JPH03239202A - 表面高反射鏡 - Google Patents
表面高反射鏡Info
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- JPH03239202A JPH03239202A JP3581090A JP3581090A JPH03239202A JP H03239202 A JPH03239202 A JP H03239202A JP 3581090 A JP3581090 A JP 3581090A JP 3581090 A JP3581090 A JP 3581090A JP H03239202 A JPH03239202 A JP H03239202A
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- Japan
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- reflection mirror
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- surface reflection
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、カメラ、望遠鏡、顕微鏡等の光学製品に使用
される表面反射多層膜を有する表面高反射鏡に関する。
される表面反射多層膜を有する表面高反射鏡に関する。
光学製品に使用される表面高反射鏡の反射材料としては
、一般的には、可視から近赤外の範囲に渡って反射率が
高い銀が使用されている。しかしながら、銀を使用する
場合、単層膜では膜付着性、耐湿性、耐硫化性等の点で
劣るという問題がある。
、一般的には、可視から近赤外の範囲に渡って反射率が
高い銀が使用されている。しかしながら、銀を使用する
場合、単層膜では膜付着性、耐湿性、耐硫化性等の点で
劣るという問題がある。
このため銀の単層膜に下地層と、保護層とを形成した多
層膜構成とし、膜付着性、耐湿性、耐硫化性等を付与し
ている。
層膜構成とし、膜付着性、耐湿性、耐硫化性等を付与し
ている。
例えば、第３図に示すように、４層構造として、基板ｌ
ｅ上に酸化アルミニウムからなる下地層２ｅを形成し、
下地層２ｅ上に銀からなる反射層３ｅを形成し、さらに
反射層３ｅ上に保護層として、酸化アルミニウム層４ｅ
と、二酸化ケイ素層５ｅとを順次形成した例（’Ｒｅｆ
ｌｅｃｔａｎｃｅ ａｎｄ ｄｕｒａｂｉｌｉｔｙ ｏ
ｆ Ａｇ ｍａｒｒｏｒｓ ｃｏａｔｅｄ ｗｉｔｈ
ｔｈｉｎ １ａｙｅｒｓ ｏｆ Ａｌ２Ｏ２ｐｌ、ｕｓ
ｒｅａｃｔｉｖｅｌｙ ｄｅｐｏｓｉｔｅｄ ５ｉｌ
ｉｃｏｎ ｏｘｉｄｅ、”＾ｐｐｌ、 Ｏｐｔ、 。
ｅ上に酸化アルミニウムからなる下地層２ｅを形成し、
下地層２ｅ上に銀からなる反射層３ｅを形成し、さらに
反射層３ｅ上に保護層として、酸化アルミニウム層４ｅ
と、二酸化ケイ素層５ｅとを順次形成した例（’Ｒｅｆ
ｌｅｃｔａｎｃｅ ａｎｄ ｄｕｒａｂｉｌｉｔｙ ｏ
ｆ Ａｇ ｍａｒｒｏｒｓ ｃｏａｔｅｄ ｗｉｔｈ
ｔｈｉｎ １ａｙｅｒｓ ｏｆ Ａｌ２Ｏ２ｐｌ、ｕｓ
ｒｅａｃｔｉｖｅｌｙ ｄｅｐｏｓｉｔｅｄ ５ｉｌ
ｉｃｏｎ ｏｘｉｄｅ、”＾ｐｐｌ、 Ｏｐｔ、 。
１４ （１９７５）、 ２６３９）がある。
また第４図に示すように、６層構造として、基板１ｆ上
に銅からなる下地層２ｆを形成し、下地層２ｒ上に銀か
らなる反射層３ｆを形成し、さらに反射層３ｆ上に保護
層として、酸化アルミニウム層４ｆと、酸化タンタル層
５ｆと、二酸化ケイ素層６ｆと、酸化タンタル層７ｆと
を順次形成した例（′″Ｐｒｏｇｒｅｓｓ １ｎｔｈｅ
ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ ｏｆ ａ ｄｕｒａｂｌｅ
５ｉｌｖｅｒ−ｂａｓｅｄ ｈｉｇｈ−ｒｅｆｌｅｃ
ｔａｎｃｅ ｃｏａｔｉｎｇ ｆｏｒ ａｓｔｒｏｎｏ
ｍｉｃａｌ ｔｅｌｅｓｃｏｐｅｓ、 ”Ａｐｐｌ、Ｏ
ｐｔ、 、 ２４ （１９８５）、 １１６４）がある
。
に銅からなる下地層２ｆを形成し、下地層２ｒ上に銀か
