JPH05302064A - 電気絶縁用樹脂組成物及びエナメル線 - Google Patents
電気絶縁用樹脂組成物及びエナメル線Info
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- JPH05302064A JPH05302064A JP10712292A JP10712292A JPH05302064A JP H05302064 A JPH05302064 A JP H05302064A JP 10712292 A JP10712292 A JP 10712292A JP 10712292 A JP10712292 A JP 10712292A JP H05302064 A JPH05302064 A JP H05302064A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 潤滑性及び耐摩耗性に優れ、かつ高温高速焼
付時の性能の低下のない自己潤滑性皮膜を形成すること
ができる電気絶縁用樹脂組成物及びこれを用いたエナメ
ル線を提供する。 【構成】 芳香族ジイシアネート、ラクタム及び酸無水
物基を有するポリカルボン酸を、ラクタムを全イソシア
ネート当量の20〜90当量%の範囲としてクレゾール
系溶媒の存在下で反応させて得られるクレゾール系溶媒
に可溶なポリアミドイミド樹脂100重量部に対して、
(A)部分ケン化エステルワックス0.1〜10重量部
及び(B)数平均分子量5,000以下の低分子量ポリ
エチレン0.1〜10重量部を含有してなる潤滑性及び
耐摩耗性に優れた電気絶縁用樹脂組成物。
付時の性能の低下のない自己潤滑性皮膜を形成すること
ができる電気絶縁用樹脂組成物及びこれを用いたエナメ
ル線を提供する。 【構成】 芳香族ジイシアネート、ラクタム及び酸無水
物基を有するポリカルボン酸を、ラクタムを全イソシア
ネート当量の20〜90当量%の範囲としてクレゾール
系溶媒の存在下で反応させて得られるクレゾール系溶媒
に可溶なポリアミドイミド樹脂100重量部に対して、
(A)部分ケン化エステルワックス0.1〜10重量部
及び(B)数平均分子量5,000以下の低分子量ポリ
エチレン0.1〜10重量部を含有してなる潤滑性及び
耐摩耗性に優れた電気絶縁用樹脂組成物。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電気絶縁用樹脂組成物
及びエナメル線に関する。
及びエナメル線に関する。
【0002】
【従来の技術】ポリアミドイミドワニスは、優れた耐熱
性、耐加水分解性、耐溶剤性等を有するため、エナメル
線用絶縁材料として広く使用されている。一方で、エナ
メル線を使用する電気機器メーカでは、機器の製造工程
の合理化のため自動高速巻線機を導入しているが、巻線
加工時にエナメル線が摩擦や衝撃等を受け、エナメル線
の絶縁層が機械的損傷を受けてレアーショートやアース
不良を生じ、製品の不良率が増加するという問題が発生
している。以上の背景から、得られるエナメル線の機械
的損傷の少ない潤滑性の優れたポリアミドイミドワニス
が強く要望されている。
性、耐加水分解性、耐溶剤性等を有するため、エナメル
線用絶縁材料として広く使用されている。一方で、エナ
メル線を使用する電気機器メーカでは、機器の製造工程
の合理化のため自動高速巻線機を導入しているが、巻線
加工時にエナメル線が摩擦や衝撃等を受け、エナメル線
の絶縁層が機械的損傷を受けてレアーショートやアース
不良を生じ、製品の不良率が増加するという問題が発生
している。以上の背景から、得られるエナメル線の機械
的損傷の少ない潤滑性の優れたポリアミドイミドワニス
が強く要望されている。
