JPH05301910A - 新規な光開始剤、光開始剤系及びこれを用いた光重合性組成物 - Google Patents
新規な光開始剤、光開始剤系及びこれを用いた光重合性組成物Info
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 近赤外光において高い感度を持つ光開始剤、
光開始剤系及びこれを用いた光重合性組成物の提供。 【構成】 式(I)で表されるナフタロシアニン化合物
(MはH2等、Yは置換基又配位子、A1〜A4はナフタ
レン環、n=0,1,2)を含む光開始剤、さらにs−
トリアジン化合物(R1〜R3は置換基)、N−アリール
−α−アミノ酸または有機過酸化物を含む光開始剤系及
びこれらの光開始剤または光開始剤系を含有してなる光
重合性組成物。 【化1】
光開始剤系及びこれを用いた光重合性組成物の提供。 【構成】 式(I)で表されるナフタロシアニン化合物
(MはH2等、Yは置換基又配位子、A1〜A4はナフタ
レン環、n=0,1,2)を含む光開始剤、さらにs−
トリアジン化合物(R1〜R3は置換基)、N−アリール
−α−アミノ酸または有機過酸化物を含む光開始剤系及
びこれらの光開始剤または光開始剤系を含有してなる光
重合性組成物。 【化1】
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は新規な光開始剤、光開始
剤系及びこれを用いた光重合組成物に関する。
剤系及びこれを用いた光重合組成物に関する。
【0002】
【従来の技術】光重合性組成物は、一般にUV光源を用
いて、凸版用、レリーフ像用、フォトレジスト用等に広
く利用されているが、その感度はより高い系が望まれて
いる。600nm〜900nmの赤色、近赤外領域に感
度を持つ感材があれば、小型で直接変調可能な半導体レ
ーザーを用いることが出来、応用上有用性が高い。この
分野では感度を増大させるための光開始剤系について多
くの研究がなされているが、長波長光において十分な感
度を有するものは知られていない。
いて、凸版用、レリーフ像用、フォトレジスト用等に広
く利用されているが、その感度はより高い系が望まれて
いる。600nm〜900nmの赤色、近赤外領域に感
度を持つ感材があれば、小型で直接変調可能な半導体レ
ーザーを用いることが出来、応用上有用性が高い。この
分野では感度を増大させるための光開始剤系について多
くの研究がなされているが、長波長光において十分な感
度を有するものは知られていない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、近赤外光に
対して高い感度を有する新規な光開始剤、光開始剤系及
びこれを用いた光重合性組成物を提供するものである。
対して高い感度を有する新規な光開始剤、光開始剤系及
びこれを用いた光重合性組成物を提供するものである。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、下記式〔I〕
で表されるナフタロシアニン化合物
で表されるナフタロシアニン化合物
【化4】 (式中MはH2、金属又は半金属を示し、Yは置換基又
は配位子を示し、MがH2の場合はn=0であり、Mが
金属又は半金属の場合には、n=0、1又は2であり、
n=2の場合、2個のYは同一でも相違してもよく、A
1、A2、A3及びA4で表される環は置換基が結合しても
よいナフタレン環を示し、置換基は同一でも相違しても
よい)を含有してなる光開始剤に関する。
は配位子を示し、MがH2の場合はn=0であり、Mが
金属又は半金属の場合には、n=0、1又は2であり、
n=2の場合、2個のYは同一でも相違してもよく、A
1、A2、A3及びA4で表される環は置換基が結合しても
よいナフタレン環を示し、置換基は同一でも相違しても
よい)を含有してなる光開始剤に関する。
【0005】また、本発明は上記のナフタロシアニン化
合物と下記式〔II〕で表されるs−トリアジン化合物
合物と下記式〔II〕で表されるs−トリアジン化合物
【化5】 (式中R1、R2及びR3は置換基を示し、その少なくと
も1つはトリハロメチル基とされ、R1、R2及びR3は
同一でも相違してもよい)を含有してなる光開始剤系、
上記のナフタロシアニン化合物と下記式〔III〕で表
されるN−アリール−α−アミノ酸
も1つはトリハロメチル基とされ、R1、R2及びR3は
同一でも相違してもよい)を含有してなる光開始剤系、
上記のナフタロシアニン化合物と下記式〔III〕で表
されるN−アリール−α−アミノ酸
【化6】 (式中R4、R5、R6、R7およびR8はそれぞれ独立に
水素原子、炭素数が1〜12のアルキル基またはハロゲ
ン原子であり、R9は水素原子、炭素数が1〜12のア
ルキル基、シクロアルキル基、炭素数が1〜12のヒド
ロキシアルキル基、炭素数が2〜12のアルコキシアル
キル基、炭素数が1〜12のアミノアルキル基またはア
リール基であり、R10およびR11はそれぞれ独立に水素
原子または炭素数が1〜8のアルキル基である。)を含
有してなる光開始剤系ならびに上記のナフタロシアニン
化合物と有機過酸化物を含有してなる光開始剤系に関す
る。
水素原子、炭素数が1〜12のアルキル基またはハロゲ
ン原子であり、R9は水素原子、炭素数が1〜12のア
ルキル基、シクロアルキル基、炭素数が1〜12のヒド
ロキシアルキル基、炭素数が2〜12のアルコキシアル
キル基、炭素数が1〜12のアミノアルキル基またはア
リール基であり、R10およびR11はそれぞれ独立に水素
原子または炭素数が1〜8のアルキル基である。)を含
有してなる光開始剤系ならびに上記のナフタロシアニン
化合物と有機過酸化物を含有してなる光開始剤系に関す
る。
【0006】また、本発明は、これらの光開始剤または
光開始剤系と常圧において少なくとも100℃の沸点を
有する付加重合性化合物を含有してなる光重合性組成物
ならびにこれらの光開始剤または光開始剤系、常圧にお
いて少なくとも100℃の沸点を有する付加重合性化合
物および高分子有機重合体を含有し、高分子有機重合体
を高分子有機重合体と付加重合性化合物の合計重量を基
準として20〜80重量%とした光重合性組成物に関す
る。
光開始剤系と常圧において少なくとも100℃の沸点を
有する付加重合性化合物を含有してなる光重合性組成物
