JPH05312733A - Ｘ線検査方法 - Google Patents
Ｘ線検査方法Info
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- JPH05312733A JPH05312733A JP4117054A JP11705492A JPH05312733A JP H05312733 A JPH05312733 A JP H05312733A JP 4117054 A JP4117054 A JP 4117054A JP 11705492 A JP11705492 A JP 11705492A JP H05312733 A JPH05312733 A JP H05312733A
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- mask
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 Ｘ線検査方法に関し，散乱Ｘ線による影響を
除去し，検出精度の向上を目的とする。 【構成】 １）Ｘ線源と被検査物体との間に，Ｘ線透過
領域とＸ線遮断領域とを有するマスクを設け，該Ｘ線透
過領域の散乱Ｘ線量を，該Ｘ線透過領域に隣接するＸ線
遮断領域の散乱Ｘ線量から推測して，該Ｘ線透過領域の
透過Ｘ線量から該Ｘ線透過領域の散乱Ｘ線量を差し引い
て，該Ｘ線透過領域のＸ線透視画像を形成する， ２）前記マスクとして，Ｘ線透過領域とＸ線遮断領域と
をＸ線検出装置の１画素分に相当する大きさのグリッド
状に交互に配置したマスクを用い，該マスクを１画素分
移動させてＸ線透過領域とＸ線遮断領域とが入れ代わっ
た２つの画像から完全な２次元Ｘ線透視画像を形成する
ように構成する。
除去し，検出精度の向上を目的とする。 【構成】 １）Ｘ線源と被検査物体との間に，Ｘ線透過
領域とＸ線遮断領域とを有するマスクを設け，該Ｘ線透
過領域の散乱Ｘ線量を，該Ｘ線透過領域に隣接するＸ線
遮断領域の散乱Ｘ線量から推測して，該Ｘ線透過領域の
透過Ｘ線量から該Ｘ線透過領域の散乱Ｘ線量を差し引い
て，該Ｘ線透過領域のＸ線透視画像を形成する， ２）前記マスクとして，Ｘ線透過領域とＸ線遮断領域と
をＸ線検出装置の１画素分に相当する大きさのグリッド
状に交互に配置したマスクを用い，該マスクを１画素分
移動させてＸ線透過領域とＸ線遮断領域とが入れ代わっ
た２つの画像から完全な２次元Ｘ線透視画像を形成する
ように構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は非破壊で内部の組織や欠
陥を検査するＸ線検査方法に関する。電子計算機等シス
テムの高密度化，高集積化に伴って，それに用いられる
プリント板検査では外から見えない内部の検査を必要と
している。そこで，透過能力が高く，非破壊で内部の欠
陥を検査できるＸ線検査装置が用いられる。
陥を検査するＸ線検査方法に関する。電子計算機等シス
テムの高密度化，高集積化に伴って，それに用いられる
プリント板検査では外から見えない内部の検査を必要と
している。そこで，透過能力が高く，非破壊で内部の欠
陥を検査できるＸ線検査装置が用いられる。
【０００２】
【従来の技術】図８は従来のＸ線検査方法の説明図であ
る。図において，11はＸ線源，12は検出器（蛍光板），
13は被検査物体である。
る。図において，11はＸ線源，12は検出器（蛍光板），
13は被検査物体である。
【０００３】従来のＸ線検査方法では被検査物体の検査
しようとする部分から透過してくるＸ線ａだけでなく，
被検査物体の他の部分から散乱されたＸ線ｂをも検出し
てしまうため，この分Ｘ線の検出精度が下がっていた。
しようとする部分から透過してくるＸ線ａだけでなく，
被検査物体の他の部分から散乱されたＸ線ｂをも検出し
てしまうため，この分Ｘ線の検出精度が下がっていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】従来例では，被検査物