らなる反射層３ｆを形成し、さらに反射層３ｆ上に保護
層として、酸化アルミニウム層４ｆと、酸化タンタル層
５ｆと、二酸化ケイ素層６ｆと、酸化タンタル層７ｆと
を順次形成した例（′″Ｐｒｏｇｒｅｓｓ １ｎｔｈｅ
ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ ｏｆ ａ ｄｕｒａｂｌｅ
５ｉｌｖｅｒ−ｂａｓｅｄ ｈｉｇｈ−ｒｅｆｌｅｃ
ｔａｎｃｅ ｃｏａｔｉｎｇ ｆｏｒ ａｓｔｒｏｎｏ
ｍｉｃａｌ ｔｅｌｅｓｃｏｐｅｓ、 ”Ａｐｐｌ、Ｏ
ｐｔ、 、 ２４ （１９８５）、 １１６４）がある
。
上記方法は、いずれも表面高反射鏡の基板としてガラス
を使用する場合に効果を発揮する。
を使用する場合に効果を発揮する。
〔発明が解決しようとする課題〕
近年、ポリカーボネート、ポリエステル、アクリル樹脂
等のプラスチック成形技術が発達し、またプラスチック
はガラスと比較して複雑な形状を簡単に成形できるとい
う利点から、光学部材としてその使用範囲も拡大してい
る。例えば、カメラに使用されているペンタプリズムは
、コスト低減のためにプラスチック化が望まれており、
内部中空のペンタ形状成形品に表面反射膜を形成した製
品も使用され始めている。しかしながら、基板がポリカ
ーボネート、ポリエステル、アクリル樹脂等のプラスチ
ックで形成されている場合は、基板がガラスで形成され
ている場合と比較して、上述と同様の膜構成では、膜付
着性、耐湿性等の点で劣るという問題点がある。
等のプラスチック成形技術が発達し、またプラスチック
はガラスと比較して複雑な形状を簡単に成形できるとい
う利点から、光学部材としてその使用範囲も拡大してい
る。例えば、カメラに使用されているペンタプリズムは
、コスト低減のためにプラスチック化が望まれており、
内部中空のペンタ形状成形品に表面反射膜を形成した製
品も使用され始めている。しかしながら、基板がポリカ
ーボネート、ポリエステル、アクリル樹脂等のプラスチ
ックで形成されている場合は、基板がガラスで形成され
ている場合と比較して、上述と同様の膜構成では、膜付
着性、耐湿性等の点で劣るという問題点がある。
従って本発明の目的は、基板がポリカーボネート、ポリ
エステル、アクリル樹脂等のプラスチックで形成されて
いる場合においても、膜付着性、耐湿性等に優れた表面
高反射鏡を提供することである。
エステル、アクリル樹脂等のプラスチックで形成されて
いる場合においても、膜付着性、耐湿性等に優れた表面
高反射鏡を提供することである。
上記目的に鑑み鋭意研究の結果、本発明者は、基板がポ
リカーボネート、ポリエステル、アクリル樹脂等のプラ
スチックで形成されている場合においても、膜付着性、
耐湿性等に優れた表面高反射鏡を得るためには、基板と
銀からなる反射層との付着力を強化すればよいが、硫化
クロムを下地層として基板と反射層との間に形成すれば
その付着力を強化できることを発見し、本発明に想到し
た。
リカーボネート、ポリエステル、アクリル樹脂等のプラ
スチックで形成されている場合においても、膜付着性、
耐湿性等に優れた表面高反射鏡を得るためには、基板と
銀からなる反射層との付着力を強化すればよいが、硫化
クロムを下地層として基板と反射層との間に形成すれば
その付着力を強化できることを発見し、本発明に想到し
た。
すなわち、本発明の表面高反射鏡は、（ａ）基板表面上
に形成された硫化クロムからなる下地層と、（５）前記
硫化クロム下地層上に形成された銀からなる反射層と、
（ｃ）前記反射層上に形成された保護層とを有すること
を特徴とする。
に形成された硫化クロムからなる下地層と、（５）前記
硫化クロム下地層上に形成された銀からなる反射層と、
（ｃ）前記反射層上に形成された保護層とを有すること
を特徴とする。
表面高反射鏡において、基板がポリカーボネート、ポリ
エステル、アクリル樹脂等のプラスチックで形成されて
いる場合においても、基板上に基板との付着性の高い硫
化クロムの下地層を形成し、その硫化クロム下地層上に
銀からなる反射層を形成すると、基板と銀からなる反射
層の膜付着力が強化される。これにより膜付着性、耐湿
性の高い表面高反射鏡が得られる。
