JPH05312666A - 半導体圧力センサ - Google Patents
半導体圧力センサInfo
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- JPH05312666A JPH05312666A JP4115887A JP11588792A JPH05312666A JP H05312666 A JPH05312666 A JP H05312666A JP 4115887 A JP4115887 A JP 4115887A JP 11588792 A JP11588792 A JP 11588792A JP H05312666 A JPH05312666 A JP H05312666A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 本発明は差圧下で生じる信号の直線性を向上
させて、差圧を精度よく検出し、これによって出力信号
の信頼性を向上させる。 【構成】 内部に枠状の空洞8が形成されて両面にダイ
アフラム9a、9bが形成された半導体基板2の前記空
洞8内に、台座管3、4を介して測定対象となる流体の
圧力を導入し、この流体の圧力と、前記半導体基板2周
囲にある流体の圧力との差に応じて各ダイアフラム9
a、9bを歪ませて、これらの各ダイアフラム9a、9
bに形成された各歪みセンサ10a〜13bによって2
種類の圧力差信号を生成する。
させて、差圧を精度よく検出し、これによって出力信号
の信頼性を向上させる。 【構成】 内部に枠状の空洞8が形成されて両面にダイ
アフラム9a、9bが形成された半導体基板2の前記空
洞8内に、台座管3、4を介して測定対象となる流体の
圧力を導入し、この流体の圧力と、前記半導体基板2周
囲にある流体の圧力との差に応じて各ダイアフラム9
a、9bを歪ませて、これらの各ダイアフラム9a、9
bに形成された各歪みセンサ10a〜13bによって2
種類の圧力差信号を生成する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は圧力を検出する半導体圧
力センサに係わり、特に差圧下で生じる信号を補償し、
差圧を極めて精度よく検出し得るようにした半導体圧力
センサに関する。
力センサに係わり、特に差圧下で生じる信号を補償し、
差圧を極めて精度よく検出し得るようにした半導体圧力
センサに関する。
【0002】
【従来の技術】圧力を検出するためのセンサとして、従
来、半導体を使用した半導体圧力センサが開発されてい
る。
来、半導体を使用した半導体圧力センサが開発されてい
る。
【0003】この半導体圧力センサは板状に形成された
単結晶シリコンの裏面に凹部を形成してこの部分を薄膜
シリコンダイアフラムにするとともに、この薄膜シリコ
ンダイアフラムの表面に不純物を拡散して形成した少な
くとも1対の半径方向の歪みセンサおよび1対の接線方
向の歪みセンサを有する基板と、この基板の熱膨張率と
ほぼ同じ熱膨張率を持ち、その一端が前記凹部を囲むよ
うに前記基板の裏面に取り付けられる筒状の台座管と、
前記基板の表面に形成された前記各歪みセンサを接続し
てブリッジ回路を構成する配線とを備えており、台座管
を介して前記基板に形成された凹部に一方の流体を導い
て薄膜シリコンダイアフラムの裏面に一方の流体圧を導
くとともに、前記基板の表面側を他方の流体中に浸すこ
とにより、これらの各流体の圧力差に応じて薄膜シリコ
ンダイアフラムを歪ませて各歪みセンサのピエゾ抵抗値
を変化させ、これらの各歪みセンサによって構成される
ブリッジ回路から前記圧力差に応じた電気信号(出力信
号)を出力させる。
単結晶シリコンの裏面に凹部を形成してこの部分を薄膜
シリコンダイアフラムにするとともに、この薄膜シリコ
ンダイアフラムの表面に不純物を拡散して形成した少な
くとも1対の半径方向の歪みセンサおよび1対の接線方
向の歪みセンサを有する基板と、この基板の熱膨張率と
ほぼ同じ熱膨張率を持ち、その一端が前記凹部を囲むよ
うに前記基板の裏面に取り付けられる筒状の台座管と、
前記基板の表面に形成された前記各歪みセンサを接続し
てブリッジ回路を構成する配線とを備えており、台座管