体の検査対象領域外からの散乱Ｘ線による影響により検
出精度が下がるという問題があった。
体の検査対象領域外からの散乱Ｘ線による影響により検
出精度が下がるという問題があった。
【０００５】本発明は散乱Ｘ線による影響を除去し，検
出精度の向上を目的とする。
出精度の向上を目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記課題の解決は， １）Ｘ線源と被検査物体との間に，Ｘ線透過領域とＸ線
遮断領域とを有するマスクを設け，該Ｘ線透過領域の散
乱Ｘ線量を，該Ｘ線透過領域に隣接するＸ線遮断領域の
散乱Ｘ線量から推測して，該Ｘ線透過領域の透過Ｘ線量
から該Ｘ線透過領域の散乱Ｘ線量を差し引いて，該Ｘ線
透過領域のＸ線透視画像を形成するＸ線検査方法，ある
いは ２）前記マスクとして，Ｘ線透過領域とＸ線遮断領域と
をＸ線検出装置の１画素分に相当する大きさのグリッド
状に交互に配置したマスクを用い，該マスクを１画素分
移動させてＸ線透過領域とＸ線遮断領域とが入れ代わっ
た２つの画像から完全な２次元Ｘ線透視画像を形成する
前記１）記載のＸ線検査方法により達成される。
遮断領域とを有するマスクを設け，該Ｘ線透過領域の散
乱Ｘ線量を，該Ｘ線透過領域に隣接するＸ線遮断領域の
散乱Ｘ線量から推測して，該Ｘ線透過領域の透過Ｘ線量
から該Ｘ線透過領域の散乱Ｘ線量を差し引いて，該Ｘ線
透過領域のＸ線透視画像を形成するＸ線検査方法，ある
いは ２）前記マスクとして，Ｘ線透過領域とＸ線遮断領域と
をＸ線検出装置の１画素分に相当する大きさのグリッド
状に交互に配置したマスクを用い，該マスクを１画素分
移動させてＸ線透過領域とＸ線遮断領域とが入れ代わっ
た２つの画像から完全な２次元Ｘ線透視画像を形成する
前記１）記載のＸ線検査方法により達成される。
【０００７】
【作用】本発明では，Ｘ線源と被検査物体との間に，Ｘ
線透過領域とＸ線遮断領域を有するマスクを設け，Ｘ線
透過領域の散乱Ｘ線量を，この領域に隣接するＸ線遮断
領域の散乱Ｘ線量から推測して，Ｘ線透過領域の透過Ｘ
線量からこの散乱Ｘ線量を差し引くようにして，散乱Ｘ
線による影響を除去している。
線透過領域とＸ線遮断領域を有するマスクを設け，Ｘ線
透過領域の散乱Ｘ線量を，この領域に隣接するＸ線遮断
領域の散乱Ｘ線量から推測して，Ｘ線透過領域の透過Ｘ
線量からこの散乱Ｘ線量を差し引くようにして，散乱Ｘ
線による影響を除去している。
【０００８】図１，図２，図３は本発明の原理説明図で
ある。図１は本発明の構成を示す模式図で，12は検出器
で２次元センサ，14はＸ線を完全に透過する領域１とＸ
線を完全に遮断する領域２とが交互に縦横（グリッド
状）に配置された市松模様のマスクで，このグリッド状
の大きさは２次元センサの１画素分に相当するように作
成する。
ある。図１は本発明の構成を示す模式図で，12は検出器
で２次元センサ，14はＸ線を完全に透過する領域１とＸ
線を完全に遮断する領域２とが交互に縦横（グリッド
状）に配置された市松模様のマスクで，このグリッド状
の大きさは２次元センサの１画素分に相当するように作
成する。
【０００９】図２は本発明の原理を詳細に説明する断面
図である。簡単にするため入射するＸ線は平行であると
仮定する。ここで，マスクによって交互に開閉されるマ
スク，被検査物体および検出器の領域をそれぞれ１，２
とする。 (1) マスクの領域１を開け，領域２を閉じた場合 検出器の領域１の全Ｘ線量＝１自身の透過Ｘ線＋１自
身の散乱Ｘ線＋他の１からの散乱Ｘ線 検出器の領域２の全Ｘ線量＝１からの散乱Ｘ線 (2) マスクの領域２を開け，領域１を閉じた場合 検出器の領域１の全Ｘ線量＝２からの散乱Ｘ線 検出器の領域２の全Ｘ線量＝２自身の透過Ｘ線＋２自
身の散乱Ｘ線＋他の２からの散乱Ｘ線 (3）マスクの領域１，２を開けた場合（マスクなしの場
合） 検出器の領域１の全Ｘ線量＝１自身の透過Ｘ線＋１自
身の散乱Ｘ線＋他の１からの散乱Ｘ線＋２からの散