【0003】本発明者らは、潤滑性の優れたポリアミド
イミドワニスの開発を検討し、N−メチル−2−ピロリ
ドンには可溶であるがクレゾール系溶媒には不溶である
一般的なポリアミドイミドワニスに部分ケン化エステル
ワックス及び数平均分子量5,000以下の低分子量ポ
リエチレンを添加することにより潤滑性の優れたポリア
ミドイミドワニスを得たが、このワニスは、低温低速で
導体に焼き付けてエナメル線にする場合は優れた潤滑性
を示すものの、高温高速で導体に焼き付けてエナメル線
にする場合は、滑剤が塗膜表面に浮き出ず潤滑性に劣る
という問題があった。
イミドワニスの開発を検討し、N−メチル−2−ピロリ
ドンには可溶であるがクレゾール系溶媒には不溶である
一般的なポリアミドイミドワニスに部分ケン化エステル
ワックス及び数平均分子量5,000以下の低分子量ポ
リエチレンを添加することにより潤滑性の優れたポリア
ミドイミドワニスを得たが、このワニスは、低温低速で
導体に焼き付けてエナメル線にする場合は優れた潤滑性
を示すものの、高温高速で導体に焼き付けてエナメル線
にする場合は、滑剤が塗膜表面に浮き出ず潤滑性に劣る
という問題があった。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記の従来
技術の欠点を解決し、高温高速で導体に焼き付けてエナ
メル線にする場合にも潤滑性の低下のないポリアミドイ
ミド系の自己潤滑性電気絶縁用樹脂組成物及びこれを用
いたエナメル線を提供するものである。
技術の欠点を解決し、高温高速で導体に焼き付けてエナ
メル線にする場合にも潤滑性の低下のないポリアミドイ
ミド系の自己潤滑性電気絶縁用樹脂組成物及びこれを用
いたエナメル線を提供するものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
に鑑み鋭意検討した結果、特定のポリアミドイミド樹脂
と部分ケン化エステルワックス及び数平均分子量5,0
00以下の低分子量ポリエチレンを配合した電気絶縁用
樹脂組成物が高温高速で導体に焼き付けてエナメル線に
する場合にも潤滑性の低下がなく、またその他の諸特性
も良好であることを見い出し、本発明にいたった。
に鑑み鋭意検討した結果、特定のポリアミドイミド樹脂
と部分ケン化エステルワックス及び数平均分子量5,0
00以下の低分子量ポリエチレンを配合した電気絶縁用
樹脂組成物が高温高速で導体に焼き付けてエナメル線に
する場合にも潤滑性の低下がなく、またその他の諸特性
も良好であることを見い出し、本発明にいたった。
【0006】すなわち、本発明は、芳香族ジイソシアネ
ート、ラクタム及び酸無水物基を有するポリカルボン酸
を、ラクタムを全イソシアネート当量の20〜90当量
%の範囲としてクレゾール系溶媒の存在下で反応させて
得られるクレゾール系溶媒に可溶なポリアミドイミド樹
脂100重量部に対して(A)部分ケン化エステルワッ
クス0.1〜10重量部及び(B)数平均分子量5,0
00以下の低分子量ポリエチレン0.1〜10重量部を
含有してなる電気絶縁用組成物及びこれを導体上に直接
又は他の絶縁物を介して塗布、焼付けてなるエナメル線
に関する。
ート、ラクタム及び酸無水物基を有するポリカルボン酸
を、ラクタムを全イソシアネート当量の20〜90当量
%の範囲としてクレゾール系溶媒の存在下で反応させて
得られるクレゾール系溶媒に可溶なポリアミドイミド樹
脂100重量部に対して(A)部分ケン化エステルワッ
クス0.1〜10重量部及び(B)数平均分子量5,0
00以下の低分子量ポリエチレン0.1〜10重量部を
含有してなる電気絶縁用組成物及びこれを導体上に直接
又は他の絶縁物を介して塗布、焼付けてなるエナメル線
に関する。
