JPH052961B2 - - Google Patents
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- JPH052961B2 JPH052961B2 JP3581090A JP3581090A JPH052961B2 JP H052961 B2 JPH052961 B2 JP H052961B2 JP 3581090 A JP3581090 A JP 3581090A JP 3581090 A JP3581090 A JP 3581090A JP H052961 B2 JPH052961 B2 JP H052961B2
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- substrate
- reflection mirror
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- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Description
〔産業上の利用分野〕
本発明は、カメラ、望遠鏡、顕微鏡等の光学製
品に使用される表面反射多層膜を有する表面高反
射鏡に関する。 〔従来の技術〕 光学製品に使用される表面高反射鏡の反射材料
としては、一般的には、可視から近赤外の範囲に
渡つて反射率が高い銀が使用されている。しかし
ながら、銀を使用する場合、単層膜では膜付着
性、耐湿性、耐硫化性等の点で劣るという問題が
ある。このため銀の単層膜に下地層と、保護層と
を形成した多層膜構成とし、膜付着性、耐湿性、
耐硫化性等を付与している。 例えば、第３図に示すように、４層構造とし
て、基板１ｅ上に酸化アルミニウムからなる下地
層２ｅを形成し、下地層２ｅ上に銀からなる反射
層３ｅを形成し、さらに反射層３ｅ上に保護層と
して、酸化アルミニウム層４ｅと、二酸化ケイ素
層５ｅとを順次形成した例（”Reflectance and
durability of Ag mirrors coated with thin
layers of Al203 plus reactively deposited
silicon oxide，”Appl.0pt.，14（1975），2639）
がある。 また第４図に示すように、６層構造として、基
板１ｆ上に銅からなる下地層２ｆを形成し、下地
層２ｆ上に銀からなる反射層３ｆを形成し、さら
に反射層３ｆ上に保護層として、酸化アルミニウ
ム層４ｆと、酸化タンタル層５ｆと、二酸化ケイ
素層６ｆと、酸化タンタル層７ｆとを順次形成し
た例（”Progress in the development of ａ
durable silver−based high−reflectance
coating for astronomical telescopes，”
Appl.0pt.，24（1985），1164）がある。 上記方法は、いずれも表面高反射鏡の基板とし
てガラスを使用する場合に効果を発揮する。 〔発明が解決しようとする課題〕 近年、ポリカーボネート、ポリエステル、アク
リル樹脂等のプラスチツク成形技術が発達し、ま
たプラスチツクはガラスと比較して複雑な形状を
簡単に成形できるという利点から、光学部材とし
てその使用範囲も拡大している。例えば、カメラ
に使用されているペンタプリズムは、コスト低減
のためにプラスチツク化が望まれており、内部中
空のペンタ形状成形品に表面反射膜を形成した製
品も使用され始めている。しかしながら、基板が
ポリカーボネート、ポリエステル、アクリル樹脂
等のプラスチツクで形成されている場合は、基板
がガラスで形成されている場合と比較して、上述
と同様の膜構成では、膜付着性、耐湿性等の点で
劣るという問題点がある。 従つて本発明の目的は、基板がポリカーボネー
ト、ポリエステル、アクリル樹脂等のプラスチツ
クで形成されている場合においても、膜付着性、
耐湿性等に優れた表面高反射鏡を提供することで
ある。 〔課題を解決するための手段〕 上記目的に鑑み鋭意研究の結果、本発明者は、
基板がポリカーボネート、ポリエステル、アクリ
ル樹脂等のプラスチツクで形成されている場合に
おいても、膜付着性、耐湿性等に優れた表面高反
射鏡を得るためには、基板と銀からなる反射層と