乱Ｘ線 検出器の領域２の全Ｘ線量＝２自身の透過Ｘ線＋２自
身の散乱Ｘ線＋他の２からの散乱Ｘ線＋１からの散
乱Ｘ線 ここで目的とすることは，どちらかのマスクを開けたと
きに，開けた領域のＸ線量から散乱Ｘ線量を差し引いた
透過Ｘ線量を得ることである。
図である。簡単にするため入射するＸ線は平行であると
仮定する。ここで，マスクによって交互に開閉されるマ
スク，被検査物体および検出器の領域をそれぞれ１，２
とする。 (1) マスクの領域１を開け，領域２を閉じた場合 検出器の領域１の全Ｘ線量＝１自身の透過Ｘ線＋１自
身の散乱Ｘ線＋他の１からの散乱Ｘ線 検出器の領域２の全Ｘ線量＝１からの散乱Ｘ線 (2) マスクの領域２を開け，領域１を閉じた場合 検出器の領域１の全Ｘ線量＝２からの散乱Ｘ線 検出器の領域２の全Ｘ線量＝２自身の透過Ｘ線＋２自
身の散乱Ｘ線＋他の２からの散乱Ｘ線 (3）マスクの領域１，２を開けた場合（マスクなしの場
合） 検出器の領域１の全Ｘ線量＝１自身の透過Ｘ線＋１自
身の散乱Ｘ線＋他の１からの散乱Ｘ線＋２からの散
乱Ｘ線 検出器の領域２の全Ｘ線量＝２自身の透過Ｘ線＋２自
身の散乱Ｘ線＋他の２からの散乱Ｘ線＋１からの散
乱Ｘ線 ここで目的とすることは，どちらかのマスクを開けたと
きに，開けた領域のＸ線量から散乱Ｘ線量を差し引いた
透過Ｘ線量を得ることである。
【００１０】上記の(1) ，(2) と従来例の(3）を比較す
ると，マスクの領域１，２のどちらかを閉じることによ
り，閉めた領域から他の領域に散乱していたＸ線を既
に削除されていることが分かる。
ると，マスクの領域１，２のどちらかを閉じることによ
り，閉めた領域から他の領域に散乱していたＸ線を既
に削除されていることが分かる。
【００１１】次に，領域１または２自身の散乱Ｘ線お
よび他の領域１または２からの散乱Ｘ線の算出方法に
ついて図３を用いて説明する。散乱Ｘ線，の線量に
ついては，厳密な量を検出できないため，検出器に検出
されるＸ線量から推測する。
よび他の領域１または２からの散乱Ｘ線の算出方法に
ついて図３を用いて説明する。散乱Ｘ線，の線量に
ついては，厳密な量を検出できないため，検出器に検出
されるＸ線量から推測する。
【００１２】図３(A) は微小部分dxを１箇所開けたマス
クを使用した例である。マスクにより微小部分dxのみＸ
線が透過する。このとき被検査物体に照射されたＸ線の
一部は散乱する。この際, 検出器を被検査物体に近づけ
ると微小部分dxをピーク中心とした対称型の散乱Ｘ線の
分布(a) が得られる。検出器を被検査物体から遠ざける
と散乱Ｘ線の分布(b) がなだらかとなる。これは, 散乱
によってＸ線の進路が曲げられているからである。
クを使用した例である。マスクにより微小部分dxのみＸ
線が透過する。このとき被検査物体に照射されたＸ線の
一部は散乱する。この際, 検出器を被検査物体に近づけ
ると微小部分dxをピーク中心とした対称型の散乱Ｘ線の
分布(a) が得られる。検出器を被検査物体から遠ざける
と散乱Ｘ線の分布(b) がなだらかとなる。これは, 散乱
によってＸ線の進路が曲げられているからである。
【００１３】図３(B) は微小部分dxを隣接して２箇所開
けたマスクを使用した例である。図３(C) は図３(A) の
検出器が遠い場合の拡大図である。図において，，マス
クのグリッド間隔が微小で被検査物体と検出器の距離が
大きいと仮定すれば，上記のように散乱分布がなだらか
になり，微小部分dx1 に入射するdx1 自身による散乱量
は, 近傍の微小部分dx2 におけるＸ線量で近似できる。
けたマスクを使用した例である。図３(C) は図３(A) の
検出器が遠い場合の拡大図である。図において，，マス
クのグリッド間隔が微小で被検査物体と検出器の距離が
大きいと仮定すれば，上記のように散乱分布がなだらか
になり，微小部分dx1 に入射するdx1 自身による散乱量
は, 近傍の微小部分dx2 におけるＸ線量で近似できる。
【００１４】また, 散乱分布がなだらかな場合は，近傍