【0007】本発明のポリアミドイミド樹脂に使用され
る芳香族ジイソシアネートとしては、4,4′−ジフェ
ニルメタンジイソシアネート、4,4′−ジフェニルエ
ーテルジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、
キシリレンジイソシアネートなどが好ましい。これらの
芳香族ジイソシアネートは二種以上を組み合わせて使用
してもよく、また芳香族ジイソシアネート以外のイソシ
アネート成分、例えばトリレンジイソシアネート、4,
4′−ジフェニルメタンジイソシアネート等の三量体な
どの3価以上のイソシアネートを一部併用してもよい。
る芳香族ジイソシアネートとしては、4,4′−ジフェ
ニルメタンジイソシアネート、4,4′−ジフェニルエ
ーテルジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、
キシリレンジイソシアネートなどが好ましい。これらの
芳香族ジイソシアネートは二種以上を組み合わせて使用
してもよく、また芳香族ジイソシアネート以外のイソシ
アネート成分、例えばトリレンジイソシアネート、4,
4′−ジフェニルメタンジイソシアネート等の三量体な
どの3価以上のイソシアネートを一部併用してもよい。
【0008】本発明のポリアミドイミド樹脂に使用され
るラクタムとしては、一般的にはクレゾール系溶媒中で
イソシアネート又は酸無水物基と反応して可溶なもので
あれば何でもよいが、溶解性、反応性及びコスト面を考
慮すればε−カプロラクタムが好ましい。ラクタムの使
用量は、耐熱性、可とう性及び樹脂のクレゾール系溶剤
に対する溶解性から全イソシアネート当量の20〜90
当量%とする。使用量がこの範囲より小であれば樹脂の
溶解性が低下し、大であれば耐熱性が低下する。
るラクタムとしては、一般的にはクレゾール系溶媒中で
イソシアネート又は酸無水物基と反応して可溶なもので
あれば何でもよいが、溶解性、反応性及びコスト面を考
慮すればε−カプロラクタムが好ましい。ラクタムの使
用量は、耐熱性、可とう性及び樹脂のクレゾール系溶剤
に対する溶解性から全イソシアネート当量の20〜90
当量%とする。使用量がこの範囲より小であれば樹脂の
溶解性が低下し、大であれば耐熱性が低下する。
【0009】本発明のポリアミドイミド樹脂に使用され
る酸無水物基を有するポリカルボン酸としてはトリメリ
ット酸無水物などのようなイソシアネート基と反応する
酸無水物基を有するカルボン酸であればよく特に制限は
ない。必要に応じて酸無水物基を有するカルボン酸の一
部をピロメリット酸二無水物、ブタンテトカルボン酸二
無水物、ビシクロ−〔2,2,2〕−オクト−(7)−
エン−2:3、5:6−テトラカルボン酸二無水物等の
カルボン酸二無水物、テレフタル酸、イソフタル酸、ア
ジピン酸、セバシン酸等の芳香族又は脂肪族二塩基酸に
おきかえてもよい。
る酸無水物基を有するポリカルボン酸としてはトリメリ
ット酸無水物などのようなイソシアネート基と反応する
酸無水物基を有するカルボン酸であればよく特に制限は
ない。必要に応じて酸無水物基を有するカルボン酸の一
部をピロメリット酸二無水物、ブタンテトカルボン酸二
無水物、ビシクロ−〔2,2,2〕−オクト−(7)−
エン−2:3、5:6−テトラカルボン酸二無水物等の
カルボン酸二無水物、テレフタル酸、イソフタル酸、ア
ジピン酸、セバシン酸等の芳香族又は脂肪族二塩基酸に
おきかえてもよい。
【0010】イソシアネート成分と酸成分の使用量は、
耐熱性の点から、カルボキシル基及び酸無水物基に対す
るイソシアネート基の当量比が0.90〜1.20にな
るように選定するのが好ましい。
耐熱性の点から、カルボキシル基及び酸無水物基に対す
るイソシアネート基の当量比が0.90〜1.20にな