を介して前記基板に形成された凹部に一方の流体を導い
て薄膜シリコンダイアフラムの裏面に一方の流体圧を導
くとともに、前記基板の表面側を他方の流体中に浸すこ
とにより、これらの各流体の圧力差に応じて薄膜シリコ
ンダイアフラムを歪ませて各歪みセンサのピエゾ抵抗値
を変化させ、これらの各歪みセンサによって構成される
ブリッジ回路から前記圧力差に応じた電気信号(出力信
号)を出力させる。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな半導体圧力センサにおいては、測定対象となる各流
体の圧力差と、出力信号の値とがリニアな関係になって
いるのが望ましいが、上記のように従来の半導体圧力セ
ンサでは必ずしも、直線的な出力信号を出力することが
できないため、出力信号に複雑な補正を行ない、出力信
号を直線に近づけなければならないという問題があっ
た。
うな半導体圧力センサにおいては、測定対象となる各流
体の圧力差と、出力信号の値とがリニアな関係になって
いるのが望ましいが、上記のように従来の半導体圧力セ
ンサでは必ずしも、直線的な出力信号を出力することが
できないため、出力信号に複雑な補正を行ない、出力信
号を直線に近づけなければならないという問題があっ
た。
【0005】このため、補正回路が複雑になってしまう
とともに、補正処理された出力信号の信頼性が低下して
しまうという問題があった。
とともに、補正処理された出力信号の信頼性が低下して
しまうという問題があった。
【0006】本発明は上記の事情に鑑み、差圧下で生じ
る信号の直線性を向上させて、差圧を精度よく検出する
ことができ、これによって出力信号の信頼性を向上させ
ることができる半導体圧力センサを提供することを目的
としている。
る信号の直線性を向上させて、差圧を精度よく検出する
ことができ、これによって出力信号の信頼性を向上させ
ることができる半導体圧力センサを提供することを目的
としている。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに本発明による半導体圧力センサは、所定形状の板状
部材によって構成され、その内部に空胴が形成されて前
記板状部材の表面および裏面の前記空洞に対応する部分
がダイアフラムにされるとともに、これらの各ダイアフ
ラム部分に各々、歪みセンサが形成された半導体基板
と、所定形状の筒状部材によって構成され、前記半導体
基板の表面または裏面の少なくともいずれか一方に接合
され、前記半導体基板の前記空洞に圧力を導入する台座
管とを備えたことを特徴としている。
めに本発明による半導体圧力センサは、所定形状の板状
部材によって構成され、その内部に空胴が形成されて前
記板状部材の表面および裏面の前記空洞に対応する部分
がダイアフラムにされるとともに、これらの各ダイアフ
ラム部分に各々、歪みセンサが形成された半導体基板
と、所定形状の筒状部材によって構成され、前記半導体
基板の表面または裏面の少なくともいずれか一方に接合
され、前記半導体基板の前記空洞に圧力を導入する台座
管とを備えたことを特徴としている。
【0008】
【作用】上記の構成において、内部に枠状の空洞が形成
されて両面にダイアフラムが形成された半導体基板の前
記空洞内に、台座管を介して測定対象となる流体の圧力
が導入されたとき、この流体の圧力と、前記半導体基板
周囲にある流体の圧力との差に応じて各ダイアフラムが
歪んで、これらの各ダイアフラムに形成された各歪みセ
ンサによって2種類の圧力差信号が生成される。
されて両面にダイアフラムが形成された半導体基板の前
記空洞内に、台座管を介して測定対象となる流体の圧力
が導入されたとき、この流体の圧力と、前記半導体基板
周囲にある流体の圧力との差に応じて各ダイアフラムが
歪んで、これらの各ダイアフラムに形成された各歪みセ
ンサによって2種類の圧力差信号が生成される。
【0009】
【実施例】図1は本発明による半導体圧力センサの一実
施例を示す平面図であり、図2は図1に示す半導体圧力
センサのA−A’における断面図であり、図3は図1に
示す半導体圧力センサの裏面図である。
施例を示す平面図であり、図2は図1に示す半導体圧力