エステル、アクリル樹脂等のプラスチックで形成されて
いる場合においても、基板上に基板との付着性の高い硫
化クロムの下地層を形成し、その硫化クロム下地層上に
銀からなる反射層を形成すると、基板と銀からなる反射
層の膜付着力が強化される。これにより膜付着性、耐湿
性の高い表面高反射鏡が得られる。
第１図は、本発明の一実施例による表面高反射鏡を概略
的に示す。本表面高反射鏡は、３層構造であり、各層は
真空蒸着法、スパッタリング等により形成されている。
的に示す。本表面高反射鏡は、３層構造であり、各層は
真空蒸着法、スパッタリング等により形成されている。
本実施例では、ポリカーボネート、ポリエステル、アク
リル樹脂等のプラスチックで形成された基板ｌａ上に表
面高反射鏡が形成される場合を示すが、ガラス基板上に
も形成し得ることは勿論である。
リル樹脂等のプラスチックで形成された基板ｌａ上に表
面高反射鏡が形成される場合を示すが、ガラス基板上に
も形成し得ることは勿論である。
基板ｌａ上に硫化クロムからなる下地層２ａが形成され
、硫化クロム下地層２ａ上に銀からなる反射層３ａが形
成され、さらに反射層３ａ上に保護層４ａが形成されて
いる。
、硫化クロム下地層２ａ上に銀からなる反射層３ａが形
成され、さらに反射層３ａ上に保護層４ａが形成されて
いる。
硫化クロム下地層２ａは、上記プラスチック材料からな
る基板１ａとの付着性が高い硫化クロムにより形成する
。硫化クロム下地層２ａの厚さは１０ｎｍ以上であり、
特に１５〜５０ｎｍであるのが好ましい。硫化クロム下
地層２ａの膜厚がｌＱｎｍ未満であると、十分な付着力
が得られない。
る基板１ａとの付着性が高い硫化クロムにより形成する
。硫化クロム下地層２ａの厚さは１０ｎｍ以上であり、
特に１５〜５０ｎｍであるのが好ましい。硫化クロム下
地層２ａの膜厚がｌＱｎｍ未満であると、十分な付着力
が得られない。
硫化クロム下地層２ａ上に形成された銀からなる反射層
３ａは、４５ｎｍ以上の膜厚を有するのが好ましく、特
に１００〜２０Ｏｒ＋ｍとするのが好ましい。膜厚が４
５ｎｍ未満であると、完全な反射とならず、ハーフミラ
−化するので、好ましくない。
３ａは、４５ｎｍ以上の膜厚を有するのが好ましく、特
に１００〜２０Ｏｒ＋ｍとするのが好ましい。膜厚が４
５ｎｍ未満であると、完全な反射とならず、ハーフミラ
−化するので、好ましくない。
最後に、反射層３ａ上に形成した保護層４ａは、酸化ア
ルミニウムにより形成するのが好ましく、また膜厚は２
０ｎｍ以上、特に２０〜１１００ｎであるのが好 − ６ ましい。膜厚が２０ｎｍ未満であると、反射層３ａの保
護作用が充分でない。
ルミニウムにより形成するのが好ましく、また膜厚は２
０ｎｍ以上、特に２０〜１１００ｎであるのが好 − ６ ましい。膜厚が２０ｎｍ未満であると、反射層３ａの保
護作用が充分でない。
第２図は、本発明の別の実施例による表面高反射鏡を概
略的に示す。この実施例では、保護層４ｂは酸化アルミ
ニウム層と透明材料からなる層との多層膜からなるが、
その他の層（下地層２ｈ及び反射層３ｂ）については、
第１図の実施例と同じである。
略的に示す。この実施例では、保護層４ｂは酸化アルミ
ニウム層と透明材料からなる層との多層膜からなるが、
その他の層（下地層２ｈ及び反射層３ｂ）については、
第１図の実施例と同じである。
透明材料としては、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、
酸化チタン、酸化セリウム、酸化ニオブ、二酸化ケイ素
、フッ化マグネシウム等の誘電体があげられ、その膜厚
は２０ｎｍ以上、特に２０〜１１００ｎであるのが好ま
しい。
酸化チタン、酸化セリウム、酸化ニオブ、二酸化ケイ素
、フッ化マグネシウム等の誘電体があげられ、その膜厚
は２０ｎｍ以上、特に２０〜１１００ｎであるのが好ま
しい。
酸化アルミニウム層と透明材料からなる層とは一層ずつ
でもよいが、交互に積層させてもよい。
でもよいが、交互に積層させてもよい。
積層の場合、各層は２〜５層程度とするのがよい。
本発明を以下の実施例によりさらに詳細に説明する。
実施例１
