JPH05294620A - Superconductor - Google Patents

Superconductor

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JPH05294620A
JPH05294620A JP5025462A JP2546293A JPH05294620A JP H05294620 A JPH05294620 A JP H05294620A JP 5025462 A JP5025462 A JP 5025462A JP 2546293 A JP2546293 A JP 2546293A JP H05294620 A JPH05294620 A JP H05294620A
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JP
Japan
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target
superconductor
cuo
substrate
thickness
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Application number
JP5025462A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazuya Nakamura
一哉 中村
Hitoshi Nobumasa
均 信正
Kazuharu Shimizu
一治 清水
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Toray Industries Inc
Original Assignee
Toray Industries Inc
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Publication date
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
    • Y02E40/00Technologies for an efficient electrical power generation, transmission or distribution
    • Y02E40/60Superconducting electric elements or equipment; Power systems integrating superconducting elements or equipment

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  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
  • Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】臨界電流密度が高く、しかも、いろいろな超電
導転移温度をもつ超電導体を提供する。 【構成】(La1-αSrα2 CuO4+δ(ただし、0
<α≦0.25)と、下記群から選ばれた少なくとも1
種の物質との層状構成を有する超電導体。 (Bi1-βPbβ2 Sr2 Can Cun+1 6+2n+ δ Tl2 Ba2 Cam Cum+1 6+2m+ δ MBa2 Cu3 7+δ (Sr1-ηCaη1-λCuO2+δ
(57) [Summary] [Objective] To provide a superconductor having a high critical current density and various superconducting transition temperatures. [Structure] (La 1-α Sr α ) 2 CuO 4 + δ (where 0
<Α ≦ 0.25) and at least 1 selected from the following group
A superconductor having a layered structure with a seed material. (Bi 1-β Pb β) 2 Sr 2 Ca n Cu n + 1 O 6 + 2n + δ Tl 2 Ba 2 Ca m Cu m + 1 O 6 + 2m + δ MBa 2 Cu 3 O 7 + δ (Sr 1-η Ca η ) 1-λ CuO 2 + δ

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、核融合炉、電磁流体
発電機、加速器、回転電気機器(電動機、発電機等)、
磁気分離機、磁気浮上列車、核磁気共鳴測定装置、磁気
推進船、電子線露光装置、各種実験装置等のマグネット
コイル用材料として適し、また、送電線、電気エネルギ
ー貯蔵器、変圧器、整流器、調相器等の電力損失が問題
になる用途に適し、さらに、ジョセフソン素子、SQU
ID素子、超電導トランジスタ等の素子として適し、さ
らにまた、赤外線探知材料、磁気遮蔽材料等の機能材料
として適した超電導体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a nuclear fusion reactor, a magnetohydrodynamic generator, an accelerator, a rotating electric machine (motor, generator, etc.),
Suitable for magnetic coils, magnetic separators, magnetic levitation trains, nuclear magnetic resonance measuring devices, magnetic propulsion vessels, electron beam exposure devices, various experimental devices, etc., as well as power transmission lines, electrical energy storage, transformers, rectifiers, Suitable for applications where power loss is a problem, such as phase shifters, as well as Josephson devices and SQUs.
The present invention relates to a superconductor suitable as an element such as an ID element and a superconducting transistor, and further as a functional material such as an infrared detection material and a magnetic shielding material.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、一連の銅複合酸化物系超電導体と
して、以下において説明するようなものが知られてい
る。
2. Description of the Related Art Conventionally, a series of copper complex oxide superconductors as described below are known.

【0003】すなわち、“Physical Review Letters
”、第67巻、第1362〜1365頁(1991)
には、結晶構造は同じだが構成元素が異なる物質を交互
に積み重ねてなるものが記載されている。これは、YB
2 Cu3 7+δとPrBa2 Cu3 7+δとの超電導
体で、非超電導体であるPrBa2 Cu3 7+δの層の
間に超電導体であるYBa2 Cu3 7+δの層を位置さ
せている。
That is, "Physical Review Letters"
, 67, 1362-1365 (1991).
Describes that substances having the same crystal structure but different constituent elements are alternately stacked. This is YB
a superconductor of a 2 Cu 3 O 7 + δ and PrBa 2 Cu 3 O 7 + δ , YBa 2 Cu 3 O which is a superconductor between layers of non-superconductor PrBa 2 Cu 3 O 7 + δ 7 + δ layers are located.

【0004】また、“Japanese Journal of Applied Ph
ysics ”、第30巻、第L1381〜1383頁(19
91)には、結晶構造が異なる2種類の物質を積み重ね
てなる超電導体が記載されている。これは、Bi2 Sr
2 CuO6+δとBi2 Sr2CaCu2 8+δとを積み
重ねてなるもので、やはり非超電導体であるBi2 Sr
2 CuO6+δの層の間に超電導体であるBi2 Sr2
aCu2 8+δの層を位置させている。
In addition, "Japanese Journal of Applied Ph
ysics ", Volume 30, L1381-1383 (19
91) describes a superconductor formed by stacking two kinds of substances having different crystal structures. This is Bi 2 Sr
2 CuO 6 + δ and Bi 2 Sr 2 CaCu 2 O 8 + δ are stacked, which is also a non-superconductor Bi 2 Sr
Bi 2 Sr 2 C which is a superconductor between the layers of 2 CuO 6 + δ
A layer of aCu 2 O 8 + δ is located.

【0005】さらに、“Applied Physics Letters ”、
第58巻、第1443〜1445頁(1991)には、
いわゆるT構造の超電導体である(La1-x Srx 2
CuO4+δと、いわゆるT´構造の非超電導体であるS
2 CuO4+δとを積み重ねてなる超電導体が記載され
ている。
Furthermore, "Applied Physics Letters",
Volume 58, pp. 1443-1445 (1991),
It is a so-called T-structure superconductor (La 1-x Sr x ) 2
CuO 4 + δ and S, which is a so-called T'structure non-superconductor
A superconductor formed by stacking m 2 CuO 4 + δ is described.