センサのA−A’における断面図であり、図3は図1に
示す半導体圧力センサの裏面図である。
【0010】これらの図に示す半導体圧力センサ1は半
導体基板2と、2つの台座管3、4とによって構成され
ており、2つの台座管3、4によって支えられている半
導体基板2内に検出対象となる一方の圧力を導くととも
に、前記半導体基板2の周囲に他方の圧力を導くことに
より、前記半導体基板2の表面および裏面に設けられた
差圧歪みセンサによってこれらの圧力差に応じた差圧信
号を生成して、これを出力する。
導体基板2と、2つの台座管3、4とによって構成され
ており、2つの台座管3、4によって支えられている半
導体基板2内に検出対象となる一方の圧力を導くととも
に、前記半導体基板2の周囲に他方の圧力を導くことに
より、前記半導体基板2の表面および裏面に設けられた
差圧歪みセンサによってこれらの圧力差に応じた差圧信
号を生成して、これを出力する。
【0011】一方の台座管3はパイレックガラス等によ
って形成される円筒状の部材であり、その下端(図2に
おいて下端)が前記半導体基板2の表面中心に接合され
る。
って形成される円筒状の部材であり、その下端(図2に
おいて下端)が前記半導体基板2の表面中心に接合され
る。
【0012】また、他方の台座管4は前記台座管3と同
様にパイレックガラス等によって形成される円筒状の部
材であり、その上端(図2において上端)が前記半導体
基板2の裏面中心に接合される。
様にパイレックガラス等によって形成される円筒状の部
材であり、その上端(図2において上端)が前記半導体
基板2の裏面中心に接合される。
【0013】半導体基板2はシリコンのような単結晶半
導体材料を薄い方形にした基板であり、その内部には中
心部分側に方形の空洞5が形成されるとともに、前記半
導体基板2の中心部分に前記空洞5の中心部分と基板の
表面および裏面とを連通する2つの導圧路6、7が形成
され、これらの各導圧路6、7を介して測定対象となる
一方の流体が取り込まれて前記空洞5内に導かれる。
導体材料を薄い方形にした基板であり、その内部には中
心部分側に方形の空洞5が形成されるとともに、前記半
導体基板2の中心部分に前記空洞5の中心部分と基板の
表面および裏面とを連通する2つの導圧路6、7が形成
され、これらの各導圧路6、7を介して測定対象となる
一方の流体が取り込まれて前記空洞5内に導かれる。
【0014】また、前記半導体基板2の周辺部分側に
は、前記空洞5と連通する枠状の空洞8が形成され、こ
れによって半導体基板2の表面および裏面の周囲がダイ
アフラム9a、9bになり、前記空洞8に導入された流
体の圧力と、半導体基板2の外面周囲にある流体の圧力
との差に応じてダイアフラム9a、9bが歪む。
は、前記空洞5と連通する枠状の空洞8が形成され、こ
れによって半導体基板2の表面および裏面の周囲がダイ
アフラム9a、9bになり、前記空洞8に導入された流
体の圧力と、半導体基板2の外面周囲にある流体の圧力
との差に応じてダイアフラム9a、9bが歪む。
【0015】また、前記半導体基板2の表面には、前記
ダイアフラム9aと対応する部分にボロン等の不純物を
拡散させて半導体基板2の中心から半径方向に伸びる直
線(半径方向の直線)に沿って2つの歪みセンサ10
a、11aが形成されるとともに、前記直線と直交する
方向に伸びる直線と直交する方向(接線方向)に2つの
歪みセンサ12a、13aが形成されている。
ダイアフラム9aと対応する部分にボロン等の不純物を
拡散させて半導体基板2の中心から半径方向に伸びる直
線(半径方向の直線)に沿って2つの歪みセンサ10
a、11aが形成されるとともに、前記直線と直交する
方向に伸びる直線と直交する方向(接線方向)に2つの
歪みセンサ12a、13aが形成されている。
【0016】また、前記半導体基板2の裏面には、前記
ダイアフラム9bと対応する部分にボロン等の不純物を
拡散させて半導体基板2の中心から半径方向に伸びる直
線(半径方向の直線)に沿って2つの歪みセンサ10
b、11bが形成されるとともに、前記直線と直交する
方向に伸びる直線と直交する方向(接線方向)に2つの
歪みセンサ12b、13bが形成されている。
