JPH05305996A - 瓶あるいは類似の容器に液状充填製品を充填する方法とこの方法を実施する装置 - Google Patents

瓶あるいは類似の容器に液状充填製品を充填する方法とこの方法を実施する装置

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JPH05305996A
JPH05305996A JP4276355A JP27635592A JPH05305996A JP H05305996 A JPH05305996 A JP H05305996A JP 4276355 A JP4276355 A JP 4276355A JP 27635592 A JP27635592 A JP 27635592A JP H05305996 A JPH05305996 A JP H05305996A
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JP
Japan
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filling
container
control valve
gas
gas passage
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JP4276355A
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Ludwig Cluesserath
ルートウイツヒ・クリユツセラート
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SEITZ ENZINGER NOLL MAS AG
Seitz Enzinger Noll Maschinenbau AG
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SEITZ ENZINGER NOLL MAS AG
Seitz Enzinger Noll Maschinenbau AG
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 微生物の混入のない、液状充填品を瓶等の容
器に充填する方法と装置を提供する。 【構成】 充填期間に先行する添加期間に、不活性ガス
で容器を洗浄し、不活性ガスを容器に添加する。洗浄と
少なくとも部分的な添加には、戻りガス通路の戻りガス
が使用される。戻りガスをできる限り微生物のない状態
に維持するため、容器は添加期間に先行する予備処理期
間に滅菌媒体で処理される。更に、滅菌期間あるいは添
加期間には、排除される空気や排除される滅菌媒体が大
気あるいは戻りガス通路から分離した通路に排出され
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、充填部材と気密位置
にある容器を不活性ガスを使用する添加期間に洗浄し、
添加し、時間的に次の充填期間で液体弁を開けた時、液
状充填品で満たし、少なくとも時々、導入する充填品に
よって容器から排除される戻りガスが充填部材の戻りガ
ス通路を経由して戻りガス通路に排出され、添加期間で
容器の洗浄と少なくとも時々添加が不活性ガスとしての
戻りガス通路からの戻りガスを使用して行われる、液体
弁を有する充填部材を使用して液状充填品を瓶等の容器
に充填する方法およびこの方法を実行する装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】液体、特に炭酸を含む充填製品を負圧で
瓶あるいは類似の容器に詰めるこのような方法および付
属する装置は公知である（欧州特許第 0 331 137号明細
書）。そこでは、洗浄のためおよび各容器に部分的に予
備負荷を加える予備負荷期間に不活性ガスあるいは CO2
ガスの消費を低減するため、充填機械の戻りガス通路か
らの戻りガスを使用することも提案されている。この公
知の方法では、あるいはこの公知の装置では、特に傷み
やすく、腐りやすい充填品の時に努める品質と保存性は
充分な信頼性をもって得られていない。つまり、戻りガ
ス通路の戻りガスに細菌があるためにそうなる。
【０００３】更に、基本的にはそれぞれの容器が予備添
加期間の前に滅菌媒体で処理されることも公知である
（ドイツ特許第 38 09 852号明細書）。この場合、上記
処理はもちろん専ら無菌ないしは滅菌状態で液状充填品
を詰めるのに使用され、各容器はこれに対して封止位置
なしに閉じたベル形の充填部材を用いて受け止められ、
このベル形の内部空間には、先ず滅菌媒体が、次いで充
填時に不活性ガスの圧力あるいは滅菌空気が添加され
る。ベル形の体積によって不活性ガスあるいは滅菌空気
に不利な大きな消費が生じる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】この発明の課題は、傷
みやすい充填品の場合でも、不活性ガスを節約する利点
を維持して、詰めた充填品の高品質と長寿命を達成でき
る、冒頭に述べた種類の方法および装置を提供すること
にある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記の課題は、この発明
により、冒頭に述べた種類の方法の場合、容器（１２）
の内部空間が添加期間の前の予備処理期間で滅菌媒体、
主に水蒸気で処理され、その場合、滅菌媒体によって容
器（１２）の内部空間から排除された空気および添加期
間で洗浄時に容器（１２）の内部空間から排除された滅
菌媒体が大気や戻りガス通路（３１，７４）から分離し
た通路に排出されることによって解決されている。
【０００６】更に、上記の課題は、この発明により、冒
頭に述べた種類の装置の場合、滅菌媒体、主に水蒸気の
源（３３，７５）が設けてあり、弁制御部（１６，１
７，２０，９１；７０，７１，７３）を経由して、容器
（１２）の内部空間に添加期間に先行する予備処理期間
で滅菌媒体を導入でき、その場合、滅菌媒体によって容
器（１２）の内部空間から排除された空気、および添加
期間に洗浄で容器（１２）の内部空間から排除された滅
菌媒体も排出部を経由して大気や戻りガス通路（３１，
７４）とは分離した通路に排出されることによって解決
されている。
【０００７】この発明による他の有利な構成は、特許請
求の範囲の従属請求項に記載されている。
【０００８】