【0006】さて、銅複合酸化物系超電導体における超
電導特性は、電荷担体の量に依存することが知られてい
るが、上述した従来の超電導体は、いずれも、超電導体
の層と非超電導体の層の厚みを変えて超電導特性を制御
するもので、非超電導体の層には超電導電流は流れない
から、超電導転移温度を変えることはできるが臨界電流
密度が低いという問題がある。
It is known that the superconducting property of the copper complex oxide superconductor depends on the amount of charge carriers. However, the above-mentioned conventional superconductors are both superconducting layers and non-superconducting layers. The superconducting property is controlled by changing the thickness of the body layer. Since the superconducting current does not flow in the non-superconductor layer, the superconducting transition temperature can be changed, but the critical current density is low.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】この発明の目的は、従
来の一連の銅複合酸化物系超電導体の上述した問題点を
解決し、臨界電流密度が高く、しかも、いろいろな超電
導転移温度をとり得る超電導体を提供するにある。
The object of the present invention is to solve the above-mentioned problems of a series of conventional copper complex oxide superconductors, to have a high critical current density, and to have various superconducting transition temperatures. To provide a superconductor to obtain.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明は、(La1-αSrα2 CuO4+δ(た
だし、0<α≦0.25)と、下記群から選ばれた少な
くとも1種の物質との層状構成を有する超電導体を提供
する。
In order to achieve the above object, the present invention provides (La 1-α Sr α ) 2 CuO 4 + δ (where 0 <α ≦ 0.25) and the following group: Provided is a superconductor having a layered structure with at least one selected substance.

【0009】 (Bi1-βPbβ2 Sr2 Can Cun+1 6+2n+ δ Tl2 Ba2 Cam Cum+1 6+2m+ δ MBa2 Cu3 7+δ (Sr1-ηCaη1-λCuO2+δ ただし、0≦β≦0.3 0≦γ≦0.5 0≦η≦0.95 0≦λ≦0.2 −0.5≦δ≦0.5 m:1、2または3 n:2または3 M:Y、La、Nd、Sm、Eu、Gd、Dy、Hoま
たはEr この発明の超電導体は、各層が銅複合酸化物系超電導体
からなっており、各層を構成する物質にドープされる電
荷担体(キャリア)の量、特に、CuO2 面1枚当たり
の電荷担体の量(キャリア濃度)によって超電導転移温
度(Tc)を変えることができる。
[0009] (Bi 1-β Pb β) 2 Sr 2 Ca n Cu n + 1 O 6 + 2n + δ Tl 2 Ba 2 Ca m Cu m + 1 O 6 + 2m + δ MBa 2 Cu 3 O 7 + δ (Sr 1-η Ca η ) 1-λ CuO 2 + δ where 0 ≦ β ≦ 0.3 0 ≦ γ ≦ 0.5 0 ≦ η ≦ 0.95 0 ≦ λ ≦ 0.2 −0.5 ≦ δ ≦ 0.5 m: 1, 2 or 3 n: 2 or 3 M: Y, La, Nd, Sm, Eu, Gd, Dy, Ho or Er In the superconductor of the present invention, each layer is a copper complex oxide superconductor. The superconducting transition temperature (Tc) can be changed by the amount of charge carriers (carriers) doped in the material forming each layer, particularly the amount of charge carriers (carrier concentration) per CuO 2 surface. it can.

【0010】ところで、たとえば(La1-αSrα2
CuO4+δにおいて、LaをSrで置換してキャリアを
ドープしていくと、最初は絶縁体であるが、やがて超電
導体になってTcも上昇する。そして、α=0.075
でTcが最大値の36Kを示すが、αがこれよりも大き
くなるとTcが下がり、やがて非超電導体となる。これ
以外のいくつかの物質も、ほぼ同じ傾向を示すことが知
られている。
By the way, for example, (La 1-α Sr α ) 2
In CuO 4 + δ , when La is replaced with Sr and carriers are doped, it is an insulator at first, but eventually becomes a superconductor, and Tc also rises. And α = 0.075
Tc shows a maximum value of 36K, but when α becomes larger than this, Tc decreases and eventually becomes a non-superconductor. It is known that some other substances show almost the same tendency.

【0011】このように、Tcを最大にするためには適
正量のキャリアをドープしなければならないが、その方
法には、構成元素の一部を置換する方法と、得られる超
電導体をさらに熱処理する方法とがある。
As described above, in order to maximize Tc, it is necessary to dope a proper amount of carriers. As a method therefor, a method of substituting a part of the constituent elements and a heat treatment of the obtained superconductor are further performed. There is a way to do it.

【0012】前者の、構成元素の一部を置換する方法
は、“Zeitschrift fur Physik B-condensed Matter
”、第83巻、第7〜17頁(1991)に記載され
ているように、ブロッキング層やメディエイティング層
の元素を価数の異なる元素で置換することによってCu
2 面にキャリアをドープする方法である。しかしなが
ら、通常、銅複合酸化物系超電導体では、置換元素は、
狭い範囲でしか固溶しないか、全く固溶しない。たとえ
ば、(La1-αSrα2 CuO4+δは、0<α≦0.
25の範囲でLaをSrで置換できる。すなわち、0.
25よりも多くのSrを固溶させることはできない。
(Bi1-βPbβ2 Sr2 Can Cu
n+1 6+ 2n+ δ、(Sr1-ηCaη1-λCuO2+δ
おいても同様で、β、η、λはそれぞれ、0≦β≦0.
3、0≦η≦0.95、0≦λ≦0.2の範囲でなけれ
ば単相にはできない。また、酸素はこれらの結晶の中で
唯一の陰イオンであり、キャリア濃度に及ぼす影響が大
きいが、銅複合酸化物系超電導体がその結晶構造を形成
するためには、酸素含有量は−0.5≦δ≦0.5の範
囲でなければならない。
The former method for substituting a part of the constituent elements is described in "Zeitschrift fur Physik B-condensed Matter".
, Vol. 83, pp. 7-17 (1991), by substituting the elements of the blocking layer and mediating layer with elements of different valences.
This is a method of doping carriers on the O 2 surface. However, usually, in the copper composite oxide superconductor, the substitution element is
It forms a solid solution only in a narrow range, or does not form a solid solution at all. For example, (La 1-α Sr α ) 2 CuO 4 + δ is 0 <α ≦ 0.
In the range of 25, La can be replaced with Sr. That is, 0.
It is not possible to form a solid solution with more than 25 Sr.
(Bi 1-β Pb β) 2 Sr 2 Ca n Cu
The same applies to n + 1 O 6+ 2n + δ and (Sr 1-η Ca η ) 1-λ CuO 2 + δ , where β, η, and λ are 0 ≦ β ≦ 0.
Only in the range of 3, 0 ≦ η ≦ 0.95 and 0 ≦ λ ≦ 0.2, a single phase cannot be obtained. Oxygen is the only anion in these crystals and has a large effect on the carrier concentration. However, in order for the copper complex oxide superconductor to form its crystal structure, the oxygen content is -0. It must be in the range of 5 ≦ δ ≦ 0.5.