第１図に示す構成の表面高反射鏡を作成するために、ま
ずポリカーボネートからなる基板ｌａ上に、硫化クロム
からなる層を真空蒸着法により膜厚１５ｎｍに形成し、
硫化クロム下地層２ａとした。この硫化クロム下地層２
ａ上に反射材料として膜厚１１００ｎの銀からなる反射
層３ａを真空蒸着法により形成した。さらに反射層３ａ
上に膜厚１１００ｎの酸化アルミニウムからなる保護層
４ｃを真空蒸着法により形成し、表面高反射鏡を形成し
た。
ずポリカーボネートからなる基板ｌａ上に、硫化クロム
からなる層を真空蒸着法により膜厚１５ｎｍに形成し、
硫化クロム下地層２ａとした。この硫化クロム下地層２
ａ上に反射材料として膜厚１１００ｎの銀からなる反射
層３ａを真空蒸着法により形成した。さらに反射層３ａ
上に膜厚１１００ｎの酸化アルミニウムからなる保護層
４ｃを真空蒸着法により形成し、表面高反射鏡を形成し
た。
この表面高反射鏡を、温度４０℃、湿度９５％Ｒ１１の
恒温室に放置し、２１６時間経過するまで２４時間毎に
セロハンテープによる剥離試験を行い、耐湿性試験を行
った。なお実際の使用を考慮すると、剥離するまでの時
間は２００時間以上が望ましい。結果を第２表に示す。
恒温室に放置し、２１６時間経過するまで２４時間毎に
セロハンテープによる剥離試験を行い、耐湿性試験を行
った。なお実際の使用を考慮すると、剥離するまでの時
間は２００時間以上が望ましい。結果を第２表に示す。
また実施例１については、上記耐湿性試験前後で４５°
の入射光に対する分光反射率を測定した。
の入射光に対する分光反射率を測定した。
結果を第５図に示す。この結果によれば、耐湿性試験の
前後で４５°入射光の分光反射率はほとんど変化せず、
また耐湿性試験後においても、波長が４３０〜７００
ｎｍの可視域では、９７％以上の高反射率が得られた。
前後で４５°入射光の分光反射率はほとんど変化せず、
また耐湿性試験後においても、波長が４３０〜７００
ｎｍの可視域では、９７％以上の高反射率が得られた。
実施例２
第２図に示す構成の表面高反射鏡を作成するために、保
護層４ｂとして酸化アルミニウム層を含む透明材料の多
層膜を形成し、それ以外は実施例１と同じ条件で表面高
反射鏡を形成した。なお、保護Ｎ４ｂは厚さ６５ｎｍの
酸化アルミニウム層と、厚さ５５ｎｍの酸化ジルコニウ
ムからなる誘電体層との２層からなる。実施例）と同様
に試験した結果、膜付着性、耐湿性については、実施例
１と同様であった。
護層４ｂとして酸化アルミニウム層を含む透明材料の多
層膜を形成し、それ以外は実施例１と同じ条件で表面高
反射鏡を形成した。なお、保護Ｎ４ｂは厚さ６５ｎｍの
酸化アルミニウム層と、厚さ５５ｎｍの酸化ジルコニウ
ムからなる誘電体層との２層からなる。実施例）と同様
に試験した結果、膜付着性、耐湿性については、実施例
１と同様であった。
比較例１〜２
硫化クロム下地層２ａを硫化クロムではなく、硫化亜鉛
（比較例１）及び硫化アンチモン（比較例２）により形
成し、それ以外は実施例１と同じ条件で表面高反射鏡を
形成し、実施例１と同じ耐湿性試験を行った。結果を第
１表に示す。
（比較例１）及び硫化アンチモン（比較例２）により形
成し、それ以外は実施例１と同じ条件で表面高反射鏡を
形成し、実施例１と同じ耐湿性試験を行った。結果を第
１表に示す。
比較例３
第３図に示すような４層構造からなる表面高反射鏡を作
成するために、ポリカーボネートからなる基板ｌｅ上に
膜厚３０ｎｍの酸化アルミニウムからなる下地層２ｅを
真空蒸着法により形成し、この下地層２ｅ上に膜厚１１
００ｎの銀からなる反射層３ｅを真空蒸着法により形成
し、さらに反射層３ｅ上に保護層として、膜厚３０ｎｍ
の酸化アルミニウム層４ｅと、膜厚１５０ｎｍの二酸化
ケイ素層５ｅとを、真空蒸着法により順次形成した。得
られた表面高反射鏡に対して、実施例１と同じ耐湿性試
験を行った。結果を第１表に示す。
成するために、ポリカーボネートからなる基板ｌｅ上に
膜厚３０ｎｍの酸化アルミニウムからなる下地層２ｅを
真空蒸着法により形成し、この下地層２ｅ上に膜厚１１
００ｎの銀からなる反射層３ｅを真空蒸着法により形成
し、さらに反射層３ｅ上に保護層として、膜厚３０ｎｍ