ダイアフラム9bと対応する部分にボロン等の不純物を
拡散させて半導体基板2の中心から半径方向に伸びる直
線(半径方向の直線)に沿って2つの歪みセンサ10
b、11bが形成されるとともに、前記直線と直交する
方向に伸びる直線と直交する方向(接線方向)に2つの
歪みセンサ12b、13bが形成されている。
【0017】そして、前記ダイアフラム9a、9bが歪
んだとき、このダイアフラム9a、9bの歪みに応じて
各歪みセンサ10a〜13bにピエゾ特性によって抵抗
変化が生じて、これが圧力差を示す信号として出力され
る。
んだとき、このダイアフラム9a、9bの歪みに応じて
各歪みセンサ10a〜13bにピエゾ特性によって抵抗
変化が生じて、これが圧力差を示す信号として出力され
る。
【0018】次に、図1ないし図3を参照しながら、こ
の実施例の構成と効果との関係について説明する。
の実施例の構成と効果との関係について説明する。
【0019】まず、前記半導体基板2の内部に設けられ
た1つの空洞8によって前記半導体基板2の表面にダイ
アフラム9aを形成するとともに、前記半導体基板2の
裏面にダイアフラム9bを形成し、さらに半導体基板2
の表面に4つの歪みセンサ10a、11a、12a、1
3aを配置するとともに、前記半導体基板2の裏面にも
4つの歪みセンサ10b、11b、12b、13bを配
置するようにしているので、各台座管3、4の空洞を介
して空洞8内に流体を導入し、この流体の圧力と半導体
基板2の周囲にある流体の圧力との差に応じて一方のダ
イアフラム9aが歪んでこのダイアフラム9a上の各歪
みセンサ10a、11a、12a、13aから差圧に応
じた信号が出力されたとき、他方のダイアフラム9bも
前記ダイアフラム9aと同様に歪んでこのダイアフラム
9b上の各歪みセンサ10b、11b、12b、13b
から前記信号に対応した信号が出力される。
た1つの空洞8によって前記半導体基板2の表面にダイ
アフラム9aを形成するとともに、前記半導体基板2の
裏面にダイアフラム9bを形成し、さらに半導体基板2
の表面に4つの歪みセンサ10a、11a、12a、1
3aを配置するとともに、前記半導体基板2の裏面にも
4つの歪みセンサ10b、11b、12b、13bを配
置するようにしているので、各台座管3、4の空洞を介
して空洞8内に流体を導入し、この流体の圧力と半導体
基板2の周囲にある流体の圧力との差に応じて一方のダ
イアフラム9aが歪んでこのダイアフラム9a上の各歪
みセンサ10a、11a、12a、13aから差圧に応
じた信号が出力されたとき、他方のダイアフラム9bも
前記ダイアフラム9aと同様に歪んでこのダイアフラム
9b上の各歪みセンサ10b、11b、12b、13b
から前記信号に対応した信号が出力される。
【0020】これによって、空洞8に1つの圧力を導入
するだけで、一方のダイアフラム9a上に形成された各
歪みセンサ10a、11a、12a、13aから出力さ
れる圧力差を示す信号と、他方のダイアフラム9b上に
形成された各歪みセンサ10b、11b、12b、13
bから出力される圧力差を示す信号とを出力することが
でき、これによって各信号の信頼性を向上させることが
できる。
するだけで、一方のダイアフラム9a上に形成された各
歪みセンサ10a、11a、12a、13aから出力さ
れる圧力差を示す信号と、他方のダイアフラム9b上に
形成された各歪みセンサ10b、11b、12b、13
bから出力される圧力差を示す信号とを出力することが
でき、これによって各信号の信頼性を向上させることが
できる。
【0021】このようにこの実施例においては、半導体
基板2の内部に枠状の空洞8を形成して前記半導体基板
2の両面にダイアフラム9a、9bを形成し、1つの圧
力を前記空洞8に導入するだけで、各ダイアフラム9
a、9bに形成された各歪みセンサ10a〜13bによ
って2種類の圧力差信号を生成するようしたので、差圧
下で生じる信号の直線性を向上させて、差圧を精度よく
検出することができ、これによって出力信号の信頼性を
向上させることができる。
基板2の内部に枠状の空洞8を形成して前記半導体基板
2の両面にダイアフラム9a、9bを形成し、1つの圧