の微小部分dx2 の散乱量から, 微小部分dx1 から散乱さ
れて隣のdx1'に入射する散乱Ｘ線量を推測できる。近
傍の微小部分dx2 から, 微小部分dx1 の部分の散乱Ｘ線
量を推測する具体例として, 検出器が被検査物体に対し
て十分に遠くにあり, 散乱Ｘ線がなだらかに分布してい
ると仮定してよいときには，近傍の微小部分dx2 のＸ線
量の平均値を微小部分dx1 の散乱量とすることができ
る。また，検出器が被検査物体に対して近いときは，近
傍の微小部分dx2 のＸ線量の平均値に補正関数ｆ(x) を
掛けた値を微小部分 dx1 の散乱量とすることもでき
る。
の微小部分dx2 の散乱量から, 微小部分dx1 から散乱さ
れて隣のdx1'に入射する散乱Ｘ線量を推測できる。近
傍の微小部分dx2 から, 微小部分dx1 の部分の散乱Ｘ線
量を推測する具体例として, 検出器が被検査物体に対し
て十分に遠くにあり, 散乱Ｘ線がなだらかに分布してい
ると仮定してよいときには，近傍の微小部分dx2 のＸ線
量の平均値を微小部分dx1 の散乱量とすることができ
る。また，検出器が被検査物体に対して近いときは，近
傍の微小部分dx2 のＸ線量の平均値に補正関数ｆ(x) を
掛けた値を微小部分 dx1 の散乱量とすることもでき
る。
【００１５】このため, 図１でＸ線を透過する領域１の
散乱Ｘ線量は，その近傍のＸ線を遮断する領域２の平均
をとり，これを全Ｘ線量より差し引くことにより，散乱
Ｘ線を除去した透過Ｘ線画像を得ることができる。
散乱Ｘ線量は，その近傍のＸ線を遮断する領域２の平均
をとり，これを全Ｘ線量より差し引くことにより，散乱
Ｘ線を除去した透過Ｘ線画像を得ることができる。
【００１６】しかしながら，このままではＸ線を透過す
る領域１のみの画像となるため，図４(A) のようにマス
クを左右に１画素移動させることにより，Ｘ線を透過す
る領域１とＸ線を遮断する領域２が入れ代わる。前記と
同様にして散乱Ｘ線を差し引いて作成した画像に，前に
作成した画像を加えて完全な２次元透過画像を得ること
ができる。
る領域１のみの画像となるため，図４(A) のようにマス
クを左右に１画素移動させることにより，Ｘ線を透過す
る領域１とＸ線を遮断する領域２が入れ代わる。前記と
同様にして散乱Ｘ線を差し引いて作成した画像に，前に
作成した画像を加えて完全な２次元透過画像を得ること
ができる。
【００１７】図１ではＸ線を透過する領域とＸ線を遮断
する領域とが交互に縦横に配列されたマスクを用いた
が，マスクは散乱Ｘ線の分布に適応したものであればど
のようなものでもよい。例えば，図４(B) のように９領
域中１箇所のみＸ線を透過するマスクを９回移動させて
使用してもよい。この場合は図４(A) の場合より散乱Ｘ
線量算出の精度が上がる。
する領域とが交互に縦横に配列されたマスクを用いた
が，マスクは散乱Ｘ線の分布に適応したものであればど
のようなものでもよい。例えば，図４(B) のように９領
域中１箇所のみＸ線を透過するマスクを９回移動させて
使用してもよい。この場合は図４(A) の場合より散乱Ｘ
線量算出の精度が上がる。
【００１８】上記のように，本発明によればＸ線透過画
像中の散乱Ｘ線による影響を抑制でき，透過Ｘ線をＳ／
Ｎよく検出できる。
像中の散乱Ｘ線による影響を抑制でき，透過Ｘ線をＳ／
Ｎよく検出できる。
【００１９】
【実施例】図５は本発明の実施例を説明する構成図であ
る。この図は本発明を用いた非破壊検査装置の構成の一
例を示す。
る。この図は本発明を用いた非破壊検査装置の構成の一
例を示す。
【００２０】図において，15はマスクを載せるステー
ジ, 16はステージコントローラ, 17はI/O , 18はCPU,
19, 20，21はメモリ, 22は画像入力，23はバス, 24は２
次元センサカメラである。
ジ, 16はステージコントローラ, 17はI/O , 18はCPU,
19, 20，21はメモリ, 22は画像入力，23はバス, 24は２
次元センサカメラである。