の酸化アルミニウム層４ｅと、膜厚１５０ｎｍの二酸化
ケイ素層５ｅとを、真空蒸着法により順次形成した。得
られた表面高反射鏡に対して、実施例１と同じ耐湿性試
験を行った。結果を第１表に示す。
比較例４
第４図において、ポリカーボネートで形成された基板ｌ
ｆ上に、銅を真空蒸着法により膜厚４０ｎｍに形成し、
下地層２ｆとした。この下地層２ｆ上に反射材料として
膜厚１１００ｎの銀からなる反射層３ｆを真空蒸着法に
より形成し、さらに反射層３ｆ上に保護層として、膜厚
６０ｎｍの酸化アルミニウム層４ｆと、膜厚７５ｎｍの
酸化タンタル層５ｆと、膜厚７５ｎｎ＋の二酸化ケイ素
層６ｆと、膜厚７５ｎｍの酸化タンタル層７ｆとを、真
空蒸着法により順次形成した。得られた表面高反射鏡に
対して、実施例１と同じ耐湿性試験 ９ −１０− を行った。結果を第１表に示す。
ｆ上に、銅を真空蒸着法により膜厚４０ｎｍに形成し、
下地層２ｆとした。この下地層２ｆ上に反射材料として
膜厚１１００ｎの銀からなる反射層３ｆを真空蒸着法に
より形成し、さらに反射層３ｆ上に保護層として、膜厚
６０ｎｍの酸化アルミニウム層４ｆと、膜厚７５ｎｍの
酸化タンタル層５ｆと、膜厚７５ｎｎ＋の二酸化ケイ素
層６ｆと、膜厚７５ｎｍの酸化タンタル層７ｆとを、真
空蒸着法により順次形成した。得られた表面高反射鏡に
対して、実施例１と同じ耐湿性試験 ９ −１０− を行った。結果を第１表に示す。
以上詳述したように、本発明の表面高反射鏡においては
、基板と銀からなる反射層との間に硫化クロム下地層を
形成している。従って基板がポリカーボネート、ポリエ
ステル、アクリル樹脂等のプラスチックで形成されてい
る場合においても、基板と反射層との間の付着力が強化
されているため、膜付着性、耐湿性等に優れている。
、基板と銀からなる反射層との間に硫化クロム下地層を
形成している。従って基板がポリカーボネート、ポリエ
ステル、アクリル樹脂等のプラスチックで形成されてい
る場合においても、基板と反射層との間の付着力が強化
されているため、膜付着性、耐湿性等に優れている。
以上においてプラスチック基板に反射鏡を形成する場合
について説明したが、本発明はこれに限定されず、ガラ
ス基板に形成した場合にも良好な効果を発揮する。
について説明したが、本発明はこれに限定されず、ガラ
ス基板に形成した場合にも良好な効果を発揮する。
第１図は本発明の一実施例による表面高反射鏡を示す断
面図であり、 第２図は本発明の別の一実施例による表面高反射鏡を示
す断面図であり、 第３図は従来の表面高反射鏡の一例を示す断面図であり
、 第４図は従来の表面高反射鏡の別の例を示す断面図であ
り、 第５図は本発明の一実施例による表面高反射鏡の２１６
時間耐湿性試験前後での４５°入射光の分光反射率を示
すグラフである。 Ｉａ、ｉｂ、ｌｅ、ｉｆ −・基板 ２ａ、 ２ｂ ・・・・・硫化クロム下地層２ｅ・・
・・・・・酸化アルミニウム下地層２ｆ・・・・・・・
銅下地層 ３ａ、３ｂ、３ｅ、３ｆ ・・反射層
面図であり、 第２図は本発明の別の一実施例による表面高反射鏡を示
す断面図であり、 第３図は従来の表面高反射鏡の一例を示す断面図であり
、 第４図は従来の表面高反射鏡の別の例を示す断面図であ
り、 第５図は本発明の一実施例による表面高反射鏡の２１６
時間耐湿性試験前後での４５°入射光の分光反射率を示
すグラフである。 Ｉａ、ｉｂ、ｌｅ、ｉｆ −・基板 ２ａ、 ２ｂ ・・・・・硫化クロム下地層２ｅ・・
・・・・・酸化アルミニウム下地層２ｆ・・・・・・・
銅下地層 ３ａ、３ｂ、３ｅ、３ｆ ・・反射層
Claims (2)
- （１）表面高反射鏡において、 （ａ）基板表面上に形成された硫化クロムからなる下地
層と、 （ｂ）前記硫化クロム下地層上に形成された銀からなる
反射層と、 （ｃ）前記反射層上に形成された保護層とを有すること
を特徴とする表面高反射鏡。 - （２）請求項１に記載の表面高反射鏡において、前記硫
化クロム下地層が膜厚１０ｎｍ以上であることを特徴と
する表面高反射鏡。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3581090A JPH03239202A (ja) | 1990-02-16 | 1990-02-16 | 表面高反射鏡 |