ならびにこれらの光開始剤または光開始剤系、常圧にお
いて少なくとも100℃の沸点を有する付加重合性化合
物および高分子有機重合体を含有し、高分子有機重合体
を高分子有機重合体と付加重合性化合物の合計重量を基
準として20〜80重量%とした光重合性組成物に関す
る。
【0007】式〔I〕において金属としては、アルミニ
ウム、インジウム、銅、ニッケル等があげられ、半金属
としてはホウ素、ケイ素、ヒ素、テルル等があげられ
る。置換基又は配位子のYはトリアルキルシリルオキシ
基、フェノキシ基、ハロゲン、ヒドロキシ基、フェニル
基等があげられる。ナフタレン環に結合してもよい置換
基としては、アルキル基、ハロゲン、アルコキシ基、フ
ェニル基、カルボキシル基、アセチル基、シアノ基等が
あげられる。式〔II〕におけるR1、R2及びR3に
は、特に制限はない。
ウム、インジウム、銅、ニッケル等があげられ、半金属
としてはホウ素、ケイ素、ヒ素、テルル等があげられ
る。置換基又は配位子のYはトリアルキルシリルオキシ
基、フェノキシ基、ハロゲン、ヒドロキシ基、フェニル
基等があげられる。ナフタレン環に結合してもよい置換
基としては、アルキル基、ハロゲン、アルコキシ基、フ
ェニル基、カルボキシル基、アセチル基、シアノ基等が
あげられる。式〔II〕におけるR1、R2及びR3に
は、特に制限はない。
【0008】式〔I〕で表されるナフタロシアニン化合
物としては (1) 〔(n−C3H7)3SiO〕2SiNc (但し、Ncはナフタロシアニン骨格を表す。以下同
様。) ビス(トリ−n−プロピルシロキシ)ナフタロシアノ−
シリコン (2) 〔(n−C6H13)3SiO〕2SiNc ビス(トリヘキシルシリルオキシ)ナフタロシアノ−シ
リコン (3) 〔(C2H5)3SiO〕2GeNc ビス(トリエチルシリルオキシ)ナフタロシアノーゲル
マニウム (4) 〔(n−C4H9)3SiO〕2SnNc ビス(トリ−n−ブチルシリルオキシ)ナフタロシアノ
ースズ (5) C6H5OA1Nc〔Si(CH3)3〕4 テトラキス(トリメチルシリル)ナフタロシアノ−フェ
ノキシアルミニウム (6) 〔(n−C3H7)3SiO〕2TiNc〔Si
(CH3)3〕4 ビス(トリ−n−プロピルシリルオキシ)−テトラキス
(トリメチルシリル)ナフタロシアノ−チタン (7) C1A1Nc ナフタロシアノ−クロロアルミニウム (8) H2Nc ナフタロシアノ−ハイドロゲン (9) 〔HO〕2SiNc ナフタロシアノ−ジヒドロキシシリコン (10) CoNc コバルトナフタロシアニン (11) OA1Nc ナフタロシアノ−オキシアルミニウム (12) C6H5InNc〔tert−C4H9〕4 テトラ−tert−ブチル−ナフタロシアノ−フェニル
インジウム (13) CuNc〔(CN3)3Si〕4 テトラ(トリメチルシリル)ナフタロシアノ−カッパー (14) NiNc〔CH3)3Si〕4 テトラ(トリメチルシリル)ナフタロシアノ−ニッケル (15) CoNc〔(CH3)3Si〕4 テトラ(トリメチルシリル)ナフタロシアノ−コバルト (16) GeNc〔(C2H5)3Si〕4 テトラ(トリエチルシリル)ナフタロシアノ−ゲルマニ
ウム (17) PdNc〔(CH3)3Si〕4 テトラ(トリメチルシリル)ナフタロシアノ−パラジウ
ム (18) PbNc〔(CH3)3Si〕4 テトラ(トリメチルシリル)ナフタロシアノ−鉛 (19) OVNc〔(CH3)2PhSi〕4 テトラ(ジメチルフェニルシリル)ナフタロシアノ−バ
ナジル (20) 〔(CH3)3SiO〕2SiNc〔Si(C
H3)2C6H5〕4 ビス(トリメチルシリルオキシ)−テトラキス(ジメチ
ルフェニルシリル)ナフタロシアノ−シリコン (21) (C2H5O)2SiNc〔Si(C6H5)3〕
4 ビスエトキシ−テトラキス(トリフェニルシリル)ナフ
タロシアノ−シリコン (22) 〔(C6H5)3SiO〕2SiNc〔Si(C
2H5)3〕4 ビス(トリフェニルシリルオキシ)−テトラキス(トリ
エチルシリル)ナフタロシアノ−シリコン (23) 〔(C2H5)SiO〕2GeNc〔Si(C
H3)2−n−C14H29〕4 ビス(トリエチルシリルオキシ)−テトラキス(ジメチ
ルテトラデシルシリル)ナフタロシアノ−ゲルマニウム などがあげられる。
物としては (1) 〔(n−C3H7)3SiO〕2SiNc (但し、Ncはナフタロシアニン骨格を表す。以下同
様。) ビス(トリ−n−プロピルシロキシ)ナフタロシアノ−
シリコン (2) 〔(n−C6H13)3SiO〕2SiNc ビス(トリヘキシルシリルオキシ)ナフタロシアノ−シ
リコン (3) 〔(C2H5)3SiO〕2GeNc ビス(トリエチルシリルオキシ)ナフタロシアノーゲル
マニウム (4) 〔(n−C4H9)3SiO〕2SnNc ビス(トリ−n−ブチルシリルオキシ)ナフタロシアノ
ースズ (5) C6H5OA1Nc〔Si(CH3)3〕4 テトラキス(トリメチルシリル)ナフタロシアノ−フェ
ノキシアルミニウム (6) 〔(n−C3H7)3SiO〕2TiNc〔Si
(CH3)3〕4 ビス(トリ−n−プロピルシリルオキシ)−テトラキス
(トリメチルシリル)ナフタロシアノ−チタン (7) C1A1Nc ナフタロシアノ−クロロアルミニウム (8) H2Nc ナフタロシアノ−ハイドロゲン (9) 〔HO〕2SiNc ナフタロシアノ−ジヒドロキシシリコン (10) CoNc コバルトナフタロシアニン (11) OA1Nc ナフタロシアノ−オキシアルミニウム (12) C6H5InNc〔tert−C4H9〕4 テトラ−tert−ブチル−ナフタロシアノ−フェニル
インジウム (13) CuNc〔(CN3)3Si〕4 テトラ(トリメチルシリル)ナフタロシアノ−カッパー (14) NiNc〔CH3)3Si〕4 テトラ(トリメチルシリル)ナフタロシアノ−ニッケル (15) CoNc〔(CH3)3Si〕4 テトラ(トリメチルシリル)ナフタロシアノ−コバルト (16) GeNc〔(C2H5)3Si〕4 テトラ(トリエチルシリル)ナフタロシアノ−ゲルマニ
ウム (17) PdNc〔(CH3)3Si〕4 テトラ(トリメチルシリル)ナフタロシアノ−パラジウ