るように選定するのが好ましい。
【0011】反応は全ての原料を同時に仕込んでも、分
けて仕込んでもよく特に制限はない。反応温度は190
〜220℃が好ましく、反応の進行状態は発生する炭酸
ガスの気泡及び溶液の粘度を観測することで把握可能で
ある。
けて仕込んでもよく特に制限はない。反応温度は190
〜220℃が好ましく、反応の進行状態は発生する炭酸
ガスの気泡及び溶液の粘度を観測することで把握可能で
ある。
【0012】クレゾール系溶媒としてはクレゾール、フ
ェノール、キシレノール等が使用でき、混合溶媒でもよ
い。合成溶媒の一部には高沸点の芳香族有機溶媒、例え
ばキシレン、日石ハイゾール100、150(日本石油
化学製)、セロソルブアセテート等も使用できる。
ェノール、キシレノール等が使用でき、混合溶媒でもよ
い。合成溶媒の一部には高沸点の芳香族有機溶媒、例え
ばキシレン、日石ハイゾール100、150(日本石油
化学製)、セロソルブアセテート等も使用できる。
【0013】このようにして得られたポリアミドイミド
樹脂は、例えばさらに上記のクレゾール系溶媒、キシレ
ン、ハイゾール100等で樹脂分20〜40重量%に希
釈されて電気絶縁用組成物として用いられる。
樹脂は、例えばさらに上記のクレゾール系溶媒、キシレ
ン、ハイゾール100等で樹脂分20〜40重量%に希
釈されて電気絶縁用組成物として用いられる。
【0014】本発明に用いられる部分ケン化エステルワ
ックス(B)としては、例えば式(1)で表わされる化
合物及びその誘導体があげられる。
ックス(B)としては、例えば式(1)で表わされる化
合物及びその誘導体があげられる。
【0015】
【化1】 (R及びR′は炭素数28〜32の炭化水素基を示す)
【0016】製品例としては、例えばヘキストワツクス
OP、ヘキストワックスX55、ヘキストワックスO、
ヘキストワックスOM、ヘキストワックスFL(いずれ
もヘキストジャパン社製)などがあげられる。部分ケン
化エステルワックスの使用量はポリアミドイミド樹脂1
00重量部に対して0.1〜10重量部、好ましくは
0.2〜5重量部である。使用量が0.1重量部未満で
は潤滑性の効果が劣り、10重量部を超えるエナメル線
の外観が劣る。
OP、ヘキストワックスX55、ヘキストワックスO、
ヘキストワックスOM、ヘキストワックスFL(いずれ
もヘキストジャパン社製)などがあげられる。部分ケン
化エステルワックスの使用量はポリアミドイミド樹脂1
00重量部に対して0.1〜10重量部、好ましくは
0.2〜5重量部である。使用量が0.1重量部未満で
は潤滑性の効果が劣り、10重量部を超えるエナメル線
の外観が劣る。
【0017】本発明に用いられる低分子量ポリエチレン
(C)としては、数平均分子量が5,000以下、好ま
しくは1,000〜4,000のものであれば特に制限
はない。数平均分子量が5,000を超えると分散性に
劣りエナメル線の外観が低下する。製品例としては、ヘ
キストワックスPE520(ヘキストジャパン社製)な
どがあげられる。
(C)としては、数平均分子量が5,000以下、好ま
しくは1,000〜4,000のものであれば特に制限
はない。数平均分子量が5,000を超えると分散性に
劣りエナメル線の外観が低下する。製品例としては、ヘ
キストワックスPE520(ヘキストジャパン社製)な
どがあげられる。
【0018】低分子量ポリエチレンの使用量は、上記の
ポリアミドイミド樹脂固形分100重量部に対して0.
1〜10重量部、好ましくは0.2〜5重量部である。
使用量が0.1重量部未満では潤滑性の効果がなく、1
0重量部を超えるとエナメル線の外観が低下する。
ポリアミドイミド樹脂固形分100重量部に対して0.