【作用】この発明による方法でも、予備添加期間中の各
容器の洗浄と部分的な予備添加は戻りガス通路からの戻
りガスを直接利用して行われる。このことは、この発明
の方式により詰めた充填品の高品質と保存性に努めて
も、これ等の容器が予備添加期間に少なくとも内面で充
分滅菌され、同時に専ら戻りガスが戻りガス通路に導入
され、予備処理期間に各容器から滅菌媒体によって排除
される空気も、予備添加期間に容器を洗浄する場合に排
除される滅菌媒体も、戻りガス通路に導入されることが
ないようにもされる。むしろ、排除する空気と排除され
た滅菌媒体が大気に、あるいは戻りガス通路から完全に
分離した通路に排出されることが必要である。
【０００９】この発明では、戻りガス通路の戻りガスが
単に確実な微生物状態を有する、つまり戻りガスがバク
テリヤや他の微生物によって負担を受けることがない
か、あるいは無害な程度でのみ負担を被り、特に戻りガ
ス通路で殆ど純粋な CO2雰囲気にもなる。
【００１０】この発明による方法の全ての処置全体で初
めて、品質と保存性を損なうことなく、戻りガスを使用
して高価な不活性ガスあるいは CO2ガスの著しい節約が
達成できる。
【００１１】この発明によれば、簡単に形成された充填
部材を使用できる。特に、この発明の場合には、容器を
完全あるいは部分的に受け入れるベル形が充填部材に不
要である。
【００１２】
【実施例】以下、図面に基づきこの発明の実施例をより
詳しく説明する。図１には、循環式の充填機械の充填部
材１が示してある。この部材は同じような他の充填部材
１と共に垂直機械軸の回りを循環する充填機械のロータ
部分２の周囲に配設されている。
【００１３】この充填部材１は、実質上二つのケーシン
グ部品３′と３″から成り、これ等のうちケーシング部
分３″が充填部材１の下側を形成するケーシング３で構
成されている。ケーシング部分３′には、液体通路４が
形成されている。この通路はその上部で液状充填品を導
入するリング通路あるいは釜５に、また下部で長い充填
円管６の上端に連結している。この充填円管は充填部材
の垂直軸ＶＡと同軸に配設され、充填部材１の下側の上
に出ている。
【００１４】液体通路４には、液体弁７が付属する弁体
８を有する。ケーシング部品３″には、充填円管６と軸
ＶＡを同心状に取り囲むリング状通路９が形成されてい
る。この通路はケーシング３の下側で開放し、気密位置
で口１０によってケーシング３の下側に対して、あるい
はそこにあるパッキング１１に対して押圧されたフラン
ジ１２がある場合、その内部空間に接続している。
【００１５】通路９は接続導管１３に合流している。液
体通路４には、流れ方向に見て液体弁７の背後に接続導
管１４が合流している。充填部材１には、二つの制御弁
装置１６と１７が付属している。これ等の制御弁装置
は、図示している実施例の場合、それぞれ制御ケースを
備えたスライド制御装置によって形成されている。各制
御弁装置１６と１７はそれぞれ操作レバー１８と１９を
有する。充填機械が循環する場合に一緒に固定されてい
る制御部材は、例えば位置固定された制御リングの制御
曲線部あるいは制御カムと協働する。これ等の制御弁装
置１６と１７に加えて、充填部材１の各々に制御弁２０
が付属している。この制御弁は詳しく図示していない制
御装置によって制御される操作部材２０′を有し、例え
ば空圧弁あるいは電気弁である。制御弁装置１６には、
多数の弁２１〜２５がある。これ等の弁は、スライド制
御装置としての制御弁装置１６の構成に応じて少なくと
も一つのスライド円板によって構成されている。基本的
には、制御弁装置１６の弁２１〜２５はそれぞれ個別弁
によっても形成できる。
【００１６】制御弁装置１７には弁２６〜３０がある。
これ等の弁もここでは少なくとも一つのスライド円板に
よって構成されている。更に、図１はロータ部品２の中
に形成された戻り通路３１を示す。この通路は所定の戻
りガス圧で高濃度の CO2を有する戻りガスを通す。更
に、加圧された新鮮な CO2ガス用の供給導管３２と、飽
和水蒸気、つまり約 105〜 140℃、好ましくは約 110℃
の程度の温度の水蒸気用の供給導管３３がある。
【００１７】全ての弁２１〜３０は、二つの接続端子を
有する。これ等の一方の接続端子はそれぞれ入口であ
り、また他方の接続端子は出口である。弁２１〜３０が
開くと、これ等の弁の両方の接続端子で流れの接続が生
じる。弁２１〜３０が閉じると、この流れの接続は中断
する。以下の説明では、弁２１〜３０が閉じた状態にあ
り、開いた状態がその都度明確に与えられた弁２１〜３
０のみが開くことを前提とする。
【００１８】全ての弁２１〜２５は、図１の下部接続端
子によって接続導管１４に接続している。弁２４の対応
する接続部には絞り弁３４がある。図１の弁２１〜２５
の他方の上部接続部に関しては、以下の接続が生じる。
即ち、弁２１が導管３５を経由して接続導管１３に、弁
２２が導管３６を経由して供給導管３３に、弁２３と２
４が導管３７を経由して戻り通路３１に、弁２５が導管
３８を経由して供給導管３２に、接続している。
【００１９】図１の下部の弁２６〜２９の一方の接続端
子は、制御弁２０を介して接続導管１３に接続している
共通の導管３９に接続している。図１の弁３０の下部接
続端子は導管４０を介して同じように接続導管１３に接
続している。図１の弁２６〜３０の他の上部接続端子に
関して、以下の接続が生じる。即ち、弁２６が導管４１
を経由して大気に、弁２７が導管４２を経由して供給導
管３３に、弁２８が導管４３を経由して大気に、弁２９
と３０がそれぞれ導管４４と４５を経由して導管３７と
戻り通路３１に、接続している。この場合、導管４２，
４３，４４と４５には、それぞれ一個の絞り弁３４が設
けてある。
【００２０】説明した構成によって、瓶１２に液状充填
品を詰める場合、以下のプロセスの経過が可能である。 １．充填部材１の下での瓶１２の位置決め 充填すべき瓶、約 30 〜 50 ℃に予熱された瓶１２は、
通常の方法で、つまり瓶用テーブル４６に上に垂直に立
っている瓶１２を図示していない昇降装置で持ち上げ
て、瓶の口１０を充填部材１に対して気密位置にする。
次いで、長い充填円管６が瓶１２の内部で底面１２′の
近くまで達する。 ２．蒸気を用いて瓶１２からの空気の排除 制御弁装置１６を介して、充填部材１に瓶を押し付け気
密にした後、充満した蒸気の流れを接続導管１４を経由
して充填円管６に導く。同時に、接続導管１３は制御弁