| US07/654,422 US5216551A (en) | 1990-02-16 | 1991-02-12 | Surface reflector |
| GB9103162A GB2241709B (en) | 1990-02-16 | 1991-02-14 | Surface reflector |
| DE4104735A DE4104735C2 (de) | 1990-02-16 | 1991-02-15 | Flächenreflektor |
| FR919101845A FR2658618B1 (fr) | 1990-02-16 | 1991-02-15 | Reflecteur multicouche pour dispositif optique. |
| FR9215033A FR2684769B1 (fr) | 1990-02-16 | 1992-12-14 | Reflecteur multicouche pour dispositif optique. |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3581090A JPH03239202A (ja) | 1990-02-16 | 1990-02-16 | 表面高反射鏡 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03239202A true JPH03239202A (ja) | 1991-10-24 |
| JPH052961B2 JPH052961B2 (ja) | 1993-01-13 |
Family
ID=12452287
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3581090A Granted JPH03239202A (ja) | 1990-02-16 | 1990-02-16 | 表面高反射鏡 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH03239202A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006303478A (ja) * | 2005-03-24 | 2006-11-02 | Toray Ind Inc | Ｌｅｄ用反射体 |
| CN116917776A (zh) * | 2021-02-22 | 2023-10-20 | 环球城市电影有限责任公司 | 反射镜楔错觉系统和方法 |
| JP2024508398A (ja) * | 2021-02-22 | 2024-02-27 | ユニバーサル シティ スタジオズ リミテッド ライアビリティ カンパニー | ミラーウェッジイリュージョンシステム及び方法 |
-
1990
- 1990-02-16 JP JP3581090A patent/JPH03239202A/ja active Granted
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006303478A (ja) * | 2005-03-24 | 2006-11-02 | Toray Ind Inc | Ｌｅｄ用反射体 |
| CN116917776A (zh) * | 2021-02-22 | 2023-10-20 | 环球城市电影有限责任公司 | 反射镜楔错觉系统和方法 |
| JP2024508398A (ja) * | 2021-02-22 | 2024-02-27 | ユニバーサル シティ スタジオズ リミテッド ライアビリティ カンパニー | ミラーウェッジイリュージョンシステム及び方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH052961B2 (ja) | 1993-01-13 |
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