ム (18) PbNc〔(CH3)3Si〕4 テトラ(トリメチルシリル)ナフタロシアノ−鉛 (19) OVNc〔(CH3)2PhSi〕4 テトラ(ジメチルフェニルシリル)ナフタロシアノ−バ
ナジル (20) 〔(CH3)3SiO〕2SiNc〔Si(C
H3)2C6H5〕4 ビス(トリメチルシリルオキシ)−テトラキス(ジメチ
ルフェニルシリル)ナフタロシアノ−シリコン (21) (C2H5O)2SiNc〔Si(C6H5)3〕
4 ビスエトキシ−テトラキス(トリフェニルシリル)ナフ
タロシアノ−シリコン (22) 〔(C6H5)3SiO〕2SiNc〔Si(C
2H5)3〕4 ビス(トリフェニルシリルオキシ)−テトラキス(トリ
エチルシリル)ナフタロシアノ−シリコン (23) 〔(C2H5)SiO〕2GeNc〔Si(C
H3)2−n−C14H29〕4 ビス(トリエチルシリルオキシ)−テトラキス(ジメチ
ルテトラデシルシリル)ナフタロシアノ−ゲルマニウム などがあげられる。
【0009】式〔II〕で表されるs−トリアジン化合
物としては2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−
s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリブロモメチ
ル)−s−トリアジン、2,4−ビス(ジクロロメチ
ル)−6−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−プ
ロピオニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−
トリアジン、2−ベンゾイル−4,6−ビス(トリブロ
モメチル)−s−トリアジン、2−(p−シアノフェニ
ル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリア
ジン、2−(p−ニトロフェニル)−4,6−ビス(ト
リクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−クロロ
フェニル)−4,6−(トリクロロメチル)−s−トリ
アジン、2−(p−クメニル)−4,6−トリクロロメ
チル−s−トリアジン、2−(p−メトロキシフェニ
ル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリア
ジン、2−(p−アミノフェニル)−4,6−ビス(ト
リクロロリメチル)−s−トリアジン、2,4−ビス
(p−メトキシフェニル)−6−トリクロロメチル−s
−トリアジン、2,4−ビス(m−クロロフェニル)−
6−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(p−メ
トキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)
−s−トリアジン、2−(p−クロロスチリル)−4,
6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−
(p−アミノスチリル)−4,6−ビス(ジクロロメチ
ル)−s−トリアジン、2−(4′−メトキシ−1′−
ナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−
トリアジン、2−(6′−クロロ−1′−ナフチル)−
4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、
2−(6′−ニトロ−1′−ナフチル)−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4′−
シアノ−1′−ナフチル)−4,6−ビス(トリクロロ
メチル)−s−トリアジンなどがあげられる。
物としては2,4,6−トリス(トリクロロメチル)−
s−トリアジン、2,4,6−トリス(トリブロモメチ
ル)−s−トリアジン、2,4−ビス(ジクロロメチ
ル)−6−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−プ
ロピオニル−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−
トリアジン、2−ベンゾイル−4,6−ビス(トリブロ
モメチル)−s−トリアジン、2−(p−シアノフェニ
ル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリア
ジン、2−(p−ニトロフェニル)−4,6−ビス(ト
リクロロメチル)−s−トリアジン、2−(p−クロロ
フェニル)−4,6−(トリクロロメチル)−s−トリ
アジン、2−(p−クメニル)−4,6−トリクロロメ
チル−s−トリアジン、2−(p−メトロキシフェニ
ル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリア
ジン、2−(p−アミノフェニル)−4,6−ビス(ト
リクロロリメチル)−s−トリアジン、2,4−ビス
(p−メトキシフェニル)−6−トリクロロメチル−s
−トリアジン、2,4−ビス(m−クロロフェニル)−
6−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(p−メ
トキシスチリル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)
−s−トリアジン、2−(p−クロロスチリル)−4,
6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−
(p−アミノスチリル)−4,6−ビス(ジクロロメチ
ル)−s−トリアジン、2−(4′−メトキシ−1′−
ナフチル)−4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−
トリアジン、2−(6′−クロロ−1′−ナフチル)−
4,6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、
2−(6′−ニトロ−1′−ナフチル)−4,6−ビス
(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2−(4′−
シアノ−1′−ナフチル)−4,6−ビス(トリクロロ