付着力を強化すればよいが、硫化クロムを下地層
として基板と反射層との間に形成すればその付着
力を強化できることを発見し、本発明に想到し
た。 すなわち、本発明の表面高反射鏡は、(a)基板表
面上に形成された硫化クロムからなる下地層と、
(b)前記硫化クロム下地層上に形成された銀からな
る反射層と、(c)前記反射層上に形成された保護層
とを有することを特徴とする。 〔作用〕 表面高反射鏡において、基板がポリカーボネー
ト、ポリエステル、アクリル樹脂等のプラスチツ
クで形成されている場合においても、基板上に基
板との付着性の高い硫化クロムの下地層を形成
し、その硫化クロム下地層上に銀からなる反射層
を形成すると、基板と銀からなる反射層の膜付着
力が強化される。これにより膜付着性、耐湿性の
高い表面高反射鏡が得られる。 〔実施例〕 第１図は、本発明の一実施例による表面高反射
鏡を概略的に示す。本表面高反射鏡は、３層構造
であり、各層は真空蒸着法、スパツタリング等に
より形成されている。本実施例では、ポリカーボ
ネート、ポリエステル、アクリル樹脂等のプラス
チツクで形成された基板１ａ上に表面高反射鏡が
形成される場合を示すが、ガラス基板上にも形成
し得ることは勿論である。 基板１ａ上に硫化クロムからなる下地層２ａが
形成され、硫化クロム下地層２ａ上に銀からなる
反射層３ａが形成され、さらに反射層３ａ上に保
護層４ａが形成されている。 硫化クロム下地層２ａは、上記プラスチツク材
料からなる基板１ａとの付着性が高い硫化クロム
により形成する。硫化クロム下地層２ａの厚さは
10nm以上であり、特に15〜50nmであるのが好ま
しい。硫化クロム下地層２ａの膜厚が10nm未満
であると、十分な付着力が得られない。 硫化クロム下地層２ａ上に形成された銀からな
る反射層３ａは、45nm以上の膜厚を有するのが
好ましく、特に100〜200nmとするのが好ましい。
膜厚が45nm未満であると、完全な反射とならず、
ハーフミラー化するので、好ましくない。 最後に、反射層３ａ上に形成した保護層４ａ
は、酸化アルミニウムにより形成するのが好まし
く、また膜厚は20nm以上、特に20〜100nmであ
るのが好ましい。膜厚が20nm未満であると、反
射層３ａの保護作用が充分でない。 第２図は、本発明の別の実施例による表面高反
射鏡を概略的に示す。この実施例では、保護層４
ｂは酸化アルミニウム層と透明材料からなる層と
の多層膜からなるが、その他の層（下地層２ｂ及
び反射層３ｂ）については、第１図の実施例と同
じである。 透明材料としては、酸化ジルコニウム、酸化タ
ンタル、酸化チタン、酸化セリウム、酸化ニオ
ブ、二酸化ケイ素、フツ化マグネシウム等の誘電
体があげられ、その膜厚は20nm以上、特に20〜
100nmであるのが好ましい。 酸化アルミニウム層と透明材料からなる層とは
一層ずつでもよいが、交互に積層させてもよい。
積層の場合、各層は２〜５層程度とするのがよ
い。 本発明を以下の実施例によりさらに詳細に説明
する。 実施例 １ 第１図に示す構成の表面高反射鏡を作成するた
めに、まずポリカーボネートからなる基板１ａ上
に、硫化クロムからなる層を真空蒸着法により膜
厚15nmに形成し、硫化クロム下地層２ａとした。
この硫化クロム下地層２ａ上に反射材料として膜
厚100nmの銀からなる反射層３ａを真空蒸着法に
より形成した。さらに反射層３ａ上に膜厚100nm
の酸化アルミニウムからなる保護層４ｃを真空蒸
着法により形成し、表面高反射鏡を形成した。 この表面高反射鏡を、温度40℃、湿度95％RH
の恒温室に放置し、216時間経過するまで24時間
毎にセロハンテープによる剥離試験を行い、耐湿
性試験を行つた。なお実際の使用を考慮すると、
剥離するまでの時間は200時間以上が望ましい。
結果を第２表に示す。 また実施例１については、上記耐湿性試験前後
で45゜の入射光に対する分光反射率を測定した。
結果を第５図に示す。この結果によれば、耐湿性
試験の前後で45゜入射光の分光反射率はほとんど
変化せず、また耐湿性試験後においても、波長が
430〜700nmの可視域では、97％以上の高反射率
が得られた。 実施例 ２ 第２図に示す構成の表面高反射鏡を作成するた
めに、保護層４ｂとして酸化アルミニウム層を含
む透明材料の多層膜を形成し、それ以外は実施例