装置１７を経由して大気に接続する。瓶１２の中にある
空気は、この場合、長い充填円管６の下端で瓶１２の内
部空間に侵入する蒸気によって瓶１２から大気に排除さ
れる。
【００２１】これには、弁２２と２６および制御弁２０
も開く。制御弁２０が流れ通路あるいはガス通路にあ
り、この通路を介して先ず排除された空気た、そして後
に水蒸気も瓶１２の内部から大気に排除されるので、制
御弁２０によってこの処理期間が最適に制御される。つ
まり、充填装置の回転数に無関係に、このプロセスのス
テップの終わりで最小の蒸気消費で瓶１２にほぼ純粋な
蒸気雰囲気が存在するように制御される。 ３．飽和蒸気で瓶１２の滅菌 存在していた空気を瓶から排除した後、制御弁２０が閉
じる。更に、弁２２が開いているので、瓶は供給導管３
３で設定された、あるいは制御された飽和蒸気圧にな
る。この状態は、滅菌速度あるいは菌を殺す速度に相当
する所定の時間間隔、あるいは滅菌時間にわたって維持
される。 ４．瓶１２からの蒸気圧の流出 滅菌時間を経過すると、弁２２は閉じ、弁２６が再び開
く、あるいは未だ開いている場合、制御弁２０も開くの
で、瓶１２の過蒸気圧は大気圧に放出されるか、流出さ
れる。
【００２２】蒸気圧の低下は、基本的に瓶１２が瓶用テ
ーブル４６と付属昇降装置によって、充填部材１に比べ
て短く沈下するため、過蒸気圧が瓶１２の口１０を経由
して大気に漏れることによって行われる。この代わりの
プロセス過程には、蒸気圧を排出させる時に漏れる高温
の水蒸気によって、口１０とこの口に載置面を形成する
パッキング１１の領域も滅菌される。 ５．瓶１２から蒸気の排除 蒸気圧を排出して、気密位置に充填部材１と一緒に瓶１
２がある場合、充填円管６は制御弁装置１６を介して戻
り通路３１に接続している。このため、制御弁装置１の
弁２４が開く。同時に、弁２６も開くので、制御弁２０
我開くと戻りガスが戻り通路３１から接続導管１４と充
填円管６を経由して瓶１２の内部に流入し、これにより
瓶１２にある水蒸気が導管１３を経由して大気に排出さ
れる。このプロセス過程も制御弁２０によって充填装置
の回転数に無関係に制御、例えば時間制御され、蒸気の
残り全体を最適に排除する場合、戻りガスの消費が最小
になるように制御される。 ６．戻り通路３１からの CO2ガスあるいは戻りガスで瓶
１２の一部予備添加 排除時間が経過したら、制御弁２０が閉じるので、弁２
４が更に開くと戻り導管３１と瓶１２の内部の間の握力
の均衡が生じる。即ち、瓶１２の内部空間が大体戻り通
路３１の圧力になる。
【００２３】従って、瓶１２を一部予備添加すること
は、戻り通路３１から CO2ガスあるいは戻りガスを使用
して行われる。即ち、この一部予備添加には、他の予備
添加する瓶１２に充填する間に排除された CO2ガスが使
用される。こうして、 CO2ガスの消費が大幅に低減され
る。
【００２４】戻り通路３１から CO2ガスを一部予備添加
することが可能である理由は、特に充填すべき瓶１２の
各々が少なくともその内面で、また充填円管６も瓶の充
填前に水蒸気で確実に滅菌され、滅菌媒体として使用さ
れる水蒸気が戻り通路３１だけでなく、大気に排出され
るからである。
【００２５】こうして、瓶１２から排除される CO2ガス
を瓶１２に添加するとき、戻り通路３１に微生物が到達
しないことを保証できる。つまり、この戻り通路３１に
ある戻りガスが完全に細菌が無くなるか、あるいは細菌
が非常に僅かな数しか含まれず、戻りガスの一部を加え
たにもかかわらず、各瓶１２に充填された充填品の品質
と保存性を損なうことがない。 ７．新鮮な CO2ガスの瓶１２への最終添加 戻りガスを一部添加した後、次に供給導管３２からの C
O2ガスを使用して最終添加が行われる。これには、弁２
５を開く。
【００２６】図１から離れて、新鮮な CO2ガス用の別個
な供給導管３２がなくて、回転部分２が液状充填品で一
部充填されたポットあるいはリング容器を形成し、液状
充填品の液面の上にある内部空間に加圧 CO2ガスが充填
される限り、最終的な添加は当然リング容器の上記ガス
空間からの CO2ガスを使用して行われる。 ８．瓶１２の充填 添加が行われた後、通常のように液体弁７を開いて、本
来の充填期間に導入される。このため、弁２９と３０が
開く。先ず制御弁２０が低充填速度の充填期間の間、閉
じている。次いで、急速充填期間では制御弁２０が開
く。
【００２７】次の制動および修正期間には、制御弁２０
が再び閉じる。 ９．充填された瓶１２の減圧 充填期間が終わると、通常のように、瓶１２の減圧が行
われる。この場合、主に先ず予備減圧と戻りガス圧への
鎮静化が行われる。つまり、開いた弁３０と導管４５に
設けた絞り弁３４によって行われる。
【００２８】次いで、大気圧への最終的な減圧が行われ
る。これには、弁２８および制御弁２０も開く。このこ
とは、この最終減圧も充填装置の回転数に無関係に、制
御弁２０を制御する制御装置によって最適に制御される
ことを意味する。 10．充填された瓶１２の降下 充填された瓶１２の引き抜きあるいは降下と同時に、な
いしは殆ど同時に制御弁装置１６を介して接続導管１３
と１４の間の接続が行われる。即ち、弁２１が開く。従
って、充填円管６にある充填品は瓶１２が降下する間こ
の中を空にする。同時に、制御弁装置１７を介して充填
部材１のリング状通路９の蒸気流を低減させる。これに
は、弁２７の外に制御弁２０も開き、この弁によって、
低減された蒸気流の添加が再び充填装置の回転数に無関
係に制御される。通路９から下に溢れ出る蒸気流は、口
１０と充填部材１の特にパッキング１１のところを付加
的に滅菌する。更に、通路９から下に溢れ出る蒸気流は
周囲の空気の微生物が充填された瓶１２に達することも
効果的に防止する。
【００２９】更に、制御弁装置１６を介して接続導管１
３と１４の間の接続が生じるので、瓶１２が降下して、
充填円管６の下端が充填品から出ると、充填円管６の下
端から蒸気も出る。
【００３０】次いで、瓶１２は二つの蒸気流（通路９か
らの蒸気流と充填円管６からの蒸気流）を維持した状態
で連絡トンネルに移行する。このトンネルを経由して充
填された瓶１２は包装装置に輸送され、トンネル中で瓶
が常時蒸気に曝される。
【００３１】瓶１２を連絡トンネルに引き渡した後、弁
２１，２７および２０が開くと、充填部材１、特に充填
円管６，パッキング１１，中心ラッパ部分等のところで
付加的な滅菌のため低減した蒸気流に維持される。
【００３２】充填された瓶１２あるいはこの瓶の首部分