力を前記空洞8に導入するだけで、各ダイアフラム9
a、9bに形成された各歪みセンサ10a〜13bによ
って2種類の圧力差信号を生成するようしたので、差圧
下で生じる信号の直線性を向上させて、差圧を精度よく
検出することができ、これによって出力信号の信頼性を
向上させることができる。
【0022】また、上述した実施例においては、半導体
基板2内の中心に枠状の空洞8を形成して各ダイアフラ
ム9a、9bの厚さを同一にして、各ダイアフラム9
a、9bに形成した各歪みセンサ10a〜13bから同
じ特性の信号を出力させるようにしているが、半導体基
板2内に形成される空洞8の位置を変えて一方のダイア
フラム9aの厚さと、他方のダイアフラム9bの厚さと
を異なる値にして、同一基板上に感度の違う2つの圧力
センサを構成するようにしても良い。
基板2内の中心に枠状の空洞8を形成して各ダイアフラ
ム9a、9bの厚さを同一にして、各ダイアフラム9
a、9bに形成した各歪みセンサ10a〜13bから同
じ特性の信号を出力させるようにしているが、半導体基
板2内に形成される空洞8の位置を変えて一方のダイア
フラム9aの厚さと、他方のダイアフラム9bの厚さと
を異なる値にして、同一基板上に感度の違う2つの圧力
センサを構成するようにしても良い。
【0023】これによって、低圧力測定時には、感度の
高い方のセンサ(薄い方のダイアフラムに形成された歪
みセンサ)を用いて圧力測定を行ない、また高圧力測定
時には、感度の低い方のセンサ(厚い方のダイアフラム
に形成された歪みセンサ)を用いて圧力測定を行なうこ
とができ、この結果圧力測定可能な範囲を拡張すること
ができ、極めて広い範囲の圧力を測定することができ
る。
高い方のセンサ(薄い方のダイアフラムに形成された歪
みセンサ)を用いて圧力測定を行ない、また高圧力測定
時には、感度の低い方のセンサ(厚い方のダイアフラム
に形成された歪みセンサ)を用いて圧力測定を行なうこ
とができ、この結果圧力測定可能な範囲を拡張すること
ができ、極めて広い範囲の圧力を測定することができ
る。
【0024】また、上述した実施例においては、半導体
基板2の形状を方形にするとともに、前記半導体基板2
内に方形の空洞5と、この空洞5に周囲に枠状の空洞8
とを形成し、さらに前記半導体基板2の各面に各々、円
筒状の台座管3、4を接合するようにしてるが、これら
の形状を他の形状にするようにしても良い。
基板2の形状を方形にするとともに、前記半導体基板2
内に方形の空洞5と、この空洞5に周囲に枠状の空洞8
とを形成し、さらに前記半導体基板2の各面に各々、円
筒状の台座管3、4を接合するようにしてるが、これら
の形状を他の形状にするようにしても良い。
【0025】例えば、半導体基板2の形状を方形にし、
これと接合される各台座管3、4の形状にを角筒状にし
たり、半導体基板2の形状を円形にし、これと接合され
る各台座管3、4の形状を円筒状にしたり、半導体基板
2の形状を円形にし、これと接合される各台座管3、4
の形状を角筒状にしたりしても、上述した実施例と同様
な効果を得ることができる。
これと接合される各台座管3、4の形状にを角筒状にし
たり、半導体基板2の形状を円形にし、これと接合され
る各台座管3、4の形状を円筒状にしたり、半導体基板
2の形状を円形にし、これと接合される各台座管3、4
の形状を角筒状にしたりしても、上述した実施例と同様
な効果を得ることができる。
【0026】また、上述した実施例においては、2つの
台座管3、4によって半導体基板2内に形成された導圧
路6、7を介して空洞8内に検出対象となる一方の流体
を導くようにしているが、半導体基板2に導圧路6、7
のうち、いずれか一方、例えば導圧路7のみを形成して
一方の台座管4のみを介して空洞8内に検出対象となる
一方の流体を導くようにしても良い。
台座管3、4によって半導体基板2内に形成された導圧
路6、7を介して空洞8内に検出対象となる一方の流体
を導くようにしているが、半導体基板2に導圧路6、7
のうち、いずれか一方、例えば導圧路7のみを形成して
一方の台座管4のみを介して空洞8内に検出対象となる
一方の流体を導くようにしても良い。