メチル)−s−トリアジンなどがあげられる。
【0010】式〔III〕で表されるN−アリール−α
−アミノ酸としては、p−クロロ−N−エチルフェニル
グリシン、N−メチルフェニルグリシン、p−クロロ−
N−メチルフェニルグリシン、p−ブロム−N−メチル
フェニルグリシン、p−シアノ−N−フェニルグリシ
ン、p−クロロ−N−フェニルグリシン、p−クロロ−
N−プロピルフェニルグリシン、p−シアノ−N−メチ
ルフェニルグリシンなどがあげられる。
−アミノ酸としては、p−クロロ−N−エチルフェニル
グリシン、N−メチルフェニルグリシン、p−クロロ−
N−メチルフェニルグリシン、p−ブロム−N−メチル
フェニルグリシン、p−シアノ−N−フェニルグリシ
ン、p−クロロ−N−フェニルグリシン、p−クロロ−
N−プロピルフェニルグリシン、p−シアノ−N−メチ
ルフェニルグリシンなどがあげられる。
【0011】有機過酸化物としては、ターシャリーブチ
ルオキシラウレート、ベンゾイルパーオキサイド、アセ
チルパーオキサイド、t−ブチルハイドロロオキサイ
ド、クメンハイドロパーオキサイド、2,5−ジメチル
ヘキサン−2,5−ジヒドロパーオキサイド、1,1,
3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、
2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキ
シ)ヘキシン−3、p−メンタンハイドロパーオキサイ
ド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ジ−イソプロピル
ベンゼンハイドロパーオキサイド、t−ブチルクミルパ
ーオキサイド、α,α−ビスa(t−ブチルパーオキシ
−m−イソプロピル)ベンゼン、2,5−ジメチル−
2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、3,
3′,4,4′,−テトラ−(−t−ブチロパーオキシ
カルボニル)ベンゾフェノン、ジ−クミルパーオキサイ
ドなどがあげられる。使い易さの点で、10時間半減期
温度が100℃以上の有機過酸化物を用いることが好ま
しい。
ルオキシラウレート、ベンゾイルパーオキサイド、アセ
チルパーオキサイド、t−ブチルハイドロロオキサイ
ド、クメンハイドロパーオキサイド、2,5−ジメチル
ヘキサン−2,5−ジヒドロパーオキサイド、1,1,
3,3−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、
2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキ
シ)ヘキシン−3、p−メンタンハイドロパーオキサイ
ド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ジ−イソプロピル
ベンゼンハイドロパーオキサイド、t−ブチルクミルパ
ーオキサイド、α,α−ビスa(t−ブチルパーオキシ
−m−イソプロピル)ベンゼン、2,5−ジメチル−
2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、3,
3′,4,4′,−テトラ−(−t−ブチロパーオキシ
カルボニル)ベンゾフェノン、ジ−クミルパーオキサイ
ドなどがあげられる。使い易さの点で、10時間半減期
温度が100℃以上の有機過酸化物を用いることが好ま
しい。
【0012】光重合性組成物に含まれる付加重合性化合
物は常圧において少なくとも100℃の沸点を有するも
のが用いられる。常圧において沸点が100℃より低い
ようなものでは系内に含有する溶剤を乾燥等によって除
去する際または活性光線を照射する際該付加重合性化合
物が揮散して特性上および作業性上好ましくないからで
ある。また、該付加重合性化合物は光開始剤等と均一な
組成物にするために用いられる有機溶剤に可溶なものが
好ましい。
物は常圧において少なくとも100℃の沸点を有するも
のが用いられる。常圧において沸点が100℃より低い
ようなものでは系内に含有する溶剤を乾燥等によって除
去する際または活性光線を照射する際該付加重合性化合
物が揮散して特性上および作業性上好ましくないからで
ある。また、該付加重合性化合物は光開始剤等と均一な
組成物にするために用いられる有機溶剤に可溶なものが
好ましい。
【0013】有機溶剤は、芳香族系、ハロゲン系、エー
テル系、ケトン系、アルコール系、飽和炭化水素系、脂
環式炭化水素系、エステル系溶剤等を用いることが出来
る。芳香族系溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリメチル
ベンゼン、1−クロロナフタレン、キノリン等があり、
ハロゲン系溶剤としては、塩化メチレン、クロロホル
ム、四塩化炭素、トリクロロエタン等があり、エーテル
系溶剤としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノメチルエーテル等があり、ケトン系溶
剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルプ
ロピルケトン、シクロペンタノン、アセトンアルコール
等があり、アルコール系溶剤としては、メタノール、エ
タノール、イソプロピルアルコール等があり、飽和炭化
水素系溶剤としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、
ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン等があり、脂環
式炭化水素系溶剤としては、シクロオクタン、シクロペ
ンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン等があり、エ
ステル系溶剤としては酢酸エチル、酢酸プロピル等が用
いられる。
テル系、ケトン系、アルコール系、飽和炭化水素系、脂
環式炭化水素系、エステル系溶剤等を用いることが出来
る。芳香族系溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシ
レン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、トリメチル