に充填円管６を介して低減した蒸気を加える代わりに、
瓶１２に CO2ガスを加えることも行われる。この場合、
瓶１２が降下して充填円管６の下端が充填品の液面から
出た時に、制御弁装置１６によって戻り通路３１との接
続が行われる。これには、その時ただ弁２３と２７だけ
が開き、弁２３に付属する絞り弁３４が CO2ガスの量を
制限する。弁２７が開くと、更に通路９の開放した下側
で低減した蒸気流が生じる。
【００３３】図２には、他の可能な構成として、充填円
管を用いない充填部材４７が示してある。この充填部材
は、多数の他の充填部材と一緒に、機械の垂直軸の回り
に回転する充填機械の回転部品４８のところに配設され
ている。充填部材４７のケーシング４９には、液体弁５
１あるいは付属弁体５２を備えた液体通路５０がある。
この液体通路５０は回転部品４８中に形成されたリング
容器５３に連結している。このリング容器は液状充填品
が一部のみ充填されているので、リング容器５３中で液
状充填品の液面の上に加圧された新鮮な CO2ガスのガス
空間５４が生じる。液体弁５１に向かう流れ方向には、
液体通路５０が充填部材４７の下側で充填部材の軸ＶＡ
と弁体５２に連結するガス円管５５を同心状に取り囲む
リング状の排出開口を形成する。この開口を経由して充
填期間中、液体弁５１が開いている場合、液状の充填品
が充填部材４７と気密状態になっている瓶１２に流入す
る。瓶１２の口１０を充填部材４７に気密押圧するた
め、中心ラッパ部分５７のところにパッキング５８が設
けてある。
【００３４】下端を開放したガス円管５５はガス通路５
９を形成する。このガス通路は弁体５２を通り、液体弁
５１用の図示していない操作装置を通って室６０まで突
き出ている。
【００３５】充填部材４７には、再び種々の弁６１〜６
９を形成する制御弁装置７０と７１が付属している。再
びスライダー制御装置として形成され、操作レバー７２
で位置固定された制御部材と協働する制御弁装置７０と
７１のうち、制御弁装置７０は弁６１〜６６を有し、制
御弁装置７１は弁６７〜６９を有する。
【００３６】制御弁装置７０と７１に加えて、各充填部
材４７には、弁２０に対応し、図示していない制御装置
によって操作される制御弁７３が設けてある。この制御
弁はもちろん制御弁装置７０に付属している。
【００３７】回転部分４８には、戻りガス通路３１に対
応する戻りガス通路７４と供給導管３３に対応する飽和
蒸気用の供給導管７５がある。弁６１〜６９には、それ
ぞれ二つの接続端子がある。これ等の接続端子間には、
弁が開くと流れ接続が生じる。弁６１〜６９が閉じる
と、この流れ接続は中断する。
【００３８】詳しくは、以下の接続が弁６１〜６９に対
して、あるいは接続端子に対して生じる。即ち、弁６１
と６２は図２の下部接続端子によって室６０に接続して
いる接続導管７６に繋がる。弁６３〜６６は図２の下部
接続端子を用いて共通導管７７に繋がる。この共通導管
は制御弁７３を介して連結導管７６に連結している。弁
６１〜６６の図２の上部接続端子に関して、以下の連結
が生じる。即ち、弁６１と６３は導管７８を経由してガ
ス室５４に、弁６２と６４は導管７９を経由して戻りガ
ス通路７４に、弁６５と６６は導管８０を経由して供給
導管７５に、接続している。
【００３９】図２の弁６７〜６９の下部接続端子は、連
結導管８１に接続している。この導管は流れ方向に見て
液体弁５１の後で、しかも排出開口５６の前で液体通路
５０に合流している。図２の弁６７〜６９の上部接続端
子に関して、以下の接続が生じる。即ち、弁６７は導管
８２を経由して大気に、弁６８は導管８３を経由して導
管８０に、弁６９は導管８４を経由して大気に、接続す
る。
【００４０】弁６２と供給導管６７の連結部、弁６３お
よび６５と導管７７の連結部、および弁６７と６８の連
結導管８１の連結部には、それぞれ絞り弁３４に相当す
る絞り弁８５が配設されている。
【００４１】更に、充填部材４７には、充填レベルを制
御するプローブ８６がある。軸ＶＡに同軸に配設された
このプローブ８６はリング状のガス通路５９によって取
り囲まれている。
【００４２】図２に示す構成によって、瓶１２を充填す
る場合、図１に関連して説明した上記のプロセスの経過
と同等なプロセス経過が可能である。つまり、再び以下
に与えるプロセス経過となる。即ち、 １．充填部材４７の下での瓶１２の位置決め この場合、瓶１２はパッキング５８を使用して充填部材
４７との気密位置にされる。 ２．蒸気を用いて瓶１２から空気の排除 弁６６と６９を開くと、この排除が弁７３を制御して、
充填機械の回転速度に無関係に行われる。これには、制
御弁７３が所定の排除期間の間開放するので、戻りガス
円管５５のガス通路５９を経由して飽和蒸気が供給導管
７５から瓶１２の内部に流入し、先ず排除空気、次いで
水蒸気も接続導管８１を介して大気に排除される。 ３．飽和蒸気による瓶１２の滅菌 排除期間が終わると、飽和蒸気で瓶１２の滅菌が行われ
る。これには、弁６９が閉じ、弁６６が開くと、制御弁
７３も所定の滅菌期間の間、開いている。 ４．瓶１２から蒸気圧の吹き出し 滅菌時間が経過した後、制御弁７３が閉じる。蒸気圧を
吹き出すため、今度は弁６９が開く。
【００４３】この代わりに、瓶１２を僅か、しかも短時
間充填部材４７から沈下させることもできる。これに
は、口１０とパッキング５８の滅菌効果があると言う利
点がある。 ５．瓶１２から蒸気の排除 弁６４と６９が開くと、制御弁７３が所定の時間の間、
しかも再び充填装置の回転速度に無関係に開く。これに
よって、ガス通路５９は戻りガス通路７４に繋がり、同
時に瓶１２の内部空間が接続導管８１と開いた弁６９を
経由して大気に向けて開放される。その結果、戻りガス
通路７４から流れ出す戻りガスあるいは CO2ガスによっ
て瓶１２にある蒸気が大気に排除される。
【００４４】このプロセス工程は弁７３が閉じることに
よって終了する。弁７３の開時間は、再び CO2ガスの消
費が最小のとき、できる限り完全に蒸気を瓶１２から排
除するように選択される。 ６．瓶１２に戻りガス通路７４からの CO2ガスの部分的
な添加 これには、弁６９を閉じる。弁６４が開くと、制御弁７
３が開くので、瓶１２の内部では戻りガス通路７４の圧
力と同じ圧力となる。この部分的な添加には、再び戻り
ガス通路７４からの CO2ガスが使用される。これは、図
２の実施例でも、充填すべき瓶１２の各々が飽和蒸気を
充填する前に滅菌され、更にどのプロセス工程でも蒸気