【００２１】ここでは，マスクは図１に示したものと同
じものを用い，Ｘ線透過領域の散乱Ｘ線量はその近傍の
Ｘ線遮蔽領域の散乱Ｘ線量の平均をとり，全Ｘ線量より
これを差し引くことにより，散乱Ｘ線の影響を除去した
Ｘ線透過画像を得ることができる。
じものを用い，Ｘ線透過領域の散乱Ｘ線量はその近傍の
Ｘ線遮蔽領域の散乱Ｘ線量の平均をとり，全Ｘ線量より
これを差し引くことにより，散乱Ｘ線の影響を除去した
Ｘ線透過画像を得ることができる。
【００２２】また，前記のようにマスクを左右に１画素
移動させることにより完全な２次元透過画像を得ること
ができる。図６は本発明の実施例の流れ図である。
移動させることにより完全な２次元透過画像を得ること
ができる。図６は本発明の実施例の流れ図である。
【００２３】マスクを最初の位置に置いた場合，画像入
力１として透過Ｘ線量よりマスク部分の散乱Ｘ線量の平
均を差し引いた画像１をメモリ１に記憶させる。次にマ
スクを１画素分移動して，画像入力２として透過Ｘ線量
よりマスク部分の散乱Ｘ線量の平均を差し引いた画像２
をメモリ２に記憶させる。
力１として透過Ｘ線量よりマスク部分の散乱Ｘ線量の平
均を差し引いた画像１をメモリ１に記憶させる。次にマ
スクを１画素分移動して，画像入力２として透過Ｘ線量
よりマスク部分の散乱Ｘ線量の平均を差し引いた画像２
をメモリ２に記憶させる。
【００２４】次いで，メモリ１とメモリ２のAND をと
り，メモリ３に記憶させる。図７(A) 〜(D) は実施例の
画像処理手順の説明図である。図で，横軸は距離，縦軸
は信号強度を表す。
り，メモリ３に記憶させる。図７(A) 〜(D) は実施例の
画像処理手順の説明図である。図で，横軸は距離，縦軸
は信号強度を表す。
【００２５】図７(A) において，実線はマスクのない場
合の画像入力信号を示し，点線は所望する透過Ｘ線のみ
の信号である。図７(B) は透過Ｘ線に含まれる散乱成分
を示す。
合の画像入力信号を示し，点線は所望する透過Ｘ線のみ
の信号である。図７(B) は透過Ｘ線に含まれる散乱成分
を示す。
【００２６】図７(C) は実施例のマスクを使用した場合
の信号で，マスクのない場合の画像入力入力信号から散
乱成分を引いた値が画素ごとに示されている。図７(D)
において，補正して信号の下端を揃えると，図６(A) の
点線で示される透過Ｘ線のみの入力信号が得られる。
の信号で，マスクのない場合の画像入力入力信号から散
乱成分を引いた値が画素ごとに示されている。図７(D)
において，補正して信号の下端を揃えると，図６(A) の
点線で示される透過Ｘ線のみの入力信号が得られる。
【００２７】
【発明の効果】本発明によれば，Ｘ線透過画像中で散乱
Ｘ線による影響を除去し，Ｘ線の検出精度を向上するこ
とができた。
Ｘ線による影響を除去し，Ｘ線の検出精度を向上するこ
とができた。
【図１】 本発明の原理説明図(1)
【図２】 本発明の原理説明図(2)
【図３】 本発明の原理説明図(3）
【図４】 本発明のマスクの説明図
【図５】 本発明の実施例を説明する構成図
【図６】 本発明の実施例の流れ図
【図７】 実施例の画像処理手順の説明図
【図８】 従来のＸ線検査方法の説明図
11 Ｘ線源 12 検出器（蛍光板） 13 被検査物体 14 本発明のマスク 15 マスクを載せるステージ 16 ステージコントローラ 17 I/O 18 CPU 19, 20，21 メモリ 22 画像入力 23 バス 24 ２次元センサカメラ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 西山 陽二 神奈川県川崎市中原区上小田中1015番地 富士通株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 Ｘ線源と被検査物体との間に，Ｘ線透過
領域とＸ線遮断領域とを有するマスクを設け，該Ｘ線透
過領域の散乱Ｘ線量を，該Ｘ線透過領域に隣接するＸ線
遮断領域の散乱Ｘ線量から推測して，該Ｘ線透過領域の