【0013】一方、熱処理による方法は、焼結によって
得られた超電導体を、空気や酸素等の酸化性雰囲気下
か、高酸素分圧下で加熱して焼結時に欠損した酸素を取
り入れ、上述したδを大きくしようとする方法である。
この方法は、比較的簡便で、単相にはし得たが超電導特
性がそれほどよくないときによく使われる。たとえば、
YBa2 Cu3 7+δでは酸素欠損がCu−O鎖で起こ
ることが多く、Tcは、δが−0.4程度だと40〜6
0Kと低いが、300〜600℃の酸化性雰囲気下で熱
処理してδが−0.05程度になるまで酸素を注入する
と90K程度まで上がる。
On the other hand, in the method by heat treatment, the superconductor obtained by sintering is heated in an oxidizing atmosphere such as air or oxygen or under a high oxygen partial pressure to take in oxygen depleted during sintering. This is a method for increasing δ.
This method is relatively simple and can be made into a single phase, but is often used when the superconducting properties are not so good. For example,
In YBa 2 Cu 3 O 7 + δ , oxygen deficiency often occurs in the Cu-O chain, and Tc is 40 to 6 when δ is about -0.4.
Although it is as low as 0K, when it is heat-treated in an oxidizing atmosphere at 300 to 600 ° C. and oxygen is injected until δ becomes about −0.05, it rises to about 90K.

【0014】さて、この発明の超電導体は、結晶構造が
異なる銅複合酸化物系超電導体を積み重ねて形成する
が、(La1-αSrα2 CuO4+δは、上述した2通
りの方法によってキャリアをドープしやすい物質であ
り、そのTcが最大になるキャリア量よりも過剰にドー
プすることができる。一方、上述した特定の群から選ば
れる物質は、2通りの方法でもキャリアをドープしにく
かったり、トープされたキャリアが抜け出してしまいや
すい物質である。
The superconductor of the present invention is formed by stacking copper composite oxide superconductors having different crystal structures. (La 1-α Sr α ) 2 CuO 4 + δ is the above-mentioned two types. It is a substance that is easily doped with carriers depending on the method, and can be doped more than the carrier amount that maximizes Tc. On the other hand, the substance selected from the above-mentioned specific group is a substance that is difficult to dope the carrier even if the two methods are used, or the trapped carrier easily escapes.

【0015】そこで、これら(La1-αSrα2 Cu
4+δと特定の群から選ばれる物質とを積み重ね、超格
子にすることによって全体のキャリア濃度を調整し、T
cを制御する。ここで、(La1-αSrα2 CuO
4+δは、キャリア濃度が特定の群から選ばれる物質のそ
れよりも大きく、特定の群から選ばれる物質にキャリア
を供給すると考えられる。このような作用を考慮する
と、この発明の超電導体においては、(La1-α
α2 CuO4+δから、特定の群から選ばれる物質に
キャリアがしみ出さなければならないので、各物質の層
の厚みは薄いほうがよく、特に、特定の群から選ばれる
物質の層は20単位格子よりも薄いのが好ましい。ま
た、(La1-αSrα2 CuO4+δ、特定の群から選
ばれる物質の層の繰り返し数は、あまり多くなると結晶
性が低下するので、各層の厚みにもよるが、1000以
下であるのが好ましい。より好ましいのは、200以下
である。
Therefore, these (La 1-α Sr α ) 2 Cu
The total carrier concentration is adjusted by stacking O 4 + δ and a substance selected from a specific group and forming a superlattice,
Control c. Here, (La 1-α Sr α ) 2 CuO
4 + δ is larger than that of the substance selected from the specific group, and is considered to supply the carrier to the substance selected from the specific group. Considering such an action, in the superconductor of the present invention, (La 1-α S
Since the carrier must exude from r α ) 2 CuO 4 + δ into a substance selected from a specific group, it is preferable that the layer of each substance is thin, and especially the layer of the substance selected from the specific group is It is preferably thinner than 20 unit cells. Further, (La 1-α Sr α ) 2 CuO 4 + δ , the repeating number of layers of a substance selected from a specific group, if the number of repetitions is too large, the crystallinity decreases. Is preferred. More preferably, it is 200 or less.

【0016】また、特定の群から選ばれる物質の層に
は、その群から選ばれる2種以上の物質が含まれていて
もよい。すなわち、この発明においては、(La1-α
α2 CuO4+δの層と特定の群から選ばれた少なく
とも1種の物質の層とが交互に層をなしておればよい。
The layer of a substance selected from a specific group may contain two or more types of substances selected from the group. That is, in the present invention, (La 1-α S
It suffices that layers of r α ) 2 CuO 4 + δ and layers of at least one substance selected from a specific group are alternately formed.

【0017】この発明の超電導体は、テープ状、線状、
繊維状、シート状等、いろいろな形状で使用することが
できる。また、炭素繊維や、セラミックスや、金や銀等
の金属からなる補強線材上に形成して使用することがで
きる。さらに、銀シース等の補強用の中空材料に詰めて
使用することができる。さらにまた、銅等をマトリクス
とする多芯線構造の超電導線材として使用することがで
きる。また、Si、MgO、LaGaO3 、LaAlO
3 、NdGaO3 、NdAlO3 、SrTiO3 等の基
板上に薄膜として形成し、いろいろな素子や、LSIの
配線として使用することができる。
The superconductor of the present invention has a tape shape, a wire shape,
It can be used in various shapes such as a fiber shape and a sheet shape. Further, it can be used by being formed on a reinforcing wire made of carbon fiber, ceramics, or metal such as gold or silver. Further, it can be used by filling it with a hollow material for reinforcement such as a silver sheath. Furthermore, it can be used as a superconducting wire having a multi-core wire structure using copper or the like as a matrix. In addition, Si, MgO, LaGaO 3 , LaAlO
It can be formed as a thin film on a substrate made of 3 , NdGaO 3 , NdAlO 3 , SrTiO 3 or the like, and can be used as various elements or wiring for LSI.

【0018】この発明の超電導体は、いろいろな方法に
よって作ることができるが、各層を原子オーダーで制御
することができるレーザーアブレーション法、分子線エ
ピタキシー法、電子ビーム蒸着法や、各種のスパッタ法
等の物理的蒸着法によって製膜するのが好ましい。たと
えば、レーザーアブレーション法による場合、次のよう
にする。
The superconductor of the present invention can be produced by various methods, but laser ablation method, molecular beam epitaxy method, electron beam evaporation method, various sputtering methods, etc., which can control each layer in atomic order. The film is preferably formed by the physical vapor deposition method of. For example, in the case of the laser ablation method, the following is performed.

【0019】すなわち、まずLa、Sr、Cuの酸化物
や炭酸塩の粉末を混合し、800〜1050℃の空気ま
たは酸化性雰囲気下で1〜12時間仮焼し、仮焼粉末を
ペレットに成形し、成形体を800〜1150℃で1〜
12時間かけて焼結し、(La1-αSrα2 CuO
4+δのターゲット(ターゲット1)を得る。なお、製膜
時に膜組成とターゲット組成とがずれることがあるの
で、各粉末は膜組成が目的とする組成になるように秤量
し、混合する。また、製膜条件によってはLaが不足す
ることがあり、La量を数%程度増やすほうが好ましい
場合もある。
That is, first, powders of oxides or carbonates of La, Sr, Cu are mixed and calcined in air or an oxidizing atmosphere at 800 to 1050 ° C. for 1 to 12 hours to form the calcined powder into pellets. The molded body at 800 to 1150 ° C.
Sintered for 12 hours to obtain (La 1-α Sr α ) 2 CuO
Get a target of 4 + δ (target 1). Since the film composition and the target composition may deviate during film formation, the powders are weighed and mixed so that the film composition becomes a desired composition. Further, La may be insufficient depending on the film forming conditions, and it may be preferable to increase the La amount by about several percent.

【0020】一方、同様にして特定の群から選ばれる物
質のターゲット(ターゲット2)を得る。ただ、仮焼温
度は650〜1000℃、焼結温度は700〜1100
℃とする。この場合も、やはり製膜時に膜組成とターゲ
ット組成とがずれることがあるので、各粉末は膜組成が
目的とする組成になるように秤量し、混合する。
On the other hand, similarly, a target (target 2) of a substance selected from a specific group is obtained. However, the calcination temperature is 650 to 1000 ° C, and the sintering temperature is 700 to 1100.
℃. In this case as well, since the film composition and the target composition may deviate during film formation, the respective powders are weighed and mixed so that the film composition becomes a desired composition.

【0021】次に、ターゲット1、2をチャンバー内に
セットするとともに、これらのターゲットに対向し、か
つ、5〜150mm離れた位置に基板をセットし、チャン
バー内を分圧1×10-5〜5×103 Paの酸化性雰囲気
にするとともに、基板を400〜900℃に加熱する。
そして、ターゲット1、2にエキシマレーザーを交互に
照射し、基板上に各ターゲットの構成物質を堆積させて
いく。
Next, the targets 1 and 2 are set in the chamber, the substrate is set at a position facing these targets and separated by 5 to 150 mm, and the partial pressure in the chamber is set to 1 × 10 -5 〜. The substrate is heated to 400 to 900 ° C. while the atmosphere is set to 5 × 10 3 Pa in an oxidizing atmosphere.
Then, the targets 1 and 2 are alternately irradiated with an excimer laser to deposit constituent materials of each target on the substrate.

【0022】上記において、ターゲットと基板との距離
が5mm未満であると、基板がじゃまになってターゲット
へのエキシマレーザーの照射角度を小さくせざるを得な
くなり、ターゲットのアブレーションが起こりにくくな
る。また、膜厚のむらを生じやすい。ターゲットと基板
との距離を150mmよりも長くすると、基板上への堆積
速度が低くなり、実用的でない。
In the above, if the distance between the target and the substrate is less than 5 mm, the substrate becomes a hindrance and the irradiation angle of the excimer laser to the target is obliged to be small, so that the ablation of the target is less likely to occur. In addition, the film thickness is likely to be uneven. When the distance between the target and the substrate is longer than 150 mm, the deposition rate on the substrate becomes low, which is not practical.

【0023】チャンバー内を酸化性雰囲気にするには、
酸素、オゾン、NO2 、N2 Oを使用したり、酸素雰囲
気中に紫外線等を照射してオゾンや活性酸素を生成させ
たりする。
To create an oxidizing atmosphere in the chamber,
Oxygen, ozone, NO 2 , or N 2 O is used, or ozone or active oxygen is generated by irradiating an oxygen atmosphere with ultraviolet rays or the like.

【0024】チャンバー内の酸化性雰囲気の分圧が1×
10-5Paよりも低いと、基板上に堆積する銅複合酸化物
の酸素取り込み量が少なくなり、また、1×103 Paよ
りも高いと、銅複合酸化物に不純物が混入しやすくなっ
たり、得られる膜のモルホロジーが著しく低下するよう
になる。
The partial pressure of the oxidizing atmosphere in the chamber is 1 ×
When it is lower than 10 -5 Pa, the oxygen uptake amount of the copper complex oxide deposited on the substrate is small, and when it is higher than 1 × 10 3 Pa, impurities are easily mixed in the copper complex oxide. The morphology of the obtained film will be significantly reduced.

【0025】また、基板の温度が400℃よりも低い
と、基板上に堆積するターゲット物質の結晶化が起こり
にくくなり、一方、900℃よりも高いと、堆積した物
質の再蒸発が起こり、膜組成が目的とする組成からずれ
るようになる。
When the temperature of the substrate is lower than 400 ° C., crystallization of the target material deposited on the substrate is less likely to occur, while when it is higher than 900 ° C., re-evaporation of the deposited substance occurs and the film is formed. The composition deviates from the intended composition.

【0026】エキシマレーザーとしては、ArFやKr
F、XeCl等を用いることができる。パルス周波数
は、ターゲットの種類や欲するアブレーション励起種に
よって異るが、あまり高すぎると基板上に堆積した原子
の再配列が不完全になり、結晶性が低下することがある
ので、1〜80Hz程度が好ましい。
As the excimer laser, ArF or Kr is used.
F, XeCl or the like can be used. The pulse frequency depends on the type of target and the desired ablation excitation species, but if it is too high, the rearrangement of the atoms deposited on the substrate may be incomplete and the crystallinity may decrease, so about 1 to 80 Hz. Is preferred.

【0027】ターゲットは、膜圧計によって膜厚をモニ
ターしたり、標準試料によって得た製膜時間と膜厚との
関係から製膜時間をモニターしながら、膜が所望の厚み
になったところで切り換える。反射高速電子線回折(R
HEED)によって得られる画像上で回折格子点の強度
をモニターし、その振動パターンから、単位格子の数が
所望の値になった時に切り換えるようにしてもよい。な
お、ターゲットの切り換えに際してレーザーの照射を数
秒から数分止めると、基板上に堆積した原子の再配列が
より完全になって膜質が向上することがある。
The target is switched when the film reaches a desired thickness while monitoring the film thickness with a film pressure gauge or monitoring the film forming time from the relationship between the film forming time obtained by a standard sample and the film thickness. Reflection high-speed electron diffraction (R
The intensity of the diffraction grating points may be monitored on the image obtained by HEED), and the vibration pattern may be switched when the number of unit gratings reaches a desired value. If the laser irradiation is stopped for several seconds to several minutes when the target is switched, the rearrangement of the atoms deposited on the substrate may be more complete and the film quality may be improved.

【0028】このようにして基板上に薄い膜を形成し、
全体の膜厚が所望の値になったところでレーザーの照射
を止め、300〜650℃まで1〜100℃/分の速度
で冷却する。300〜650℃に達したとき、チャンバ
ー内の酸化性雰囲気の分圧を1×10-3〜1×105 Pa
に上げ、1〜60分保持する。このとき、基板温度が3
00℃よりも低いか、酸化性雰囲気の分圧が1×10-3
Paよりも低いと、銅複合酸化物の酸素取り込み量が少な
くなる。また、650℃よりも高いと、取り込んだ酸素
が放出させられることがあり、やはり酸素取り込み量が
少なくなる。酸化性雰囲気の分圧が1×105 Paよりも
高いと、堆積する銅複合酸化物に不純物が混入しやすく
なる。
In this way, a thin film is formed on the substrate,
When the total film thickness reaches a desired value, the laser irradiation is stopped, and the film is cooled to 300 to 650 ° C at a rate of 1 to 100 ° C / min. When the temperature reaches 300 to 650 ° C., the partial pressure of the oxidizing atmosphere in the chamber is set to 1 × 10 −3 to 1 × 10 5 Pa.
And hold for 1-60 minutes. At this time, the substrate temperature is 3
Lower than 00 ℃ or partial pressure of oxidizing atmosphere is 1 × 10 -3
When it is lower than Pa, the oxygen uptake amount of the copper composite oxide decreases. On the other hand, if the temperature is higher than 650 ° C., the oxygen taken in may be released, and the amount of oxygen taken up also decreases. When the partial pressure of the oxidizing atmosphere is higher than 1 × 10 5 Pa, impurities are likely to be mixed in the deposited copper composite oxide.

【0029】また、酸素の取り込みをより完全なものと
するために、得られた膜を0.1〜1気圧の酸素分圧下
にて300〜1000℃で0.1〜20時間アニールし
たり、1〜400気圧の酸素分圧下にて300〜110
0℃、1〜20時間HIP(Hot Isostatic Press )処
理するのも好ましい。
In order to make oxygen uptake more complete, the obtained film is annealed at 300 to 1000 ° C. for 0.1 to 20 hours under an oxygen partial pressure of 0.1 to 1 atm, 300-110 under oxygen partial pressure of 1-400 atmospheres
It is also preferable to perform HIP (Hot Isostatic Press) treatment at 0 ° C. for 1 to 20 hours.

【0030】以上においては、各層の形成にそれぞれ1
個のターゲットを使用したが、複数個のターゲットを使
用することもできる。たとえば、(Bi1-βPbβ2
Sr2 CaCu2 8+δの層の形成に、ターゲット2に
代えて、BiとPbの酸化物粉末を混合し、焼結してな
るペレットと、Cuの酸化物粉末とSrの炭酸塩粉末と
を混合し、焼結してなるペレットと、Caの炭酸塩粉末
とCuの酸化物粉末とを混合、焼結したペレットとを使
用することができる。
In the above, one layer is formed for each layer.
Although one target was used, multiple targets can also be used. For example, (Bi 1-β Pb β ) 2
Pellets formed by mixing and sintering Bi and Pb oxide powders instead of the target 2 in the formation of the Sr 2 CaCu 2 O 8 + δ layer, and Cu oxide powders and Sr carbonate powders. It is possible to use a pellet obtained by mixing and sintering and a pellet obtained by mixing and sintering a carbonate powder of Ca and an oxide powder of Cu.

【0031】[0031]

【実施例】【Example】

実施例1 La2 3 、SrCO3 、CuOの各粉末をLa:S
r:Cuが1.85:0.3:1になるように秤量し、
混合し、空気中にて900℃で12時間仮焼し、粉砕
し、ペレットに成形し、空気中にて1000℃で24時
間かけて焼結し、徐冷してターゲット1を得た。
Example 1 La 2 O 3 , SrCO 3 , and CuO powders were mixed with La: S.
Weigh so that r: Cu is 1.85: 0.3: 1,
The target 1 was obtained by mixing, calcining in air at 900 ° C. for 12 hours, crushing, shaping into pellets, sintering in air at 1000 ° C. for 24 hours, and slow cooling.

【0032】また、Bi2 3 粉末をペレットに成形
し、空気中にて750℃で5時間かけて焼結し、徐冷し
てターゲット2を得た。
Further, Bi 2 O 3 powder was molded into pellets, sintered in air at 750 ° C. for 5 hours, and gradually cooled to obtain a target 2.

【0033】さらに、SrCO3 、CuOの各粉末をS
r:Cuが2:1になるように秤量し、混合し、空気中
にて800℃で5時間仮焼し、粉砕し、ペレットに成形
し、空気中にて900℃で5時間かけて焼結し、徐冷し
てターゲット3を得た。
Further, SrCO 3 and CuO powders are added to S
The r: Cu was weighed so as to be 2: 1, mixed, calcined in air at 800 ° C. for 5 hours, crushed, formed into pellets, and baked in air at 900 ° C. for 5 hours. After binding, it was gradually cooled to obtain a target 3.

【0034】さらにまた、CaCO3 、CuOの各粉末
をCa:Cuが1:1になるように秤量し、混合し、空
気中にて700℃で5時間仮焼し、粉砕し、ペレットに
成形し、空気中にて800℃で5時間かけて焼結し、徐
冷してターゲット4を得た。次に、ターゲット1、2、
3、4をチャンバー内にセットするとともに、これらの
ターゲットに対向し、かつ、それぞれのターゲットから
25mm離れた位置に、面方位が(100)面のSrTi
3 基板を置き、チャンバー内の酸化性雰囲気(N2
ガス)の分圧を0.01Paに調整し、基板を600℃に
加熱した。
Further, each powder of CaCO 3 and CuO is weighed so that Ca: Cu becomes 1: 1, mixed, calcined in air at 700 ° C. for 5 hours, pulverized and molded into pellets. Then, it was sintered in air at 800 ° C. for 5 hours and gradually cooled to obtain a target 4. Next, targets 1, 2,
3 and 4 are set in the chamber, SrTi having a (100) plane orientation is located at a position facing these targets and being 25 mm away from each target.
An O 3 substrate is placed and an oxidizing atmosphere (N 2 O
The partial pressure of (gas) was adjusted to 0.01 Pa, and the substrate was heated to 600 ° C.

【0035】次に、各ターゲットに、波長193nm、発
振周波数8Hz、パルスエネルギー密度1J/cm2 のArF
エキシマレーザーを、基板上に堆積される物質の厚みを
RHEEDでモニターしながら、ターゲット1による層
およびターゲット2、3、4による層の厚みがそれぞれ
1単位格子になるように、ターゲットをターゲット1、
3、4、3、2、3、4、3、2、……と順次切り換え
て照射した。
Next, ArF having a wavelength of 193 nm, an oscillation frequency of 8 Hz and a pulse energy density of 1 J / cm 2 was applied to each target.
An excimer laser is used to monitor the thickness of the substance deposited on the substrate by RHEED, and the target is set to a target 1 so that the thickness of the layer formed by the target 1 and the layers formed by the targets 2, 3 and 4 are each one unit lattice.
Irradiation was sequentially switched to 3, 4, 3, 2, 3, 4, 3, 2, ....

【0036】かくして、基板上に厚みが約50nmの薄膜
を得た。この薄膜をX線回折等によって分析したとこ
ろ、厚みがそれぞれ1単位格子の、(La0.85
0.152 CuO4+δの層とBi2 Sr2 Ca2 Cu3
10+ δの層とが交互に10回積み重ねられたものであ
った。
Thus, a thin film having a thickness of about 50 nm was obtained on the substrate. When this thin film was analyzed by X-ray diffraction or the like, it was found that (La 0.85 S
r 0.15 ) 2 CuO 4 + δ layer and Bi 2 Sr 2 Ca 2 Cu 3
It was a stack of 10 alternating layers of O 10+ δ .

【0037】また、この薄膜について、4端子法によっ
て電気抵抗の温度依存性を測定したところ、100Kで
超電導転移に伴う抵抗の急激な低下が始まり(Tc
onset )、80Kで抵抗が零になった(Tczero)。臨
界電流密度は、4.2Kで3×105 A/cm2 であっ
た。
When the temperature dependence of the electric resistance of this thin film was measured by the 4-terminal method, a sharp decrease in the resistance due to the superconducting transition started at 100 K (Tc
onset ), the resistance became zero at 80K (Tc zero ). The critical current density was 3 × 10 5 A / cm 2 at 4.2K.

【0038】実施例2 実施例1と同様にして、La:Sr:Cuを1.85:
0.3:1としたターゲット1と、Bi2 3 からなる
ターゲット2と、Sr:Cuを2:1としたターゲット
3と、Ca:Cuを1:1としたターゲット4とを得
た。
Example 2 As in Example 1, La: Sr: Cu was added to 1.85:
A target 1 of 0.3: 1, a target 2 of Bi 2 O 3 , a target 3 of Sr: Cu of 2: 1 and a target 4 of Ca: Cu of 1: 1 were obtained.

【0039】次に、ターゲット1、2、3、4をチャン
バー内にセットし、以下、実施例1と同様にして、しか
し、ターゲット1による層およびターゲット2、3、4
による層の厚みがそれぞれ1単位格子になるように、タ
ーゲットをターゲット1、3、4、3、2、3、4、
3、2、……と順次切り換えて製膜した。
Next, the targets 1, 2, 3 and 4 were set in the chamber, and thereafter, in the same manner as in Example 1, but with the layer according to the target 1 and the targets 2, 3, and 4.
So that the thickness of each of the layers is 1 unit lattice, the targets are 1, 3, 4, 3, 2, 3, 4,
The film was formed by sequentially switching to 3, 2, ....

【0040】かくして、基板上に厚みが約57nmの薄膜
を得た。この薄膜は、厚みがそれぞれ1単位格子の、
(La0.85Sr0.152 CuO4+δの層とBi2 Sr2
Ca3Cu4 12+ δの層とが交互に10回積み重ねら
れたものであった。また、この薄膜のTconset は11
0K、Tczeroは85Kであり、臨界電流密度は4.2
Kで4×105 A/cm2 であった。
Thus, a thin film having a thickness of about 57 nm was obtained on the substrate. This thin film has a thickness of 1 unit lattice,
(La 0.85 Sr 0.15 ) 2 CuO 4 + δ layer and Bi 2 Sr 2
It was a stack of 10 alternating layers of Ca 3 Cu 4 O 12+ δ . The Tc onset of this thin film is 11
0K, Tc zero is 85K, and the critical current density is 4.2.
It was 4 × 10 5 A / cm 2 in K.

【0041】実施例3 実施例1と同様にして、La:Sr:Cuを1.85:
0.3:1としたターゲット1を得た。
Example 3 As in Example 1, La: Sr: Cu was added to 1.85:
A target 1 having a ratio of 0.3: 1 was obtained.

【0042】また、BaCO3 、CaCO3 、CuOの
各粉末をBa:Ca:Cuが2:1.5:2.2になる
ように秤量し、混合し、空気中にて850℃で5時間仮
焼し、粉砕し、これにTl2 3 をTa:Ba:Ca:
Cuが3:2:1.5:2.2になるように加え、混合
し、ペレットに成形し、空気中にて850℃で4時間か
けて焼結し、徐冷してターゲット2を得た。
Further, each powder of BaCO 3 , CaCO 3 and CuO was weighed and mixed so that Ba: Ca: Cu was 2: 1.5: 2.2, mixed and aired at 850 ° C. for 5 hours. It is calcined and crushed, and Tl 2 O 3 is added to it: Ta: Ba: Ca:
Cu was added so as to be 3: 2: 1.5: 2.2, mixed, molded into pellets, sintered in air at 850 ° C. for 4 hours, and slowly cooled to obtain target 2. It was

【0043】次に、ターゲット1、2をチャンバー内に
セットし、実施例1と同様に、しかし、ターゲット1に
よる層の厚みが10単位格子、ターゲット2による層の
厚みが4単位格子になるように、ターゲットをターゲッ
ト1、2、……と順次切り換えて製膜した。なお、基板
はターゲットから15mm離れた位置に置いた。また、チ
ァンバー内の酸化性雰囲気は8%オゾンを含む酸素ガス
(分圧1Pa)とした。さらに、基板温度は630℃と
し、厚みのモニターには膜厚計を用いた。
Next, the targets 1 and 2 were set in the chamber and the same as in Example 1 except that the layer thickness of the target 1 was 10 unit lattices and the layer thickness of the target 2 was 4 unit lattices. Then, the target was sequentially switched to the targets 1, 2, ... The substrate was placed 15 mm away from the target. The oxidizing atmosphere in the chamber was oxygen gas containing 8% ozone (partial pressure 1 Pa). Further, the substrate temperature was 630 ° C., and a film thickness meter was used to monitor the thickness.

【0044】かくして、基板上に厚みが約260nmの薄
膜を得た。この薄膜は、厚みが10単位格子の(La
0.85Sr0.152 CuO4+δの層と、厚みが4単位格子
のTl2 Ba2 CaCu2 8+δの層とが交互に10回
積み重ねられたものであった。また、この薄膜のTc
onset は105K、Tczeroは82Kであり、臨界電流
密度は4.2Kで3×105 A/cm2 であった。
Thus, a thin film having a thickness of about 260 nm was obtained on the substrate. This thin film has a thickness of 10 unit cells (La
A layer of 0.85 Sr 0.15 ) 2 CuO 4 + δ and a layer of Tl 2 Ba 2 CaCu 2 O 8 + δ having a thickness of 4 unit cells were alternately stacked 10 times. Also, the Tc of this thin film
The onset was 105 K, the Tc zero was 82 K, and the critical current density was 4.2 K and 3 × 10 5 A / cm 2 .

【0045】実施例4 実施例1と同様にして、La:Sr:Cuを1.80:
0.4:1としたターゲット1を得た。
Example 4 In the same manner as in Example 1, La: Sr: Cu was added at 1.80:
Target 1 having 0.4: 1 was obtained.

【0046】また、Y2 3 、BaCO3 、CuOの各
粉末をY:Ba:Cuが1.1:2:4.2になるよう
に秤量し、混合し、空気中にて750℃で10時間仮焼
し、粉砕し、ペレットに成形し、空気中にて820℃で
10時間かけて焼結し、徐冷してターゲット2を得た。
Further, the respective powders of Y 2 O 3 , BaCO 3 and CuO were weighed and mixed so that Y: Ba: Cu was 1.1: 2: 4.2 and mixed, and at 750 ° C. in air. A target 2 was obtained by calcination for 10 hours, crushing, forming into pellets, sintering in air at 820 ° C. for 10 hours, and slow cooling.

【0047】次に、ターゲット1、2をチャンバー内に
セットし、以下、実施例1と同様にして、しかし、ター
ゲット1による層およびターゲット2による層の厚みが
それぞれ3単位格子になるように、ターゲットをターゲ
ット1、2、……と順次切り換えて製膜した。なお、チ
ャンバー内の酸化性雰囲気は8%オゾンを含む酸素ガス
(分圧1Pa)とした。また、基板温度は650℃、レー
ザーの発振周波数は10Hz、パルスエネルギー密度は
1.5J/cm2 とした。厚みのモニターには膜厚計を用い
た。
Next, the targets 1 and 2 were set in the chamber, and thereafter, in the same manner as in Example 1, but so that the thickness of the layer formed by the target 1 and the layer formed by the target 2 became 3 unit lattices, respectively. The film was formed by sequentially switching the target to targets 1, 2, .... The oxidizing atmosphere in the chamber was oxygen gas containing 8% ozone (partial pressure 1 Pa). The substrate temperature was 650 ° C., the laser oscillation frequency was 10 Hz, and the pulse energy density was 1.5 J / cm 2 . A film thickness meter was used to monitor the thickness.

【0048】かくして、基板上に厚みが約120nmの薄
膜を得た。この薄膜は、厚みがそれぞれ3単位格子の、
(La0.8 Sr0.2 2 CuO4+δの層とYBa2 Cu
3 7+δの層とが交互に16回積み重ねられたものであ
った。また、この薄膜のTconset は84K、Tczero
は72Kであり、臨界電流密度は4.2Kで1×105
A/cm2 であった。
Thus, a thin film having a thickness of about 120 nm was obtained on the substrate. This thin film has a thickness of 3 unit lattices,
(La 0.8 Sr 0.2 ) 2 CuO 4 + δ layer and YBa 2 Cu
It was a stack of 16 alternating 16 layers of 3 O 7 + δ . The Tc onset of this thin film is 84K, Tc zero
Is 72K, the critical current density is 4.2K, and 1 × 10 5
It was A / cm 2 .

【0049】さらに、この薄膜を酸素分圧400kg/cm
2 下にて500℃で5時間HIP処理し、再び電気抵抗
の温度依存性を測定したところ、Tconset は90K、
Tczeroは85Kであり、臨界電流密度は4.2Kで4
×105 A/cm2 であった。 実施例5 実施例1と同様にして、La:Sr:Cuを1.80:
0.4:1としたターゲット1を得た。
Further, this thin film is formed with an oxygen partial pressure of 400 kg / cm.
When HIP treatment was performed at 500 ° C. for 5 hours under 2 and the temperature dependence of electric resistance was measured again, Tc onset was 90 K,
Tc zero is 85K and critical current density is 4.2K and 4
It was × 10 5 A / cm 2 . Example 5 In the same manner as in Example 1, La: Sr: Cu was changed to 1.80:
Target 1 having 0.4: 1 was obtained.

【0050】また、SrCO3 、CaCO3 、CuOの
各粉末をSr:Ca:Cuが0.2:0.8:1になる
ように秤量し、混合し、空気中にて750℃で10時間
仮焼し、粉砕し、ペレットに成形し、空気中にて820
℃で10時間かけて焼結し、徐冷してターゲット2を得
た。
Further, each powder of SrCO 3 , CaCO 3 and CuO was weighed and mixed so that Sr: Ca: Cu was 0.2: 0.8: 1, mixed, and then in air at 750 ° C. for 10 hours. Calcination, crushing, forming into pellets, 820 in air
The target was obtained by sintering at 10 ° C. for 10 hours and gradually cooling.

【0051】次に、ターゲット1、2をチャンバー内に
セットし、以下、実施例1と同様にして、しかし、ター
ゲット1による層およびターゲット2による層の厚みが
それぞれ4単位格子になるように、ターゲットをターゲ
ット1、2、……と順次切り換えて薄膜を形成した。な
お、基板はターゲットから25mm離れた位置に置いた。
また、チャンバー内の酸化性雰囲気は8%オゾンを含む
酸素ガス(分圧1Pa)とした。さらに、基板温度は65
0℃とした。厚みのモニターには膜厚計を用いた。
Next, the targets 1 and 2 were set in the chamber, and thereafter, in the same manner as in Example 1 except that the thickness of the layer formed by the target 1 and the layer formed by the target 2 were 4 unit lattices, respectively. The target was sequentially switched to targets 1, 2, ..., A thin film was formed. The substrate was placed 25 mm away from the target.
The oxidizing atmosphere in the chamber was oxygen gas containing 8% ozone (partial pressure 1 Pa). Furthermore, the substrate temperature is 65
It was set to 0 ° C. A film thickness meter was used to monitor the thickness.

【0052】かくして、基板上に厚みが約210nmの薄
膜を得た。この薄膜は、厚みがそれぞれ4単位格子の、
(La0.8 Sr0.2 2 CuO4+δの層とSr0.2 Ca
0.82+δの層とが交互に30回積み重ねられたもので
あった。また、この薄膜のTconset は50K、Tc
zeroは42Kであり、臨界電流密度は4.2Kで1×1
4 A/cm2 であった。
Thus, a thin film having a thickness of about 210 nm was obtained on the substrate. This thin film has a thickness of 4 unit cells each,
(La 0.8 Sr 0.2 ) 2 CuO 4 + δ layer and Sr 0.2 Ca
Alternating layers of 0.8 O 2 + δ were stacked 30 times. Also, the Tc onset of this thin film is 50K, Tc
zero is 42K, critical current density is 4.2K and 1x1
It was 0 4 A / cm 2 .

【0053】[0053]

【発明の効果】この発明の超電導体は、(La1-αSr
α2 CuO4+δ(ただし、0<α≦0.25)と、下
記群から選ばれた少なくとも1種の物質との層状構成を
有するので、実施例にも示したように、臨界電流密度が
高く、しかも、いろいろな超電導転移温度をもつ超電導
体とすることができる。
The superconductor of the present invention is (La 1-α Sr
Since it has a layered structure of α ) 2 CuO 4 + δ (where 0 <α ≦ 0.25) and at least one substance selected from the following group, as shown in the examples, the critical current A superconductor having a high density and various superconducting transition temperatures can be obtained.

【0054】 (Bi1-βPbβ2 Sr2 Can Cun+1 6+2n+ δ Tl2 Ba2 Cam Cum+1 6+2m+ δ MBa2 Cu3 7+δ (Sr1-ηCaη1-λCuO2+δ ただし、0≦β≦0.3 0≦γ≦0.5 0≦η≦0.95 0≦λ≦0.2 −0.5≦δ≦0.5 m:1、2または3 n:2または3 M:Y、La、Nd、Sm、Eu、Gd、Dy、Hoま
たはEr
[0054] (Bi 1-β Pb β) 2 Sr 2 Ca n Cu n + 1 O 6 + 2n + δ Tl 2 Ba 2 Ca m Cu m + 1 O 6 + 2m + δ MBa 2 Cu 3 O 7 + δ (Sr 1-η Ca η ) 1-λ CuO 2 + δ where 0 ≦ β ≦ 0.3 0 ≦ γ ≦ 0.5 0 ≦ η ≦ 0.95 0 ≦ λ ≦ 0.2 −0.5 ≦ δ ≦ 0.5 m: 1, 2 or 3 n: 2 or 3 M: Y, La, Nd, Sm, Eu, Gd, Dy, Ho or Er

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01B 13/00 565 D 8936−5G H01L 39/24 ZAA D 8728−4M ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI Technical display location H01B 13/00 565 D 8936-5G H01L 39/24 ZAA D 8728-4M

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】(La1-αSrα2 CuO4+δ(ただ
し、0<α≦0.25)と、下記群から選ばれた少なく
とも1種の物質との層状構成を有する超電導体。 (Bi1-βPbβ2 Sr2 Can Cun+1 6+2n+ δ Tl2 Ba2 Cam Cum+1 6+2m+ δ MBa2 Cu3 7+δ (Sr1-ηCaη1-λCuO2+δ ただし、0≦β≦0.3 0≦γ≦0.5 0≦η≦0.95 0≦λ≦0.2 −0.5≦δ≦0.5 m:1、2または3 n:2または3 M:Y、La、Nd、Sm、Eu、Gd、Dy、Hoま
たはEr
1. A superconductor having a layered structure of (La 1-α Sr α ) 2 CuO 4 + δ (where 0 <α ≦ 0.25) and at least one substance selected from the following group: .. (Bi 1-β Pb β) 2 Sr 2 Ca n Cu n + 1 O 6 + 2n + δ Tl 2 Ba 2 Ca m Cu m + 1 O 6 + 2m + δ MBa 2 Cu 3 O 7 + δ (Sr 1-η Ca η ) 1-λ CuO 2 + δ However, 0 ≦ β ≦ 0.3 0 ≦ γ ≦ 0.5 0 ≦ η ≦ 0.95 0 ≦ λ ≦ 0.2 −0.5 ≦ δ ≦ 0.5 m: 1, 2 or 3 n: 2 or 3 M: Y, La, Nd, Sm, Eu, Gd, Dy, Ho or Er
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JPH05294621A (en) 1993-11-09
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