１と同じ条件で表面高反射鏡を形成した。なお、
保護層４ｂは厚さ65nmの酸化アルミニウム層と、
厚さ55nmの酸化ジルコニウムからなる誘電体層
との２層からなる。実施例１と同様に試験した結
果、膜付着性、耐湿性については、実施例１と同
様であつた。 比較例 １〜２ 硫化クロム下地層２ａを硫化クロムではなく、
硫化亜鉛（比較例１）及び硫化アンチモン（比較
例２）により形成し、それ以外は実施例１と同じ
条件で表面高反射鏡を形成し、実施例１と同じ耐
湿性試験を行つた。結果を第１表に示す。 比較例 ３ 第３図に示すような４層構造からなる表面高反
射鏡を作成するために、ポリカーボネートからな
る基板１ｅ上に膜厚30nmの酸化アルミニウムか
らなる下地層２ｅを真空蒸着法により形成し、こ
の下地層２ｅ上に膜厚100nmの銀からなる反射層
３ｅを真空蒸着法により形成し、さらに反射層３
ｅ上に保護層として、膜厚30nmの酸化アルミニ
ウム層４ｅと、膜厚150nmの二酸化ケイ素層５ｅ
とを、真空蒸着法により順次形成した。得られた
表面高反射鏡に対して、実施例１と同じ耐湿性試
験を行つた。結果を第１表に示す。 比較例 ４ 第４図において、ポリカーボネートで形成され
た基板１ｆ上に、銅を真空蒸着法により膜厚
40nmに形成し、下地層２ｆとした。この下地層
２ｆ上に反射材料として膜厚100nmの銀からなる
反射層３ｆを真空蒸着法により形成し、さらに反
射層３ｆ上に保護層として、膜厚60nmの酸化ア
ルミニウム層４ｆと、膜厚75nmの酸化タンタル
層５ｆと、膜厚75nmの二酸化ケイ素層６ｆと、
膜厚75nmの酸化タンタル層７ｆとを、真空蒸着
法により順次形成した。得られた表面高反射鏡に
対して、実施例１と同じ耐湿性試験を行つた。結
果を第１表に示す。
品に使用される表面反射多層膜を有する表面高反
射鏡に関する。 〔従来の技術〕 光学製品に使用される表面高反射鏡の反射材料
としては、一般的には、可視から近赤外の範囲に
渡つて反射率が高い銀が使用されている。しかし
ながら、銀を使用する場合、単層膜では膜付着
性、耐湿性、耐硫化性等の点で劣るという問題が
ある。このため銀の単層膜に下地層と、保護層と
を形成した多層膜構成とし、膜付着性、耐湿性、
耐硫化性等を付与している。 例えば、第３図に示すように、４層構造とし
て、基板１ｅ上に酸化アルミニウムからなる下地
層２ｅを形成し、下地層２ｅ上に銀からなる反射
層３ｅを形成し、さらに反射層３ｅ上に保護層と
して、酸化アルミニウム層４ｅと、二酸化ケイ素
層５ｅとを順次形成した例（”Reflectance and
durability of Ag mirrors coated with thin
layers of Al203 plus reactively deposited
silicon oxide，”Appl.0pt.，14（1975），2639）
がある。 また第４図に示すように、６層構造として、基
板１ｆ上に銅からなる下地層２ｆを形成し、下地
層２ｆ上に銀からなる反射層３ｆを形成し、さら
に反射層３ｆ上に保護層として、酸化アルミニウ
ム層４ｆと、酸化タンタル層５ｆと、二酸化ケイ
素層６ｆと、酸化タンタル層７ｆとを順次形成し
た例（”Progress in the development of ａ
durable silver−based high−reflectance
coating for astronomical telescopes，”
Appl.0pt.，24（1985），1164）がある。 上記方法は、いずれも表面高反射鏡の基板とし
てガラスを使用する場合に効果を発揮する。 〔発明が解決しようとする課題〕 近年、ポリカーボネート、ポリエステル、アク
リル樹脂等のプラスチツク成形技術が発達し、ま
たプラスチツクはガラスと比較して複雑な形状を
簡単に成形できるという利点から、光学部材とし
てその使用範囲も拡大している。例えば、カメラ
に使用されているペンタプリズムは、コスト低減
のためにプラスチツク化が望まれており、内部中
空のペンタ形状成形品に表面反射膜を形成した製
品も使用され始めている。しかしながら、基板が
ポリカーボネート、ポリエステル、アクリル樹脂
等のプラスチツクで形成されている場合は、基板
がガラスで形成されている場合と比較して、上述
と同様の膜構成では、膜付着性、耐湿性等の点で