ベンゼン、1−クロロナフタレン、キノリン等があり、
ハロゲン系溶剤としては、塩化メチレン、クロロホル
ム、四塩化炭素、トリクロロエタン等があり、エーテル
系溶剤としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラ
ン、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノメチルエーテル等があり、ケトン系溶
剤としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルプ
ロピルケトン、シクロペンタノン、アセトンアルコール
等があり、アルコール系溶剤としては、メタノール、エ
タノール、イソプロピルアルコール等があり、飽和炭化
水素系溶剤としては、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、
ノナン、デカン、ウンデカン、ドデカン等があり、脂環
式炭化水素系溶剤としては、シクロオクタン、シクロペ
ンタン、シクロヘキサン、シクロヘプタン等があり、エ
ステル系溶剤としては酢酸エチル、酢酸プロピル等が用
いられる。
【0014】常圧において少なくとも100℃の沸点を
有する付加重合性化合物としては多価アルコールとα,
β−不飽和カルボン酸とを縮合して得られるもの、例え
ばジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート(ジア
クリレートまたはジメタアクリレートの意味、以下同
じ)、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、
1,3−プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、
1,3−ブタンジオール(メタ)アクリレート、ペンタ
エリスリト−ルヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタ
エリスリト−ルヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタ
エリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、2,2−
ビス(4−アクリロキシジエトキシフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(4−メタクリロキシペンタエトキシ
フェニル)プロパン等、グリシジル基含有化合物にα、
β−不飽和カルボン酸を付加して得られるもの、例えば
トリメチロールプロパントリグリシジルエ−テルトリ
(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジグリシジル
エーテルジ(メタ)アクリレート、新中村化学(株)
製、商品名BPE−500(2,2−ビス(4−メタク
リロキシポリエトキシフェニル)プロパンの混合物)
等、不飽和アミド例えばメチレンビスアクリルアミド、
エチレンビスアクリルアミド、1,6−ヘキサメチレン
ビスアクリルアミド等、ビニルエステル例えばジビニル
フタレート、ジビニルテレフタレート、ジビニルベンゼ
ン−1,3−ジスルホネート等が用いられる。この付加
重合性化合物は、2種以上を用いてもよい。
有する付加重合性化合物としては多価アルコールとα,
β−不飽和カルボン酸とを縮合して得られるもの、例え
ばジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート(ジア
クリレートまたはジメタアクリレートの意味、以下同
じ)、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、テトラエチレングリコールジ(メタ)アクリレー
ト、トリメチロールプロパンジ(メタ)アクリレート、
1,3−プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、
1,3−ブタンジオール(メタ)アクリレート、ペンタ
エリスリト−ルヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタ
エリスリト−ルヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタ
エリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、2,2−
ビス(4−アクリロキシジエトキシフェニル)プロパ
ン、2,2−ビス(4−メタクリロキシペンタエトキシ
フェニル)プロパン等、グリシジル基含有化合物にα、
β−不飽和カルボン酸を付加して得られるもの、例えば
トリメチロールプロパントリグリシジルエ−テルトリ
(メタ)アクリレート、ビスフェノールAジグリシジル
エーテルジ(メタ)アクリレート、新中村化学(株)
製、商品名BPE−500(2,2−ビス(4−メタク
リロキシポリエトキシフェニル)プロパンの混合物)
等、不飽和アミド例えばメチレンビスアクリルアミド、
エチレンビスアクリルアミド、1,6−ヘキサメチレン
ビスアクリルアミド等、ビニルエステル例えばジビニル
フタレート、ジビニルテレフタレート、ジビニルベンゼ
ン−1,3−ジスルホネート等が用いられる。この付加
重合性化合物は、2種以上を用いてもよい。
【0015】本発明においては、常圧において少なくと
も100℃の沸点を有する付加重合性化合物100重量
部(高分子量有機重合体を用いる場合には、この付加重
合性化合物と高分子量有機重合体との総量100重量
部)に対して、上記の式〔I〕で表されるナフタロシア
ニン化合物を0.001から2.0重量部、上記の式
〔II〕で表されるs−トリアジン化合物、式〔II
I〕で表されるN−アリール−α−アミノ酸または有機
過酸化物を0.01から10重量部の範囲で用いること
が好ましい。
も100℃の沸点を有する付加重合性化合物100重量
部(高分子量有機重合体を用いる場合には、この付加重
合性化合物と高分子量有機重合体との総量100重量
部)に対して、上記の式〔I〕で表されるナフタロシア
ニン化合物を0.001から2.0重量部、上記の式