1〜10重量部、好ましくは0.2〜5重量部である。
使用量が0.1重量部未満では潤滑性の効果がなく、1
0重量部を超えるとエナメル線の外観が低下する。
【0019】上記部分ケン化エステルワックス(A)又
は数平均分子量5,000以下の低分子量ポリエチレン
(B)を単独で配合すると塗料への分散が不均一とな
り、エナメル線の外観が低下する。
は数平均分子量5,000以下の低分子量ポリエチレン
(B)を単独で配合すると塗料への分散が不均一とな
り、エナメル線の外観が低下する。
【0020】上記のポリアミドイミド樹脂に上記ワック
ス類((A)及び(B))を添加する方法には特に制限
はないが、ワックス類の分散を維持するために、60℃
以下の温度で添加するのが好ましい。
ス類((A)及び(B))を添加する方法には特に制限
はないが、ワックス類の分散を維持するために、60℃
以下の温度で添加するのが好ましい。
【0021】本発明になる電気絶縁用樹脂組成物には、
添加剤として各種熱硬化樹脂、例えばエポキシ樹脂、メ
ラミン樹脂、フェノール樹脂を使用してもよいし、分散
安定剤として微粉末シリカ、有機ベントナイト等を使用
してもよい。
添加剤として各種熱硬化樹脂、例えばエポキシ樹脂、メ
ラミン樹脂、フェノール樹脂を使用してもよいし、分散
安定剤として微粉末シリカ、有機ベントナイト等を使用
してもよい。
【0022】上記のようにして得られる電気絶縁用樹脂
組成物は、直接もしくは他の絶縁物を介して導体上に塗
布焼付けて潤滑性、耐摩耗性及び耐熱性に優れたエナメ
ル線とされる。
組成物は、直接もしくは他の絶縁物を介して導体上に塗
布焼付けて潤滑性、耐摩耗性及び耐熱性に優れたエナメ
ル線とされる。
【0023】本発明の電気絶縁用樹脂組成物は、焼付時
の塗膜表面へのワツクスの浮き上がり性が良好であり高
温高速で焼付けされる場合にも潤滑性の低下がないこと
が特長である。
の塗膜表面へのワツクスの浮き上がり性が良好であり高
温高速で焼付けされる場合にも潤滑性の低下がないこと
が特長である。
【0024】
【実施例】以下、本発明を実施例によりさらに詳しく説
明する。 比較例1 成 分 グラム g当量 ジフェニルメタンジイソシアネート 255 2.04 トリメリット酸無水物 192 2.00 N−メチル−2−ピロリドン 560 − 上記成分を、温度計、かきまぜ機をつけた4つロフラス
コに入れ、窒素気流中で130℃に昇温し2時間保温
し、数平均分子量15,300のポリアミドイミド樹脂
を得た。さらにN−メチル−2−ピロリドン200g、
キシレン80gを添加してから温度を40℃に低下し、
不揮発分(重量%、200℃−2h)32、粘度(ポア
ズ、30℃)12の電気絶縁用樹脂組成物を得た。
明する。 比較例1 成 分 グラム g当量 ジフェニルメタンジイソシアネート 255 2.04 トリメリット酸無水物 192 2.00 N−メチル−2−ピロリドン 560 − 上記成分を、温度計、かきまぜ機をつけた4つロフラス
コに入れ、窒素気流中で130℃に昇温し2時間保温
し、数平均分子量15,300のポリアミドイミド樹脂
を得た。さらにN−メチル−2−ピロリドン200g、
キシレン80gを添加してから温度を40℃に低下し、
不揮発分(重量%、200℃−2h)32、粘度(ポア
ズ、30℃)12の電気絶縁用樹脂組成物を得た。
【0025】比較例2 (1)ワックス分散液の作製 キシレン320gにヘキストワックスOP(部分ケン化
エステルワックス、ヘキストジャパン社製)80g及び
ヘキストワックスPE520(低分子量ポリエチレン、
数平均分子量2,000、ヘキストジャパン社製)80
gを加えて120℃で加熱溶解し、これをキシレン1,
120g中に急激撹拌しながら添加する。このようにし
て不揮発分(重量%、120℃−1h)10のワックス
分散液を得た。 (2)電気絶縁用樹脂組成物 比較例1で得られた不揮発分(重量%、200℃−2
h)32の電気絶縁用樹脂組成物500gに、比較例2
(1)で得られた不揮発分(重量%、120℃−1h)
10のワックス分散液32gを添加して室温で1時間撹
拌し、電気絶縁用樹脂組成物を得た。