【0027】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、請
求項1においては、差圧下で生じる信号の直線性を向上
させて、差圧を精度よく検出することができ、これによ
って出力信号の信頼性を向上させることができ、また請
求項2においては差圧の測定範囲を広げることができ
る。
求項1においては、差圧下で生じる信号の直線性を向上
させて、差圧を精度よく検出することができ、これによ
って出力信号の信頼性を向上させることができ、また請
求項2においては差圧の測定範囲を広げることができ
る。
【図1】本発明による半導体圧力センサの一実施例を示
す平面図である。
す平面図である。
【図2】図1に示す半導体圧力センサのA−A’におけ
る断面図である。
る断面図である。
【図3】図1に示す半導体圧力センサの裏面図である。
1 半導体圧力センサ 2 半導体基板 3,4 台座管 5,8 空洞 6,7 導圧路 9a,9b ダイヤフラム 10a,10b,11a,11b,12a,12b,1
3a,13b 歪みセンサ
3a,13b 歪みセンサ
Claims (2)
- 【請求項1】 所定形状の板状部材によって構成され、
その内部に空胴が形成されて前記板状部材の表面および
裏面の前記空洞に対応する部分がダイアフラムにされる
とともに、これらの各ダイアフラム部分に各々、歪みセ
ンサが形成された半導体基板と、 所定形状の筒状部材によって構成され、前記半導体基板
の表面または裏面の少なくともいずれか一方に接合さ
れ、前記半導体基板の前記空洞に圧力を導入する台座管
と、 を備えたことを特徴とする半導体圧力センサ。 - 【請求項2】 前記半導体基板に形成される各ダイアフ
ラムは互いに厚さを変えて、一方のダイアフラムを低圧
力測定用に使用し、他方のダイアフラムを高圧力測定用
に使用する、 請求項1記載の半導体圧力センサ。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4115887A JPH05312666A (ja) | 1992-05-08 | 1992-05-08 | 半導体圧力センサ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4115887A JPH05312666A (ja) | 1992-05-08 | 1992-05-08 | 半導体圧力センサ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05312666A true JPH05312666A (ja) | 1993-11-22 |
Family
ID=14673651
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4115887A Pending JPH05312666A (ja) | 1992-05-08 | 1992-05-08 | 半導体圧力センサ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05312666A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020053196A (ja) * | 2018-09-26 | 2020-04-02 | 本田技研工業株式会社 | 燃料ガス供給装置 |
| JP2023117602A (ja) * | 2022-02-14 | 2023-08-24 | アズビル株式会社 | 水素センサ |
-
1992
- 1992-05-08 JP JP4115887A patent/JPH05312666A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2020053196A (ja) * | 2018-09-26 | 2020-04-02 | 本田技研工業株式会社 | 燃料ガス供給装置 |
| JP2023117602A (ja) * | 2022-02-14 | 2023-08-24 | アズビル株式会社 | 水素センサ |
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