〔II〕で表されるs−トリアジン化合物、式〔II
I〕で表されるN−アリール−α−アミノ酸または有機
過酸化物を0.01から10重量部の範囲で用いること
が好ましい。
【0016】本発明になる光重合性組成物は、必要に応
じて1種以上の高分子有機重合体を含有しても良い。高
分子有機重合体は熱可塑性であり、分子量は10,00
0〜700,000を有するものが好ましい。例えば次
のものが用いられる。 (A) コポリエステル 多価アルコール、例えばジエチレングリコール、トリエ
チレングリコール、テトラエチレングリコール、トリメ
チロールプロパン、ナオペンチルグリコール等と多価カ
ルボン酸、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、セパシ
ン酸、アジピン酸等とから製造したコポリエステル (B) ビニルポリマ メタクリル酸、アクリル酸、メタクリル酸またはアクリ
ル酸のアルキルエステル例えばメチル(メタ)アクリレ
ート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)ア
クリレート、β−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、スチレン、ビニルトルエン、ビニルクロライド、ビ
ニルブチラール等のビニル単量体のホモポリマまたはコ
ポリマ (C) ポリホルムアルデヒド (D) ポリウレタン (E) ポリカーボネート (F) ナイロンまたはポリアミド (G) セルロースエステル例えばメチルセルロース、
エチルセルロース
じて1種以上の高分子有機重合体を含有しても良い。高
分子有機重合体は熱可塑性であり、分子量は10,00
0〜700,000を有するものが好ましい。例えば次
のものが用いられる。 (A) コポリエステル 多価アルコール、例えばジエチレングリコール、トリエ
チレングリコール、テトラエチレングリコール、トリメ
チロールプロパン、ナオペンチルグリコール等と多価カ
ルボン酸、例えばテレフタル酸、イソフタル酸、セパシ
ン酸、アジピン酸等とから製造したコポリエステル (B) ビニルポリマ メタクリル酸、アクリル酸、メタクリル酸またはアクリ
ル酸のアルキルエステル例えばメチル(メタ)アクリレ
ート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)ア
クリレート、β−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレー
ト、スチレン、ビニルトルエン、ビニルクロライド、ビ
ニルブチラール等のビニル単量体のホモポリマまたはコ
ポリマ (C) ポリホルムアルデヒド (D) ポリウレタン (E) ポリカーボネート (F) ナイロンまたはポリアミド (G) セルロースエステル例えばメチルセルロース、
エチルセルロース
【0017】光重合性組成物に高分子有機重合体を加え
ることによって基体への接着性、耐薬品性、フィルム性
等の特性を改良することができる。この高分子有機重合
体は、光硬化性の点から該高分子有機重合体と前記の付
加重合性化合物の合計重量を基準として20〜80重量
%の範囲とすることが好ましい。
ることによって基体への接着性、耐薬品性、フィルム性
等の特性を改良することができる。この高分子有機重合
体は、光硬化性の点から該高分子有機重合体と前記の付
加重合性化合物の合計重量を基準として20〜80重量
%の範囲とすることが好ましい。
【0018】本発明になる光重合性組成物は、必要に応
じて染料、顔料等の着色物質を含有してもよい。本発明
になる光重合性組成物は保存時の安定性を高めるために
ラジカル重合禁止剤またはラジカル重合抑制剤を含有し
てもよい。このようなものとしてはp−メトキシフェノ
ール、ハイドロキノン、ピロガロール、ナフチルアミ
ン、フェノチアジン、アリールフォスファイト等があ
る。本発明になる光重合性組成物は光重合性組成物に用
いることが知られている他の添加物、例えば可塑剤、接
着促進剤等の添加物を含有してもよい。
じて染料、顔料等の着色物質を含有してもよい。本発明
になる光重合性組成物は保存時の安定性を高めるために
ラジカル重合禁止剤またはラジカル重合抑制剤を含有し
てもよい。このようなものとしてはp−メトキシフェノ
ール、ハイドロキノン、ピロガロール、ナフチルアミ
ン、フェノチアジン、アリールフォスファイト等があ
る。本発明になる光重合性組成物は光重合性組成物に用
いることが知られている他の添加物、例えば可塑剤、接
着促進剤等の添加物を含有してもよい。
【0019】本発明になる光重合性組成物は印刷工業、
エレクトロニクス、塗料、医療、情報記録、インキなど
光反応に関する幅広い分野に利用出来る。使用される活
性光線源は主に600〜900nmの波長の活性光線を
発生するものが用いられる。このような光源としては水
銀灯、キセノン灯、色素レーザー、ラマンレーザー、半
導体レーザー、クリプトンレーザー等がある。本発明に
なる光重合性組成物はポリエチレンテフタレートフィル
ム等支持体上に塗布乾燥されて基板上にラミネート(積
層)され活性光線に露光されて印刷刷版を製造したり、
エッチング又はメッキにより回路を形成するためのホト
レジストとしても使用できる。支持体としてはポリエチ
レンフイルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレン
テレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフ
ィルム等の有機重合体フィルムが用いられ、基板として
は、銅板、アルミニューム板、鉄板等の金属板及び銅は
くを表面に張った積層板(ガラスエポキシ基材、紙フェ
ノール基材等)等が用いられる。
エレクトロニクス、塗料、医療、情報記録、インキなど
光反応に関する幅広い分野に利用出来る。使用される活
性光線源は主に600〜900nmの波長の活性光線を
発生するものが用いられる。このような光源としては水
銀灯、キセノン灯、色素レーザー、ラマンレーザー、半
導体レーザー、クリプトンレーザー等がある。本発明に
なる光重合性組成物はポリエチレンテフタレートフィル
ム等支持体上に塗布乾燥されて基板上にラミネート(積
層)され活性光線に露光されて印刷刷版を製造したり、