劣るという問題点がある。 従つて本発明の目的は、基板がポリカーボネー
ト、ポリエステル、アクリル樹脂等のプラスチツ
クで形成されている場合においても、膜付着性、
耐湿性等に優れた表面高反射鏡を提供することで
ある。 〔課題を解決するための手段〕 上記目的に鑑み鋭意研究の結果、本発明者は、
基板がポリカーボネート、ポリエステル、アクリ
ル樹脂等のプラスチツクで形成されている場合に
おいても、膜付着性、耐湿性等に優れた表面高反
射鏡を得るためには、基板と銀からなる反射層と
付着力を強化すればよいが、硫化クロムを下地層
として基板と反射層との間に形成すればその付着
力を強化できることを発見し、本発明に想到し
た。 すなわち、本発明の表面高反射鏡は、(a)基板表
面上に形成された硫化クロムからなる下地層と、
(b)前記硫化クロム下地層上に形成された銀からな
る反射層と、(c)前記反射層上に形成された保護層
とを有することを特徴とする。 〔作用〕 表面高反射鏡において、基板がポリカーボネー
ト、ポリエステル、アクリル樹脂等のプラスチツ
クで形成されている場合においても、基板上に基
板との付着性の高い硫化クロムの下地層を形成
し、その硫化クロム下地層上に銀からなる反射層
を形成すると、基板と銀からなる反射層の膜付着
力が強化される。これにより膜付着性、耐湿性の
高い表面高反射鏡が得られる。 〔実施例〕 第１図は、本発明の一実施例による表面高反射
鏡を概略的に示す。本表面高反射鏡は、３層構造
であり、各層は真空蒸着法、スパツタリング等に
より形成されている。本実施例では、ポリカーボ
ネート、ポリエステル、アクリル樹脂等のプラス
チツクで形成された基板１ａ上に表面高反射鏡が
形成される場合を示すが、ガラス基板上にも形成
し得ることは勿論である。 基板１ａ上に硫化クロムからなる下地層２ａが
形成され、硫化クロム下地層２ａ上に銀からなる
反射層３ａが形成され、さらに反射層３ａ上に保
護層４ａが形成されている。 硫化クロム下地層２ａは、上記プラスチツク材
料からなる基板１ａとの付着性が高い硫化クロム
により形成する。硫化クロム下地層２ａの厚さは
10nm以上であり、特に15〜50nmであるのが好ま
しい。硫化クロム下地層２ａの膜厚が10nm未満
であると、十分な付着力が得られない。 硫化クロム下地層２ａ上に形成された銀からな
る反射層３ａは、45nm以上の膜厚を有するのが
好ましく、特に100〜200nmとするのが好ましい。
膜厚が45nm未満であると、完全な反射とならず、
ハーフミラー化するので、好ましくない。 最後に、反射層３ａ上に形成した保護層４ａ
は、酸化アルミニウムにより形成するのが好まし
く、また膜厚は20nm以上、特に20〜100nmであ
るのが好ましい。膜厚が20nm未満であると、反
射層３ａの保護作用が充分でない。 第２図は、本発明の別の実施例による表面高反
射鏡を概略的に示す。この実施例では、保護層４
ｂは酸化アルミニウム層と透明材料からなる層と
の多層膜からなるが、その他の層（下地層２ｂ及
び反射層３ｂ）については、第１図の実施例と同
じである。 透明材料としては、酸化ジルコニウム、酸化タ
ンタル、酸化チタン、酸化セリウム、酸化ニオ
ブ、二酸化ケイ素、フツ化マグネシウム等の誘電
体があげられ、その膜厚は20nm以上、特に20〜
100nmであるのが好ましい。 酸化アルミニウム層と透明材料からなる層とは
一層ずつでもよいが、交互に積層させてもよい。
積層の場合、各層は２〜５層程度とするのがよ
い。 本発明を以下の実施例によりさらに詳細に説明
する。 実施例 １ 第１図に示す構成の表面高反射鏡を作成するた
めに、まずポリカーボネートからなる基板１ａ上
に、硫化クロムからなる層を真空蒸着法により膜
厚15nmに形成し、硫化クロム下地層２ａとした。
この硫化クロム下地層２ａ上に反射材料として膜
厚100nmの銀からなる反射層３ａを真空蒸着法に
より形成した。さらに反射層３ａ上に膜厚100nm
の酸化アルミニウムからなる保護層４ｃを真空蒸
着法により形成し、表面高反射鏡を形成した。 この表面高反射鏡を、温度40℃、湿度95％RH
の恒温室に放置し、216時間経過するまで24時間
毎にセロハンテープによる剥離試験を行い、耐湿
性試験を行つた。なお実際の使用を考慮すると、
剥離するまでの時間は200時間以上が望ましい。