を戻りガス通路７４に排出しないことによって可能にな
る。
【００４５】瓶１２に戻りガス通路７４からの CO2ガス
を一部添加した後、図１に関連して既に説明したプロセ
ス工程７〜１０が同じように行われる。その場合、ここ
でも再び制御弁７３が充填期間の間、充填速度を制御
し、しかも瓶１２を充填部材４７から引き抜く時に低減
する蒸気流を制御するために使用される。ガス室５４か
らの新鮮な CO2ガスの最終添加では、弁６１が開く。充
填時には、充填弁５１の外に、弁６２と６４も開く。そ
の場合、充填期間と制動期間の間にある急速充填期間の
間には、弁７３が開く。充填された瓶１２の予備減圧は
再び戻りガス通路７４の圧力にされる。つまり、弁６２
が開いて行われる。大気圧への最終減圧は弁６７を開い
て行われる。充填された瓶１２を引き抜く時に低減され
た蒸気流で処理するためには、弁６５と６８が開いてい
る時、制御弁７３も所定の時間間隔にわたって開いてい
る。この場合、この制御弁７３によって、戻りガス円管
５５の下端から出る蒸気流が制御される。戻りガス円管
５５から出る蒸気流の代わりに、ここでも再び戻りガス
通路７４からの CO2ガスで瓶１２を処理すること（瓶の
口からの通気）が行われる。これには、例えば弁６４が
使用される。
【００４６】こうして、上記の装置およびこの装置によ
って可能な方法は以下の利点を有する。即ち、制御弁２
０，７３によって、充填機械の回転速度に無関係に、蒸
気量と戻りガス量を最適に制御できる。この場合、同じ
制御弁２０，７３を異なった媒体に対しておよび異なっ
た機能に対して順次工程で使用できる。
【００４７】しかし、決定的な利点は以下の点にある。
つまり、それぞれの瓶１２を戻りガス通路３１，７４の
蒸気で前処理することによって、ほぼ純粋な CO2雰囲気
が得られ、更に、戻りガス通路に排出され、そこに存在
する CO2ガスが微生物のない状態に成っているため、こ
の CO2ガスを瓶１２の部分的な予備添加に利用でき、戻
りガス通路３１の CO2ガスを予め準備する必要がない点
にある。
【００４８】図３は、リング通路あるいはリング容器５
ａである循環する回転部分２ａにある充填部材１ａを示
す。このリング容器は図１のリング容器５と実質上以下
ノ点で相違している。リング容器は所定のレベルまで液
状充填品で充填されるので、充填品の液面の上にガス空
間６７が生じ、このガス空間が接続導管８８を介して回
転部分２ａに形成されている加圧された新鮮な CO2ガス
用の供給導管３２に接続している。
【００４９】回転部分２ａには、更に水蒸気用の供給導
管３３，戻りガス通路３１および付加的な集合通路８９
も設けてある。構造上では、実質上図１の充填部材１に
一致する充填部材１ａの各々には、二つの制御弁装置１
６と１７の代わりに、再びスライダー制御装置として構
成されたただ一つの制御弁装置９０が付属している。こ
の制御弁装置の操作レバーは充填機械が回転する時、位
置固定された制御部材と協働する。どの制御弁装置９０
にも、制御弁２０と、この制御弁装置９０が蒸気用の供
給導管に接続中継のためにある接続導管中の同じように
空圧ないしは電気的に操作できる制御弁９１とが設けて
ある。この制御弁９１によって、個々の処理期間中に蒸
気の制御（遮断と連通）が行われるので、制御弁装置９
０あるいはこの装置のスライダー円板は専ら残りの制御
機能にために使用できるため、ただ一つの制御弁装置９
０しか必要でない。更に、弁９１が蒸気を使用する各処
理期間の初めに開き、この処理期間の終わりで再び閉
じ、所定の期間が経過するとどんな時でも弁９１が強制
的に閉じるため、例えば機械が休止状態で蒸気が蒸気処
理に相当する位置にある充填部材から漏れ出ることが大
幅に排除されるように、弁９１の駆動が行われると有利
である。更に、弁９１の制御は、充填部材１ａに瓶１２
がなかったり、あるいは欠陥のある瓶１２がある場合に
この弁の開放を阻止するように行われるとよい。
【００５０】充填部材１ａを用いて、瓶１２に充填する
場合、以下の作業経過が可能である。その場合、この作
業経過は充填部材１に対して前に説明したような作業経
過に殆ど一致している。即ち、 １．充填部材１ａの下に瓶を位置決めし、蒸気で瓶１２
を予備洗浄すること これには、充填すべき瓶１２が、通常の方法で、つまり
瓶テーブル４６で持ち上げて、瓶の口１０がパッキング
１１あるいは中心点１１′に来るように位置決めされ
る。しかし、最後の中心点は充填部材１ａの下側あるい
はそこのパッキングからある間隔に置かれている。
【００５１】制御弁９１を開き、弁２０を閉じた時に
は、制御弁装置９０を介して低減された蒸気流が充填円
管６と通路９に流される。つまり、制御弁装置９０中に
ある絞り弁を介して流される。この低減された蒸気流に
よって、瓶の内部の洗浄と、同時に充填部材１ａの下端
および中心ラッパ１１′の滅菌が行われる。 ２．蒸気を用いて瓶１２から空気の残りの排除 この作業工程で、制御弁９１が開くと、制御弁装置９０
と充填円管６を介して蒸気が充填部材との気密位置にあ
る瓶１２に導入される。開放している制御弁２０を介し
て、排除された空気と蒸気も集合通路８９に排出され
る。 ３．飽和蒸気で瓶１２の滅菌 これには、前記作業工程に比べて制御弁２０のみが閉じ
ている。その結果、瓶１２の内部空間に充填円管６を経
由して更に加熱蒸気（約 110℃) あるいは蒸気圧 (約
0.8バール) が印加する。 ４．中心ラッパ１１′と口１０の滅菌 このプロセス過程には、中心ラッパ１１′が（制御カム
と協働し案内棒に設けてあるロール９３によって）、そ
して瓶のテーブル４６が（昇降装置によって）、充填部
材１ａの下側と中心チューリップ１１′の間で、また口
１０とパッキング１１の間でも、それぞれ充分広いリン
グ隙間になり、このリング隙間から、制御弁９１が更に
開き、制御弁２０が閉じると、充填部材１ａの下側、中
心ラッパ１１′および口１０の滅菌を行う蒸気が漏れ
る。
【００５２】次に、制御弁９１が閉じると、蒸気を瓶１
２から排除すること、瓶１２を先ず戻りガス通路３１か
ら、次いで供給導管３２からの CO2ガスで部分的および
完全に予備添加することが行われる。そして、図１に関
連してそこでのプロセス過程５〜９で説明したような瓶
１２の充填と充填した瓶の減圧が行われる。
【００５３】次の作業過程は以下の通りである。即ち、 ５．充填円管６を空にする この作業工程では、制御弁２０と９１が開くので、充填