エッチング又はメッキにより回路を形成するためのホト
レジストとしても使用できる。支持体としてはポリエチ
レンフイルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレン
テレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフ
ィルム等の有機重合体フィルムが用いられ、基板として
は、銅板、アルミニューム板、鉄板等の金属板及び銅は
くを表面に張った積層板(ガラスエポキシ基材、紙フェ
ノール基材等)等が用いられる。
【0020】
【作用】本発明になる新規な光開始剤系が可視光及び近
赤外光に対し高い感度を与える理由は上記の式〔I〕で
表されるナフタロシアニン化合物が光を吸収し、この光
エネルギーを何らかの形で上記の式〔II〕で表される
s−トリアジン化合物が受け取り、分解して活性ラジカ
ルを発生するためと考えられるが詳しい機構は未だ明ら
かではない。
赤外光に対し高い感度を与える理由は上記の式〔I〕で
表されるナフタロシアニン化合物が光を吸収し、この光
エネルギーを何らかの形で上記の式〔II〕で表される
s−トリアジン化合物が受け取り、分解して活性ラジカ
ルを発生するためと考えられるが詳しい機構は未だ明ら
かではない。
【0021】
【実施例】本発明の実施例を説明する。ここで、部、%
はそれぞれ重量部、重量%を意味する。 実施例及び比較例 光重合性組成物の調製 アクリルポリマ(メタクリル酸/メチルメタクリレート/ブチル メタクリレート/2−エチルヘキシルアクリレート=23/51 /6/20、重量部比の共重合体、重量平均分子量約90,00 0)の40%エチルセロソルブ溶液 120部 テトラジエチレングリコールジアクリレート 25部 ハイドロキノン 0.04部 光重合開始剤系 (表1に示す配合で) メチルエチルケトン 20部 上記に示す光重合性組成物の成分を撹拌溶解し、23μ
m厚のポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ
(株)社製、商品名「ルミラー」)上にバーコーターを
用いて塗布し80℃の熱風対流式乾燥機で約10分乾燥
して光重合性エレメントを得た。乾燥した光重合性組成
物層の厚さは20μmであった。次にゴムロールで加圧
・加熱して積層するラミネーターを用いて清浄な表面を
有する0.5mm厚のアルミニウム板上に光重合性組成
物層と銅面が接するようにゴムロール温度を80℃とし
て光重合性エレメントを積層した。積層したサンプルの
ポリエチレンテレフタレートフィルム側から、ビーム径
120μm、波長780nm、光出力1.9mWの半導
体レーザーによる静止露光を行った。その後ポリエチレ
ンテレフタレートフィルムを除去し30℃で、1%Na
2CO3水溶液に浸漬することによって未硬化部分を溶出
させて、残膜の直径が0.3mmになるのに必要な照射
時間を調べ、これを感度とした。表に感度の比較を示
す。
はそれぞれ重量部、重量%を意味する。 実施例及び比較例 光重合性組成物の調製 アクリルポリマ(メタクリル酸/メチルメタクリレート/ブチル メタクリレート/2−エチルヘキシルアクリレート=23/51 /6/20、重量部比の共重合体、重量平均分子量約90,00 0)の40%エチルセロソルブ溶液 120部 テトラジエチレングリコールジアクリレート 25部 ハイドロキノン 0.04部 光重合開始剤系 (表1に示す配合で) メチルエチルケトン 20部 上記に示す光重合性組成物の成分を撹拌溶解し、23μ
m厚のポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ
(株)社製、商品名「ルミラー」)上にバーコーターを
用いて塗布し80℃の熱風対流式乾燥機で約10分乾燥
して光重合性エレメントを得た。乾燥した光重合性組成
物層の厚さは20μmであった。次にゴムロールで加圧
・加熱して積層するラミネーターを用いて清浄な表面を
有する0.5mm厚のアルミニウム板上に光重合性組成
物層と銅面が接するようにゴムロール温度を80℃とし
て光重合性エレメントを積層した。積層したサンプルの
ポリエチレンテレフタレートフィルム側から、ビーム径
120μm、波長780nm、光出力1.9mWの半導
体レーザーによる静止露光を行った。その後ポリエチレ
ンテレフタレートフィルムを除去し30℃で、1%Na
2CO3水溶液に浸漬することによって未硬化部分を溶出
させて、残膜の直径が0.3mmになるのに必要な照射
時間を調べ、これを感度とした。表に感度の比較を示
す。
【0022】
【表1】
【0023】
【発明の効果】本発明により、近赤外光に高い感度を示
す光開始剤、光開始剤系および光重合性組成物が得られ
る。
す光開始剤、光開始剤系および光重合性組成物が得られ
る。
Claims (6)
- 【請求項1】 下記式〔I〕で表されるナフタロシアニ
ン化合物 【化1】 (式中MはH2、金属又は半金属を示し、Yは置換基又
は配位子を示し、MがH2の場合はn=0であり、Mが
金属又は半金属の場合には、n=0、1又は2であり、
n=2の場合、2個のYは同一でも相違してもよく、A
1、A2、A3及びA4で表わされる環は置換基が結合して
もよいナフタレン環を示し、置換基は同一でも相違して
もよい)を含有してなる光開始剤。 - 【請求項2】 請求項1記載のナフタロシアニン化合物
ならびに(2)下記式〔II〕で表されるs−トリアジ
ン化合物 【化2】 (式中R1、R2及びR3は置換基を示し、その少なくと
も1つはトリハロメチル基とされ、R1、R2及びR3は
同一でも相違してもよい)を含有してなる光開始剤系。 - 【請求項3】 請求項1記載のナフタロシアニン化合物
ならびに下記式〔III〕で表わされるN−アリール−
α−アミノ酸 【化3】 (式中R4、R5、R6、R7およびR8はそれぞれ独立に
水素原子、炭素数が1〜12のアルキル基またはハロゲ
ン原子であり、R9は水素原子、炭素数が1〜12のア
ルキル基、シクロアルキル基、炭素数が1〜12のヒド
ロキシアルキル基、炭素数が2〜12のアルコキシアル
キル基、炭素数が1〜12のアミノアルキル基またはア
リール基であり、R10およびR11はそれぞれ独立に水素
原子または炭素数が1〜8のアルキル基である。)を含