結果を第２表に示す。 また実施例１については、上記耐湿性試験前後
で45゜の入射光に対する分光反射率を測定した。
結果を第５図に示す。この結果によれば、耐湿性
試験の前後で45゜入射光の分光反射率はほとんど
変化せず、また耐湿性試験後においても、波長が
430〜700nmの可視域では、97％以上の高反射率
が得られた。 実施例 ２ 第２図に示す構成の表面高反射鏡を作成するた
めに、保護層４ｂとして酸化アルミニウム層を含
む透明材料の多層膜を形成し、それ以外は実施例
１と同じ条件で表面高反射鏡を形成した。なお、
保護層４ｂは厚さ65nmの酸化アルミニウム層と、
厚さ55nmの酸化ジルコニウムからなる誘電体層
との２層からなる。実施例１と同様に試験した結
果、膜付着性、耐湿性については、実施例１と同
様であつた。 比較例 １〜２ 硫化クロム下地層２ａを硫化クロムではなく、
硫化亜鉛（比較例１）及び硫化アンチモン（比較
例２）により形成し、それ以外は実施例１と同じ
条件で表面高反射鏡を形成し、実施例１と同じ耐
湿性試験を行つた。結果を第１表に示す。 比較例 ３ 第３図に示すような４層構造からなる表面高反
射鏡を作成するために、ポリカーボネートからな
る基板１ｅ上に膜厚30nmの酸化アルミニウムか
らなる下地層２ｅを真空蒸着法により形成し、こ
の下地層２ｅ上に膜厚100nmの銀からなる反射層
３ｅを真空蒸着法により形成し、さらに反射層３
ｅ上に保護層として、膜厚30nmの酸化アルミニ
ウム層４ｅと、膜厚150nmの二酸化ケイ素層５ｅ
とを、真空蒸着法により順次形成した。得られた
表面高反射鏡に対して、実施例１と同じ耐湿性試
験を行つた。結果を第１表に示す。 比較例 ４ 第４図において、ポリカーボネートで形成され
た基板１ｆ上に、銅を真空蒸着法により膜厚
40nmに形成し、下地層２ｆとした。この下地層
２ｆ上に反射材料として膜厚100nmの銀からなる
反射層３ｆを真空蒸着法により形成し、さらに反
射層３ｆ上に保護層として、膜厚60nmの酸化ア
ルミニウム層４ｆと、膜厚75nmの酸化タンタル
層５ｆと、膜厚75nmの二酸化ケイ素層６ｆと、
膜厚75nmの酸化タンタル層７ｆとを、真空蒸着
法により順次形成した。得られた表面高反射鏡に
対して、実施例１と同じ耐湿性試験を行つた。結
果を第１表に示す。
以上詳述したように、本発明の表面高反射鏡に
おいては、基板と銀からなる反射層との間に硫化
クロム下地層を形成している。従つて基板がポリ
カーボネート、ポリエステル、アクリル樹脂等の
プラスチツクで形成されている場合においても、
基板と反射層との間の付着力が強化されているた
め、膜付着性、耐湿性等に優れている。 以上においてプラスチツク基板に反射鏡を形成
する場合について説明したが、本発明はこれに限
定されず、ガラス基板に形成した場合にも良好な
効果を発揮する。
おいては、基板と銀からなる反射層との間に硫化
クロム下地層を形成している。従つて基板がポリ
カーボネート、ポリエステル、アクリル樹脂等の
プラスチツクで形成されている場合においても、
基板と反射層との間の付着力が強化されているた
め、膜付着性、耐湿性等に優れている。 以上においてプラスチツク基板に反射鏡を形成
する場合について説明したが、本発明はこれに限
定されず、ガラス基板に形成した場合にも良好な
効果を発揮する。
第１図は本発明の一実施例による表面高反射鏡
を示す断面図であり、第２図は本発明の別の一実
施例による表面高反射鏡を示す断面図であり、第
３図は従来の表面高反射鏡の一例を示す断面図で
あり、第４図は従来の表面高反射鏡の別の例を示
す断面図であり、第５図は本発明の一実施例によ
る表面高反射鏡の216時間耐湿性試験前後での45゜
入射光の分光反射率を示すグラフである。 １ａ，１ｂ，１ｅ，１ｆ……基板、２ａ，２ｂ
……硫化クロム下地層、２ｅ……酸化アルミニウ
ム下地層、２ｆ……銅下地層、３ａ，３ｂ，３
ｅ，３ｆ……反射層、４ａ，４ｂ，４ｅ，４ｆ，
５ｅ，５ｆ，６ｆ，７ｆ……保護層。
を示す断面図であり、第２図は本発明の別の一実
施例による表面高反射鏡を示す断面図であり、第
３図は従来の表面高反射鏡の一例を示す断面図で
あり、第４図は従来の表面高反射鏡の別の例を示
す断面図であり、第５図は本発明の一実施例によ
る表面高反射鏡の216時間耐湿性試験前後での45゜