エステルワックス、ヘキストジャパン社製)80g及び
ヘキストワックスPE520(低分子量ポリエチレン、
数平均分子量2,000、ヘキストジャパン社製)80
gを加えて120℃で加熱溶解し、これをキシレン1,
120g中に急激撹拌しながら添加する。このようにし
て不揮発分(重量%、120℃−1h)10のワックス
分散液を得た。 (2)電気絶縁用樹脂組成物 比較例1で得られた不揮発分(重量%、200℃−2
h)32の電気絶縁用樹脂組成物500gに、比較例2
(1)で得られた不揮発分(重量%、120℃−1h)
10のワックス分散液32gを添加して室温で1時間撹
拌し、電気絶縁用樹脂組成物を得た。
【0026】実施例1 成 分 グラム g当量 ジフェニルメタンジイソシアネート 255 2.04 トリメリット酸無水物 172.8 1.80 イソフタル酸 16.6 0.20 ε−カプロラクタム 45.2 1.60 クレゾール 904 − 上記成分を、温度計、かきまぜ機をつけた4つロフラス
コに入れ、窒素気流中で210℃に昇温し20時間保温
し、数平均分子量12,800のポリアミドイミド樹脂
を得た。さらにクレゾール200g、キシレン300g
を添加してから温度を40℃に低下し、さらに比較例2
(1)で得られたワックス分散液50gを添加して1時
間撹拌し、電気絶縁用樹脂組成物を得た。
コに入れ、窒素気流中で210℃に昇温し20時間保温
し、数平均分子量12,800のポリアミドイミド樹脂
を得た。さらにクレゾール200g、キシレン300g
を添加してから温度を40℃に低下し、さらに比較例2
(1)で得られたワックス分散液50gを添加して1時
間撹拌し、電気絶縁用樹脂組成物を得た。
【0027】実施例2 成 分 グラム g当量 ジフェニルメタンジイソシアネート 237.5 1.90 デスモジュール−CTステーブル 40.0 0.10 (住友バイエル社製、TDIの3量体のクレゾール類ブロック体) トリメリット酸無水物 192.0 2.00 ε−カプロラクタム 56.5 1.00 クレゾール 974.0 − 上記成分を、温度計、かきまぜ機をつけた4つ口フラス
コに入れ、窒素気流中で210℃に昇温し15時間保温
し、数平均分子量11,800のポリアミドイミド樹脂
を得た。さらにクレゾール180g、キシレン300g
を添加してから温度を30℃に低下し、さらに比較例2
(1)で得られたワックス分散液60g、ML−20
(ブチル化メラミン樹脂、日立化成工業(株)製)15
gを添加して1時間撹拌し、電気絶縁用樹脂組成物を得
た。
コに入れ、窒素気流中で210℃に昇温し15時間保温
し、数平均分子量11,800のポリアミドイミド樹脂
を得た。さらにクレゾール180g、キシレン300g
を添加してから温度を30℃に低下し、さらに比較例2
(1)で得られたワックス分散液60g、ML−20
(ブチル化メラミン樹脂、日立化成工業(株)製)15
gを添加して1時間撹拌し、電気絶縁用樹脂組成物を得
た。
【0028】実施例1〜2及び比較例2で得られた電気
絶縁用樹脂組成物を用いて下記に示す焼付条件に従って
直径1.0mmの銅線に塗布、焼付を行い、エナメル線
を作製した。 塗装方法:下地 HI−406(日立化成工業(株)製
ポリアミドイミドワニス)ダイス6回 上地 各実施例または比較例で得た電気絶縁用 ダイス
2回樹脂組成物 焼付条件:焼付炉:熱風式竪炉(炉長5.5m) 炉温:入口/出口=340/480℃ 線速:14m/分 得られたエナメル線の特性を表1に示す。なお、エナメ
ル線の一般特性はJISC 3003に準じて測定し、
静摩擦係数は東洋精機社製の電線滑り試験器を用いて測
定した。
絶縁用樹脂組成物を用いて下記に示す焼付条件に従って
直径1.0mmの銅線に塗布、焼付を行い、エナメル線
を作製した。 塗装方法:下地 HI−406(日立化成工業(株)製
ポリアミドイミドワニス)ダイス6回 上地 各実施例または比較例で得た電気絶縁用 ダイス
2回樹脂組成物 焼付条件:焼付炉:熱風式竪炉(炉長5.5m) 炉温:入口/出口=340/480℃ 線速:14m/分 得られたエナメル線の特性を表1に示す。なお、エナメ
ル線の一般特性はJISC 3003に準じて測定し、