円管６に蒸気が印加し、同時に蒸気が充填部材１と中心
ラッパ１１′を滅菌する通路９からも出る。 ６．外部部品の滅菌と瓶の首に空気を吹き込むこと 瓶１２が更に降下すると、作業工程５の稼働状態が維持
される。次いで、充填された瓶１２の各々を本来の蒸気
放出ノズルを有する伝達通路に送ることが行われる。
【００５４】この発明を種々の実施例に基づき説明し
た。この発明の基本となる構想を逸脱することなく、変
更や修正が可能であることが理解される。充填部材１と
４７は、充填レベルを求めるプローブを有する部材であ
る。当然、この発明はこの種の充填部材を使用すること
に限定されるものではない。
【００５５】
【発明の効果】以上説明したように、この発明による方
法およびその装置によって、傷みやすい充填品の場合で
も、不活性ガスを節約する利点を維持して、詰めた充填
品の高品質と長寿命を達成できると言う利点が得られ
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】充填すべき瓶と共に、長い充填円管を備えた、
垂直回転軸の回りを回転するロータの周囲に設けた充填
機械の充填部材の単純化した部分図と断面図である。
【図２】充填円管のない充填部材の場合の図１に似た図
面である。
【図３】図１に示すような、充填すべき瓶と共に、長い
充填円管を備えた充填部材の他の実施例の図面である。
【符号の説明】
１，１ａ，４７ 充填部材 ２，２ａ，４８ ロータ部品 ３，４８ ケーシング ３′，３″ ケーシング部品 ４，５０ 液体通路 ５，５３ リング容器 ６ 充填円管 ７，５１ 液体弁 ８，５２ 弁体 ９ 通路 １０ 口 １１ ，５８ パッキング １１′，５７ 中心ラッパ １２ 瓶 １２′ 底 １３，１４ 接続導管 １６，１７，７０，７１，９０ 制御弁装置 １８，１９，７２ 操作レバー ２０，７３，９１ 制御弁 ３１，７４ 戻りガス通路 ３２，３３，７５ 供給導管 ３４ 絞り弁 ３５〜４５，７７〜８０，８２〜８４，９２ 導管 ４６ 瓶のテーブル ５４ ガス室 ５５，８７ ガス円管 ５６ 排出開口 ５９ ガス通路 ６１〜６９ 弁 ７６，８１，８８ 接続導管 ８５ 絞り弁 ８６ プローブ ８９ 集合通路 ９３ ロール

Claims (42)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 充填部材（１，１ａ，４７）と気密位置
    にある容器（１２）を不活性ガスを使用する添加期間に
    洗浄し、添加し、時間的に次の充填期間で液体弁（７，
    ５１）を開けた時、液状充填品で満たし、少なくとも時
    々、導入する充填品によって容器（１２）から排除され
    る戻りガスが充填部材の戻りガス通路を経由して戻りガ
    ス通路（３１，７４）に排出され、添加期間で容器（１
    ２）の洗浄と少なくとも時々添加が不活性ガスとしての
    戻りガス通路（３１，７４）からの戻りガスを使用して
    行われる、液体弁（７，５１）を有する充填部材（１，
    １ａ，４７）を使用して液状充填品を瓶等の容器（１
    ２）に充填する方法において、容器（１２）の内部空間
    が添加期間の前の予備処理期間で滅菌媒体、主に水蒸気
    で処理され、その場合、滅菌媒体によって容器（１２）
    の内部空間から排除された空気および添加期間で洗浄時
    に容器（１２）の内部空間から排除された滅菌媒体が大
    気や戻りガス通路（３１，７４）から分離した通路に排
    出されることを特徴とする方法。
  2. 【請求項２】 容器（１２）に戻りガス通路からの戻り
    ガスを一部添加することが行われ、次いで新鮮な不活性
    ガスを容器（１２）に最終添加することが行われること
    を特徴とする請求項１に記載の方法。
  3. 【請求項３】 容器（１２）の内部空間は、滅菌媒体を
    導入するため、充填部材（１，１ａ，４７）中に形成さ
    れた第一ガス通路（１４，３６；７６，８０）を経由し
    て滅菌媒体用の源（３３，７５）に連結していることを
    特徴とする請求項１または２に記載の方法。
  4. 【請求項４】 容器（１２）の内部空間から空気を排除
    するため、この内部空間は充填部材（１，１ａ，４７）
    中に形成され、大気に通じる第二ガス通路（１３，４
    １；８１，８４）あるいは集合通路（８９）に接続して
    いることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載
    の方法。
  5. 【請求項５】 添加期間中、容器（１２）の内部空間
    は、洗浄や添加のため、充填部材（１，１ａ，４７）中
    に形成された第三ガス通路（１４，３７；７６，７８）
    を経由して戻りガス通路（３１，７４）に接続している
    ことを特徴とする請求項１〜４の何れか１項に記載の方
    法。
  6. 【請求項６】 添加期間中、容器（１２）の内部空間は
    添加を部分的に行った後、充填部材（１，１ａ，４７）
    中に同じように形成された第四ガス通路（１４，３８；
    ７６，７８）を経由して新鮮な不活性ガス用の源（３
    ２，５４）に接続していることを特徴とする請求項５に
    記載の方法。
  7. 【請求項７】 洗浄時には、容器（１２）の内部空間は
    充填部材（１，１ａ，４７）中に形成されたガス通路を
    介して、主に第二ガス通路（１３，４１；８１，８４）
    を介して大気に接続していることを特徴とする請求項５
    または６に記載の方法。
  8. 【請求項８】 多数の充填部材（１，１ａ，４７）を備
    えた循環構造方式の充填機械の場合、予備処理期間での
    容器（１２）の処理の継続や、容器（１２）に戻りガス
    を少なくとも時折添加することや、戻りガスで滅菌媒体
    を排除することは、各充填部材（１，１ａ，４７）に付
    属する第一制御弁（２０，７３）によって充填機械の回
    転速度に無関係に行われることを特徴とする請求項１〜
    ７の何れか１項に記載の方法。
  9. 【請求項９】 多数の充填部材（１，１ａ，４７）を備
    えた循環構造方式の充填機械の場合、特に予備処理期間
    や、充填期間の後の再処理期間で滅菌媒体で処理する継
    続は各充填部材（１ａ）に付属する第二制御弁（９１）