入射光の分光反射率を示すグラフである。 １ａ，１ｂ，１ｅ，１ｆ……基板、２ａ，２ｂ
……硫化クロム下地層、２ｅ……酸化アルミニウ
ム下地層、２ｆ……銅下地層、３ａ，３ｂ，３
ｅ，３ｆ……反射層、４ａ，４ｂ，４ｅ，４ｆ，
５ｅ，５ｆ，６ｆ，７ｆ……保護層。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 表面高反射鏡において、 (a) 基板表面上に形成された硫化クロムからなる
下地層と、 (b) 前記硫化クロム下地層上に形成された銀から
なる反射層と、 (c) 前記反射層上に形成された保護層とを有する
ことを特徴とする表面高反射鏡。 ２ 請求項１に記載の表面高反射鏡において、前
記硫化クロム下地層が膜厚10nm以上であること
を特徴とする表面高反射鏡。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3581090A JPH03239202A (ja) | 1990-02-16 | 1990-02-16 | 表面高反射鏡 |
| US07/654,422 US5216551A (en) | 1990-02-16 | 1991-02-12 | Surface reflector |
| GB9103162A GB2241709B (en) | 1990-02-16 | 1991-02-14 | Surface reflector |
| DE4104735A DE4104735C2 (de) | 1990-02-16 | 1991-02-15 | Flächenreflektor |
| FR919101845A FR2658618B1 (fr) | 1990-02-16 | 1991-02-15 | Reflecteur multicouche pour dispositif optique. |
| FR9215033A FR2684769B1 (fr) | 1990-02-16 | 1992-12-14 | Reflecteur multicouche pour dispositif optique. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3581090A JPH03239202A (ja) | 1990-02-16 | 1990-02-16 | 表面高反射鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03239202A JPH03239202A (ja) | 1991-10-24 |
| JPH052961B2 true JPH052961B2 (ja) | 1993-01-13 |
Family
ID=12452287
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3581090A Granted JPH03239202A (ja) | 1990-02-16 | 1990-02-16 | 表面高反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03239202A (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5211433B2 (ja) * | 2005-03-24 | 2013-06-12 | 東レ株式会社 | Ｌｅｄ用反射体 |
| EP4538753A3 (en) * | 2021-02-22 | 2025-08-06 | Universal City Studios LLC | Dual-surfaced mirror system and mirror wedge illusion system |
| CN116917776A (zh) * | 2021-02-22 | 2023-10-20 | 环球城市电影有限责任公司 | 反射镜楔错觉系统和方法 |
-
1990
- 1990-02-16 JP JP3581090A patent/JPH03239202A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH03239202A (ja) | 1991-10-24 |
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