静摩擦係数は東洋精機社製の電線滑り試験器を用いて測
定した。
【0029】
【表1】
【0030】表1から明らかなように、本発明になる電
気絶縁用樹脂組成物から得られるエナメル線は、高温高
速で焼き付けた場合でも、優れた潤滑性と耐摩耗性を示
す。
気絶縁用樹脂組成物から得られるエナメル線は、高温高
速で焼き付けた場合でも、優れた潤滑性と耐摩耗性を示
す。
【0031】
【発明の効果】本発明の電気絶縁用樹脂組成物によれ
ば、潤滑性及び耐摩耗性に優れるとともに高温高速焼付
時にも性能の低下がなく、経済性に優れたエナメル線を
製造することができ、工業的に有用である。
ば、潤滑性及び耐摩耗性に優れるとともに高温高速焼付
時にも性能の低下がなく、経済性に優れたエナメル線を
製造することができ、工業的に有用である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 岡田 泰典 茨城県日立市東町四丁目13番1号 日立化 成工業株式会社山崎工場内
Claims (3)
- 【請求項1】 芳香族ジイソシアネート、ラクタム及び
酸無水物基を有するポリカルボン酸を、ラクタムを全イ
ソシアネート当量の20〜90当量%の範囲としてクレ
ゾール系溶媒の存在下で反応させて得られるクレゾール
系溶媒に可溶なポリアミドイミド樹脂100重量部に対
して(A)部分ケン化エステルワックス0.1〜10重
量部及び(B)数平均分子量5,000以下の低分子量
ポリエチレン0.1〜10重量部を含有してなる電気絶
縁用組成物。 - 【請求項2】 酸無水物基を有するポリカルボン酸がト
リメリット酸無水物である請求項1記載の電気絶縁用組
成物。 - 【請求項3】 請求項1又は2記載の電気絶縁用樹脂組
成物を導体上に直接又は他の絶縁物を介して塗布、焼付
けてなるエナメル線。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10712292A JPH05302064A (ja) | 1992-04-27 | 1992-04-27 | 電気絶縁用樹脂組成物及びエナメル線 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10712292A JPH05302064A (ja) | 1992-04-27 | 1992-04-27 | 電気絶縁用樹脂組成物及びエナメル線 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05302064A true JPH05302064A (ja) | 1993-11-16 |
Family
ID=14451053
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10712292A Pending JPH05302064A (ja) | 1992-04-27 | 1992-04-27 | 電気絶縁用樹脂組成物及びエナメル線 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05302064A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004506796A (ja) * | 2000-08-25 | 2004-03-04 | シェネックタディ インターナショナル インコーポレイテッド | ポリアミド−イミド樹脂溶液及びワイヤエナメルを製造するためのその使用 |
-
1992
- 1992-04-27 JP JP10712292A patent/JPH05302064A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2004506796A (ja) * | 2000-08-25 | 2004-03-04 | シェネックタディ インターナショナル インコーポレイテッド | ポリアミド−イミド樹脂溶液及びワイヤエナメルを製造するためのその使用 |
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