透過Ｘ線量から該Ｘ線透過領域の散乱Ｘ線量を差し引い
て，該Ｘ線透過領域のＸ線透視画像を形成することを特
徴とするＸ線検査方法。 - 【請求項２】 前記マスクとして，Ｘ線透過領域とＸ線
遮断領域とをＸ線検出装置の１画素分に相当する大きさ
のグリッド状に交互に配置したマスクを用い，該マスク
を１画素分移動させてＸ線透過領域とＸ線遮断領域とが
入れ代わった２つの画像から完全な２次元Ｘ線透視画像
を形成することを特徴とする請求項１記載のＸ線検査方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4117054A JPH05312733A (ja) | 1992-05-11 | 1992-05-11 | Ｘ線検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4117054A JPH05312733A (ja) | 1992-05-11 | 1992-05-11 | Ｘ線検査方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05312733A true JPH05312733A (ja) | 1993-11-22 |
Family
ID=14702285
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4117054A Withdrawn JPH05312733A (ja) | 1992-05-11 | 1992-05-11 | Ｘ線検査方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05312733A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017227541A (ja) * | 2016-06-23 | 2017-12-28 | 株式会社日立製作所 | 放射線撮像装置及び放射線撮像方法 |
| DE102019210204A1 (de) * | 2019-07-10 | 2021-01-14 | Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh | Verfahren zum Korrigieren von Streustrahlung in einem Computertomographen und Computertomograph |
-
1992
- 1992-05-11 JP JP4117054A patent/JPH05312733A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2017227541A (ja) * | 2016-06-23 | 2017-12-28 | 株式会社日立製作所 | 放射線撮像装置及び放射線撮像方法 |
| DE102019210204A1 (de) * | 2019-07-10 | 2021-01-14 | Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh | Verfahren zum Korrigieren von Streustrahlung in einem Computertomographen und Computertomograph |
| US11253215B2 (en) | 2019-07-10 | 2022-02-22 | Carl Zeiss Industrielle Messtechnik Gmbh | Method for correcting scattered radiation in a computed tomography apparatus, and computed tomography apparatus |
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