    によって、主に充填機械の回転速度に無関係に行われる
    ことを特徴とする請求項１〜７の何れか１項に記載の方
    法。
  10. 【請求項１０】 第二制御弁（９１）は第一通路の中、
    あるいは制御弁装置（９０）を滅菌媒体用の源（３３）
    に連結する導管（９２）の中に設けてあることを特徴と
    する請求項９に記載の方法。
  11. 【請求項１１】 第一や第二制御弁（２０，９１，７
    ３）はガス通路用の少なくとも一つの制御弁装置（１
    ６，１７；７０，７１）に加えて使用され、前記制御弁
    装置は位置固定された制御部材、例えば制御カム板ある
    いは位置固定された制御リングのところの制御カムと協
    働することを特徴とする請求項８〜１０の何れか１項に
    記載の方法。
  12. 【請求項１２】 二つの制御弁装置（１６，１７；７
    ０，７１）が使用され、一方の制御弁装置（１７，７
    ０）は第一制御弁（２０，７３）と一緒に第一ガス通路
    や第二ガス通路（１４，３６；７６，８０；１３，１
    ４；８１，８４）に配設されていることを特徴とする請
    求項１１に記載の方法。
  13. 【請求項１３】 第一制御弁（２０，７３）は充填期間
    でも充填速度を制御するために使用されることを特徴と
    する請求項８〜１２の何れか１項に記載の方法。
  14. 【請求項１４】 滅菌媒体用の源は第一供給通路あるい
    は第一供給導管（３３，７５）であることを特徴とする
    請求項３〜１３の何れか１項に記載の方法。
  15. 【請求項１５】 新鮮な不活性ガスの源は、貯蔵容器あ
    るいは貯槽（５３）の液状充填品で占められていない空
    間、つまり液状充填品の液面の上の空間中に形成される
    ガス室（５４）であることを特徴とする請求項６〜１４
    の何れか１項に記載の方法。
  16. 【請求項１６】 新鮮な不活性ガスの源は液状充填品の
    容器から分離している第二供給通路あるいはそれに対応
    する第二供給導管（３２）であることを特徴とする請求
    項６〜１４の何れか１項に記載の方法。
  17. 【請求項１７】 充填円管（６）を備えた充填部材
    （１，１ａ）では、滅菌媒体で容器（１２）の内部空間
    を処理することは充填円管（６）によって行われること
    を特徴とする請求項１〜１６の何れか１項に記載の方
    法。
  18. 【請求項１８】 充填円管を備えていない充填部材（４
    ７）の場合、滅菌媒体で瓶（１２）の内部空間を処理す
    ることは、容器（１２）の内部空間に接続する戻りガス
    通路の一部（５９）によって行われ、この戻りガス通路
    を介して充填時に排除された戻りガスが排出されること
    を特徴とする請求項１〜１６の何れか１項に記載の方
    法。
  19. 【請求項１９】 滅菌媒体を用いた処理は、ガス円管
    （５５）のガス通路（５９）を介して行われることを特
    徴とする請求項１８に記載の方法。
  20. 【請求項２０】 容器（１２）は予備処理のため、例え
    ば 30 〜 50 ℃の温度に予備加熱されている、および／
    または処理期間の終わりで、滅菌媒体の圧力が充填部材
    と容器の口の間にある隙間を通して大気に放たれること
    を特徴とする請求項１〜１９の何れか１項に記載の方
    法。
  21. 【請求項２１】 容器（１２）を洗浄する前に、容器
    （１２）の口（１０）や、容器（１２）の中心合わせを
    する充填部材（１ａ）の中心合わせ部材（１１′）を滅
    菌するため、容器の内部空間に滅菌媒体を導入し、この
    媒体が充填部材（１ａ）の口（１０）と中心合わせ部材
    （１１′）の間のリング状開口を通って排出することを
    特徴とする請求項１〜２０の何れか１項に記載の方法。
  22. 【請求項２２】 滅菌媒体としては、105 〜 140℃の温
    度の飽和水蒸気、好ましくは 110℃の温度の水蒸気が使
    用されることを特徴とする請求項１〜２１の何れか１項
    に記載の方法。
  23. 【請求項２３】 液体弁（７，５１）を有する少なくと
    も一つの充填部材（１，１ａ，４７）と、少なくとも添
    加期間の間および時間的に以後の充填期間の間に充填部
    材（１，４７）中に形成されたガス通路を制御するた
    め、充填部材に付属し、しかも多数の弁を有する少なく
    とも一つの弁制御部（１６，１７，２０，９１；７０，
    ７１，７３）とを備え、前記添加期間中に充填部材
    （１，１ａ，４７）と気密位置にある容器に添加し、前
    記充填期間の間に充填部材（１，１ａ，４７）と気密位
    置にある容器に液体弁（７，５１）を開いて液状充填品
    を充填し、その場合、少なくとも時間的に時折導入され
    た充填品によって容器（１２）から排除される戻りガス
    を充填部材（１，１ａ，４７）の戻りガス路を経由して
    戻りガス通路（３１，７４）に排出し、添加期間に洗浄
    と容器の少なくとも部分的な添加が不活性ガスとしての
    戻りガス通路（３１，７４）からの戻りガスを使用して
    行われる、瓶等の容器（１２）に液状充填品を充填する
    装置において、滅菌媒体、主に水蒸気の源（３３，７
    ５）が設けてあり、弁制御部（１６，１７，２０，９
    １；７０，７１，７３）を経由して、容器（１２）の内
    部空間に添加期間に先行する予備処理期間で滅菌媒体を
    導入でき、その場合、滅菌媒体によって容器（１２）の
    内部空間から排除された空気、および添加期間に洗浄で
    容器（１２）の内部空間から排除された滅菌媒体も排出
    部を経由して大気や戻りガス通路（３１，７４）とは分
    離した通路に排出されることを特徴とする装置。
  24. 【請求項２４】 新鮮な不活性ガス用の源を設け、弁制
    御部（１６，１７，２０，９１；７０，７１，７３）
    は、添加期間に容器（１２）に一部添加した後、新鮮な
    不活性ガスを最終的に添加することが行われるように、
    構成されていることを特徴とする請求項２３に記載の装
    置。
  25. 【請求項２５】 充填部材（１，１ａ，４７）に第一ガ
    ス路（１４，３６；７６，８０）を形成し、このガス路