有してなる光開始剤系。 - 【請求項4】 請求項1記載のナフタロシアニン化合物
および有機過酸化物を含有してなる光開始剤系。 - 【請求項5】 請求項1記載の光開始剤または請求項2
〜4のいずれかに記載の光開始剤系ならびに常圧におい
て少なくとも100℃の沸点を有する付加重合性化合物
を含有してなる光重合性組成物。 - 【請求項6】 請求項1記載の光開始剤または請求項2
〜4のいずれかに記載の光開始剤系、常圧において少な
くとも100℃の沸点を有する付加重合性化合物ならび
に高分子有機重合体を含有し、高分子有機重合体を高分
子有機重合体と付加重合性化合物の合計重量を基準とし
て20〜80重量%とした光重合性組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10989792A JP3399974B2 (ja) | 1992-04-28 | 1992-04-28 | 新規な光開始剤、光開始剤系及びこれを用いた光重合性組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10989792A JP3399974B2 (ja) | 1992-04-28 | 1992-04-28 | 新規な光開始剤、光開始剤系及びこれを用いた光重合性組成物 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002334950A Division JP3781001B2 (ja) | 2002-11-19 | 2002-11-19 | 新規な光開始剤系及びそれを用いた光重合性組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05301910A true JPH05301910A (ja) | 1993-11-16 |
| JP3399974B2 JP3399974B2 (ja) | 2003-04-28 |
Family
ID=14521936
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10989792A Expired - Fee Related JP3399974B2 (ja) | 1992-04-28 | 1992-04-28 | 新規な光開始剤、光開始剤系及びこれを用いた光重合性組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3399974B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2009041253A1 (ja) * | 2007-09-26 | 2009-04-02 | Fujifilm Corporation | 新規な光重合開始剤、それを用いた顔料分散組成物、着色光硬化性組成物、およびカラーフィルタ |
| WO2011104127A1 (en) | 2010-02-24 | 2011-09-01 | Basf Se | Latent acids and their use |
| WO2016124493A1 (en) | 2015-02-02 | 2016-08-11 | Basf Se | Latent acids and their use |
| DE10015255B4 (de) | 1999-03-31 | 2020-06-04 | Ciba Holding Inc. | Verfahren zur Herstellung von Oximderivaten und ihre Verwendung als latente Säuren in chemisch verstärkten Photoresistzusammensetzungen, sowie Verfahren zur Herstellung eines Photoresists |
-
1992
- 1992-04-28 JP JP10989792A patent/JP3399974B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE10015255B4 (de) | 1999-03-31 | 2020-06-04 | Ciba Holding Inc. | Verfahren zur Herstellung von Oximderivaten und ihre Verwendung als latente Säuren in chemisch verstärkten Photoresistzusammensetzungen, sowie Verfahren zur Herstellung eines Photoresists |
| WO2009041253A1 (ja) * | 2007-09-26 | 2009-04-02 | Fujifilm Corporation | 新規な光重合開始剤、それを用いた顔料分散組成物、着色光硬化性組成物、およびカラーフィルタ |
| JP2009079150A (ja) * | 2007-09-26 | 2009-04-16 | Fujifilm Corp | 新規な光重合開始剤、それを用いた顔料分散組成物、着色光硬化性組成物、およびカラーフィルタ |
| WO2011104127A1 (en) | 2010-02-24 | 2011-09-01 | Basf Se | Latent acids and their use |
| WO2016124493A1 (en) | 2015-02-02 | 2016-08-11 | Basf Se | Latent acids and their use |
| US9994538B2 (en) | 2015-02-02 | 2018-06-12 | Basf Se | Latent acids and their use |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3399974B2 (ja) | 2003-04-28 |
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|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |