JPH0529537A - 半導体モジユール構造 - Google Patents

半導体モジユール構造

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JPH0529537A
JPH0529537A JP3179719A JP17971991A JPH0529537A JP H0529537 A JPH0529537 A JP H0529537A JP 3179719 A JP3179719 A JP 3179719A JP 17971991 A JP17971991 A JP 17971991A JP H0529537 A JPH0529537 A JP H0529537A
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connection pads
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敏弘 草谷
Masaru Matsumoto
優 松本
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    • H10W90/00Package configurations
    • H10W90/701Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts
    • H10W90/721Package configurations characterised by the relative positions of pads or connectors relative to package parts of bump connectors
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Abstract

(57)【要約】 【目的】半導体回路を形成したチップ基板を複数枚搭載
してなる半導体モジュール構造に関し、チップ基板を搭
載するモジュール基板を不要として、上下に積み重ねて
搭載面積を小さくし、高密度に実装することを目的とす
る。 【構成】半導体回路2を形成したチップ基板1の表裏面
11、12にそれぞれ配線パターン3および接続パッド
4を設け、前記配線パターン3の表裏面間をビアホール
5で導通させ、前記チップ基板1を複数枚、前記接続パ
ッド4により上下に積み重ねて構成される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体回路の形成され
た半導体チップを複数個モジュール化して、高密度に実
装する半導体モジュール構造に関するものである。
【0002】近年、電子機器の小型化、高機能化のた
め、複数個の半導体チップを一つの配線基板上に搭載し
てモジュール化することにより、電子機器のマザーボー
ド上に高密度に実装することが行われているが、複数の
半導体チップを配線基板を介して接続してモジュール化
するため、半導体チップ間を平面的に配置する配線基板
をあまり小さくできず、より高密度に半導体チップを実
装することのできる半導体モジュール構造が求められて
いる。
【0003】
【従来の技術】従来、半導体モジュール構造としては、
図5に示すように、樹脂やセラミック基材等に配線パタ
ーンをプリントしてなるモジュール基板10上に、シリ
コン基板上に半導体回路を形成してなる半導体チップ2
0を、半田パンプやホンディングワイヤ等により接続し
て、複数個搭載し、半導体チップ20をシールキャップ
30や樹脂コートで保護して、半導体モジュールを構成
していた。そして、マザーボード40上には、モジュー
ル基板10に形成された外部接続リード110によって
接続するようになっていた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
半導体モジュール構造では、モジュール基板10上に半
導体チップ20を平面的に配置して、それぞれ半導体チ
ップ20間をモジュール基板10上にプリントされた配
線パターンで接続するものであるから、半導体チップ2
0、20、…の搭載部と配線パターンの形成部がモジュ
ール基板10上に必要であり、モジュール基板10の面
積を十分小さくすることができないという欠点があっ
た。
【0005】本発明は、以上の欠点を解消すべくなされ
たものであって、複数の半導体チップをモジュール基板
上に平面的に配置することなく、実装面積を小さくし
て、小型かつ高密度な半導体モジュール構造を提供する
ことを目的とするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明を実施例に対応す
る図1ないし図3に基づいて説明すると、半導体回路2
を形成したチップ基板1の表面11および裏面12に
は、それぞれ配線パターン3および接続パッド4を形成
している。さらに、チップ基板1には表裏面11、12
間を貫通して表裏面の配線パターン3、3を接続するビ
アホール5を形成している。そして、複数の前記チップ
基板1の表面側の接続パッド4上に上段のチップ基板1
の裏面側の接続パッド42を重ねて多段に接続して形成
する。
【0007】
【作用】上記構成に基づき、本発明においては、チップ
基板1の表裏面11、12間を貫通するビアホール5に
より表裏面の配線パターン3、3および接続パッド4、
4を接続しているため、チップ基板1を複数枚上下に積
み重ねて、下段側の表面部接続パッド4と、積み重ねら
れる上段側の裏面部接続パッド4とを半田等により接続
することによって半導体モジュールを構成することがで
きるため、半導体チップをモジュール化して接続するた
めの配線基板が不要となり、かつ上下に積み重ねること
により、マザーボードへの実装面積を一つのチップ基板
の大きさにして、装置の小型化を図ることができ、高密
度化が可能となる。
【0008】
【実施例】以下、本発明の望ましい実施例を添付図面に
基づいて詳細に説明する。図1および図2は本発明の半
導体モジュールを構成する半導体素子のチップ基板1を
示すものであり、図3は複数のチップ基板1、1、…を
マザーボード6上に多段に積み重ねて形成された半導体
モジュールAを示すものである。
【0009】図1に示すように、チップ基板1は半導体
回路2を形成するシリコン基板であり、表面11には、
半導体回路2が形成されている。そして、チップ基板1
には表面11と裏面12とを貫通して導通させるビアホ
ール5を形成している。
【0010】チップ基板1の表裏面11、12にはそれ
ぞれ対応する位置に接続パッド4、4が形成されてお
り、半導体回路2と接続パッド4とを接続するように配
線パターン3が形成されている。そして、表裏面11、
12にそれぞれ形成される配線パターン3、3は図2に
示すようにビアホール5によって導通している。
【0011】そして、チップ基板1は図3に示すように
複数枚重ねてマザーボード6上に搭載されるもので、最
下段のチップ基板1の裏面12に形成されている接続パ
ッド4をマザーボード6の接続パッド61に半田7や導
電接着剤等によって固定される。そして、チップ基板1
の表面側の接続パッド4には同様にして上段のチップ基
板1の裏面側接続パッド42を固定して、多段に積み重
ねられ、全体を樹脂コーティング8によって保護するよ
うに搭載されている。
【0012】次にチップ基板1の製造工程について説明
すると、まず、図4(a)に示すように、シリコン基板
13にレーザやエッチング等によって孔加工を行い表面
に酸化シリコン膜14を形成する。そして、半導体作成
プロセスによって半導体を形成し、アルミニウム蒸着、
リソグラフィにより半導体回路2を形成する。
【0013】次に、図4(b)に示すようにチップ基板
1の表裏面11、12にイミドスピンコート等により絶
縁層15を形成し、焼付、現像によってビアホール5を
露出させる。そして、メタル蒸着、エッチングによって
ビアホール5、接続パッド4を接続する配線パターン3
を絶縁層15上に形成してチップ基板1を形成するもの
である。
【0014】
【発明の効果】以上説明したように、本発明において
は、半導体回路を形成したチップ基板の表裏面に配線パ
ターンをビアホールで接続して設け、表裏面の接続パッ
ドでチップ基板を多段に積み重ねて、半導体モジュール
を形成するため、チップ基板をモジュール化する配線基
板が不要となり、マザーボードへの搭載面積を小さくし
て、高密度な実装が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例を示す説明図である。
【図2】本発明の断面を示す説明図である。
【図3】本発明の搭載状態を示す説明図である。
【図4】本発明の実施例の製造工程を示す説明図であ
る。
【図5】従来例を示す説明図である。
【符号の説明】
1 チップ基板 11 表面 12 裏面 2 半導体回路 3 配線パターン 4 接続パッド 5 ビアホール

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】半導体回路(2) を形成したチップ基板(1)
    の表面(11)および裏面(12)に配線パターン(3) と接続パ
    ッド(4) をそれぞれ形成するとともに、前記表裏面(11、
    12) の配線パターン(3、3) をビアホール(5) で接続して
    なり、かつ複数の前記チップ基板(1、1、・・)をそれぞれ対
    向する表裏面(11、12) の接続パッド(4、4) を介して接続
    して積み重ねてなることを特徴とする半導体モジュール
    構造。
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