミジン3.24ｇ（0.01
モル）を加え、同温度にて30分間攪拌する。反応
液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し、ク
ロロホルムにより抽出後、クロロホルム層を水
洗、芒硝で乾燥し、減圧下に溶媒を留去する。得
られる残留物をシリカゲルクロマトグラフイーに
付しクロロホルム−アセトン（97：3v／ｖ）溶
出部より、５−トリフルオロメチル−3′−Ｏ−チ
オベンゾイル−5′−Ｏ−トリフエニルメチル−
2′−デオキシ−β−ウリジン5.83ｇ（収率89％）
を得る。

NMRスペクトル 3.40（2H，ｍ，H⁵′） 6.04（1H，ｍ，H³′） 6.22（1H，ｔ，H¹′） 6.50（1H，ｍ，H⁴′） 7.2〜8.3（20H，ｍ，芳香族Ｈ） 8.22（1H，ｍ，H⁶） 12.02（1H，ｓ，NH）参考例２５−トリフルオロメチル−3′−Ｏ−チオベンゾ
イル−5′−Ｏ−アセチル−2′−デオキシ−β−
ウリジンの製造２−デオキシ−５−Ｏ−アセチル−１−Ｏ−メ
チル−３−Ｏ−チオベンゾイル−Ｄ−リボフラノ
ース3.1ｇ（0.01モル）をアセトニトリル50mlに
溶解し、−40〜−45℃にてトリメチルシリルトリ
フルオロメタンスルホネート2.45ｇ（0.011モル）
を加え、同温度にて15分間攪拌する。この溶液に
−40〜−45℃にて２，４−ビス−（トリメチルシ
リルオキシ）−５−トリフルオロメチルピリミジ
ン3.24ｇ（0.01モル）を加え、同温度にて30分間
攪拌する。反応液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶
液で中和し、クロロホルムにより抽出する。クロ
ロホルム層を水洗、芒硝で乾燥し、減圧下に溶媒
を留去する。得られる残留物をシリカゲルクロマ
トグラフイーに付しクロロホルム−アセトン
（95：5v／ｖ）溶出部より、５−トリフルオロメ
チル−3′−Ｏ−チオベンゾイル−5′−Ｏ−アセチ
ル−2′−デオキシ−β−ウリジン3.94ｇ（収率86
％）を得る。

NMRスペクトル 2.04（3H，ｓ，CH₃CO−） 2.58〜2.86（2H，ｍ，H²′） 4.37（2H，ｄ，H⁵′） 4.50〜4.70（1H，ｍ，H⁴′） 5.82〜6.40（1H，ｍ，H³′） 6.24（1H，ｔ，H¹′） 7.34〜8.24（5H，ｍ，芳香族Ｈ） 8.16（1H，ｑ，H⁶） 11.96（1H，brs，NH）参考例３５−フルオロ−3′−Ｏ−チオベンゾイル−5′−
Ｏ−アセチル−2′−デオキシ−β−ウリジンの
製造２，４−ビス−（トリメチルシリルオキシ）−５
−トリフルオロメチルピリミジンの代りに２，４
−ビス−（トリメチルシリルオキシ）−５−フルオ
ロピリミジン2.74ｇ（0.01モル）を用いる以外
は、参考例２と同様の操作を行ない、５−フルオ
ロ−3′−Ｏ−チオベンゾイル−5′−Ｏ−アセチル
−2′−デオキシ−β−ウリジン3.47ｇ（収率85
％）を得る。

NMRスペクトル 2.08（3H，ｓ，CH₃CO−） 2.50〜2.80（2H，ｍ，H²′） 4.24〜4.62（3H，ｍ，H⁴′及びH⁵′） 5.84〜6.04（1H，ｍ，H³′） 6.10〜6.40（1H，ｍ，H¹′） 7.30〜8.24（5H，ｍ，芳香族Ｈ） 8.06（1H，ｄ，H⁶） 11.94（1H，brs，NH）参考例４５−トリフルオロメチル−3′−Ｏ−チオベンゾ
イル−5′−Ｏ−（ｐ−クロロベンゾイル）−2′−
デオキシ−β−ウリジンの製造２−デオキシ−１−Ｏ−メチル−５−Ｏ−（ｐ
−クロロベンゾイル）−３−Ｏ−チオベンゾイル
−Ｄ−リボフラノース4.07ｇ（0.01モル）をアセ
トニトリル50mlに溶解し、−40〜−45℃にてトリ
メチルシリルトリフルオロメタンスルホネート
2.45ｇ（0.011モル）を加え、同温度にて15分間
攪拌する。この溶液に−40〜−45℃にて２，４−
ビス−（トリメチルシリルオキシ）−５−トリフル
オロメチルピリミジン3.24ｇ（0.01モル）を加
え、同温度にて30分間攪拌する。反応液を飽和炭
酸水素ナトリウム水溶液で中和し、クロロホルム
により抽出する。クロロホルム層を水洗、芒硝で
乾燥し、減圧下に溶媒を留去する。得られる残留
物をシリカゲルクロマトグラフイーに付しクロロ
ホルム−アセトン（95：5v／ｖ）溶出部より、
５−トリフルオロメチル−3′−Ｏ−チオベンゾイ
ル−5′−Ｏ−（ｐ−クロロベンゾイル）−2′−デオ
キシ−β−ウリジン4.55ｇ（収率82％）を得る。