    を経由して容器（１２）の内部空間が滅菌媒体を導入す
    るため、滅菌媒体の源（３３，７５）に連結しているこ
    とを特徴とする請求項２３または２４に記載の装置。
  26. 【請求項２６】 充填部材（１，１ａ，４７）に第二ガ
    ス路（１３，４１；８１，８４）を形成し、このガス路
    を経由して容器（１２）の内部空間が容器から空気を排
    除するための予備処理期間の間や、洗浄時の添加期間中
    に大気と連通することを特徴とする請求項２３〜２５の
    何れか１項に記載の装置。
  27. 【請求項２７】 充填部材（１，１ａ，４７）に第三ガ
    ス路（１４，３７；７６，７８）を形成し、このガス路
    を経由して容器（１２）の内部空間が洗浄や添加期間の
    添加のために戻りガス通路（３１，７４）に連通するこ
    とを特徴とする請求項２３〜２５の何れか１項に記載の
    装置。
  28. 【請求項２８】 充填部材（１，１ａ，４７）に第四ガ
    ス路（１４，３８；７６，７８）を形成し、このガス路
    を経由して容器（１２）の内部空間が添加期間に部分的
    な添加を行った後、新鮮な不活性ガスの源（３２，５
    ４）に連通することを特徴とする請求項２３〜２７の何
    れか１項に記載の装置。
  29. 【請求項２９】 多数の充填部材（１ａ）を備えた循環
    構造式の充填機械の場合、充填部材の各々あるいは一群
    の充填部材の各々には、弁制御部の第二制御弁（９１）
    が付属し、この制御弁（９１）は主に充填機械の回転速
    度に無関係に滅菌媒体の処理を制御することを特徴とす
    る請求項２３〜２８の何れか１項に記載の装置。
  30. 【請求項３０】 第二制御弁（９１）は第一ガス路ある
    いは制御弁装置（９０）を滅菌媒体の源（３３）に接続
    する導管（９２）の中に設けてあることを特徴とする請
    求項２９に記載の装置。
  31. 【請求項３１】 多数の充填部材（１，１ａ，４７）を
    備えた循環構造式の充填機械の場合、充填部材の各々に
    は弁制御部の第一制御弁（２０，７３）が付属し、この
    制御弁（２０，７３）は充填機械の回転速度に無関係
    に、前処理期間で各容器（１２）の少なくとも処理や、
    容器（１２）に戻りガスを一部添加することや、滅菌媒
    体の排除ないしは容器（１２）を戻りガスで洗浄するこ
    とを制御することを特徴とする請求項２３〜３０の何れ
    か１項に記載の装置。
  32. 【請求項３２】 弁制御部は第一制御弁や第二制御弁
    （２０，９１，７３）に加えて、各充填部材（１，１
    ａ，４７）に付属するガス路用の制御弁装置（１６，１
    ７；７０，７１）を有し、この制御弁装置は位置固定さ
    れた制御部材、例えば制御カム板あるいは位置固定され
    た制御リングのところの制御カムと協働することを特徴
    とする請求項３１に記載の装置。
  33. 【請求項３３】 各充填部材（１，１ａ，４７）に対し
    てそれぞれ二つの制御弁装置（１６，１７；７０，７
    １）が設けてあり、一方の制御弁装置（１７，７０）は
    第一制御弁（２０，７３）と一緒に、第一ガス路や、第
    二ガス路や、第三ガス路や、第四ガス路（７６，８０；
    １３，４１；７６，７９；７６，７８）に配設されてい
    ることを特徴とする請求項３２に記載の装置。
  34. 【請求項３４】 第一制御弁（２０，７３）は充填期間
    中に充填速度を制御するために使用され、主に一方の制
    御弁装置（１７，７０）と一緒に戻りガス通路に配設さ
    れていることを特徴とする請求項３１〜３３の１項に記
    載の装置。
  35. 【請求項３５】 滅菌媒体の源は第一供給通路あるいは
    第一供給導管（３３，７５）であることを特徴とする請
    求項２３〜３４の何れか１項に記載の装置。
  36. 【請求項３６】 新鮮な不活性ガスの源はガス室（５
    ４）であり、このガス室は貯蔵容器あるいは貯槽の液状
    充填品で占められていない空間に形成されていることを
    特徴とする請求項２３〜３５の何れか１項に記載の装
    置。
  37. 【請求項３７】 新鮮な不活性ガスの源は液状充填品の
    貯槽あるいは貯蔵容器から分離した供給通路あるいは対
    応する第二供給導管（３２）であることを特徴とする請
    求項２３〜３５の何れか１項に記載の装置。
  38. 【請求項３８】 第一制御弁や第二制御弁（２０，９
    １，７３）は、各ガス路が制御弁装置（１６，１７；７
    ０，７１）によって処理され、制御弁（２０，９１，７
    ３）によって制御されるように、少なくとも機能に合わ
    せて少なくとも一つの制御弁装置（１６，１７；７０，
    ７１）に直列に配置されていることを特徴とする請求項
    ３２〜３７の何れか１項に記載の装置。
  39. 【請求項３９】 充填部材（１，１ａ）は一つの充填円
    管（６）と一つの接続導管（１４）を有し、 この接続
    導管は流れ方向に見て液体弁（７）に続き、充填円管
    （６）に連結する充填部材（１，１ａ）の液体通路
    （４）の一部に連通し、戻りガス通路（３１）からの戻
    りガスや滅菌媒体が接続導管（１４）を経由して導入さ
    れることを特徴とする請求項２３〜３８の何れか１項に
    記載の装置。
  40. 【請求項４０】 充填部材（４７）は戻りガス通路の一
    部を形成するガス路（５９）を備えた充填円管のない充
    填部材であり、ガス路（５９）を経由して少なくとも滅
    菌媒体および／または戻りガスが導入できることを特徴
    とする請求項２３〜３８の何れか１項に記載の装置。
  41. 【請求項４１】 制御弁（２０）は戻りガス通路および
    第二ガス路（１３，４１）に配設されていることを特徴
    とする請求項３９に記載の装置。
  42. 【請求項４２】 制御弁（７３）は戻りガス通路および
    第一ガス路や、第二ガス路や、第三ガス路や、第四ガス
    路（７６，８０；７６，７９；７６，７８）に配設され
    ていることを特徴とする請求項４０に記載の装置。
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