NMRスペクトル 2.70〜2.96（2H，ｍ，H²′） 4.50〜4.86（3H，ｍ，H⁴′及びH⁵′） 6.02〜6.36（2H，ｍ，H¹′及びH³′） 7.30〜8.24（9H，ｍ，芳香族Ｈ） 8.13（1H，ｑ，H⁶） 11.90（1H，brs，NH）参考例５５−トリフルオロメチル−3′−Ｏ−ベンジル−
2′−デオキシ−β−ウリジンの製造５−トリフルオロメチル−3′−Ｏ−チオベンゾ
イル−5′−Ｏ−トリメチル−2′−デオキシ−β−
ウリジン6.58ｇ（0.01モル）を0.1N塩酸−メタノ
ール50mlに溶解し、室温にて30分間攪拌する。飽
和炭酸水素ナトリウム水溶液で中和し、クロロホ
ルムにより抽出する。抽出液を水洗、芒硝で乾燥
し、減圧下に溶媒を留去する。得られる残留物を
テトラヒドロフラン20mlに溶解し、−20℃にてラ
ネ−ニツケル66ｇをテトラヒドロフラン80mlに懸
濁した液に加え、同温度にて１時間攪拌する。ラ
ネ−ニツケルを別後、溶媒を減圧下に留去し、
得られる残留物をクロロホルムから再結晶して、
融点158〜159℃の５−トリフルオロメチル−3′−
Ｏ−ベンジル−2′−デオキシ−β−ウリジン3.26
ｇ（収率84％）を得る。

参考例６５−トリフルオロメチル−3′−Ｏ−ベンジル−
2′−デオキシ−β−ウリジンの製造５−トリフルオロメチル−3′−Ｏ−チオベンゾ
イル−5′−Ｏ−（ｐ−クロロベンゾイル）−2′−デ
オキシ−β−ウリジン5.55ｇ（0.01モル）をテト
ラヒドロフラン10mlに溶解し、−20℃にてラネ−
ニツケル55.5ｇをテトラヒドロフラン60mlに懸濁
した液に加え、同温度にて１時間攪拌する。ラネ
−ニツケルを別後、溶媒を減圧下に留去し、得
られる残留物を１％炭酸カリウム−メタノール溶
液140mlに溶解し、室温にて15分間攪拌する。溶
媒を減圧下に留去し、得られる残留物をクロロホ
ルムから再結晶して、融点158〜159℃の５−トリ
フルオロメチル−3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキ
シ−β−ウリジン2.85ｇ（収率74％）を得る。

参考例７５−フルオロ−3′−Ｏ−ベンジル−2′−デオキ
シ−β−ウリジンの製造５−フルオロ−3′−Ｏ−チオベンゾイル−5′−
Ｏ−アセチル−2′−デオキシ−β−ウリジン4.08
ｇ（0.01モル）をテトラヒドロフラン10mlに溶解
し、−20℃にてラネ−ニツケル40.8ｇをテトラヒ
ドロフラン50mlに懸濁した液に加え、同温度にて
１時間攪拌する。ラネ−ニツケルを別後、溶媒
を減圧下に留去し、得られる残留物を飽和アンモ
ニア−メタノール溶液100mlに溶解し、室温にて
３時間攪拌する。溶媒を減圧下に留去し、得られ
る残留物をクロロホルムから再結晶して融点137
〜138℃の５−フルオロ−3′−Ｏ−ベンジル−
2′−デオキシ−β−ウリジン2.49ｇ（収率74％）
を得る。

Claims

【特許請求の範囲】１一般式〔式中、R¹はトリチル基、低級アシル基、ト
リアルキルシリル基又はモノハロゲン置換ベンゾ
イル基を示す。R²は低級アルキル基を示す。〕で表わされる２−デオキシ−３−Ｏ−チオベンゾ
イル−Ｄ−リボフラノース誘導体。