JPH05313167A - 液晶表示装置及びその輝点欠陥修正方法 - Google Patents
液晶表示装置及びその輝点欠陥修正方法Info
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- JPH05313167A JPH05313167A JP12084592A JP12084592A JPH05313167A JP H05313167 A JPH05313167 A JP H05313167A JP 12084592 A JP12084592 A JP 12084592A JP 12084592 A JP12084592 A JP 12084592A JP H05313167 A JPH05313167 A JP H05313167A
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- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 表示輝度を低下させることなく輝点欠陥の発
生を防止でき、しかも不良絵素部分のみを精度よく修正
できるようにする。 【構成】 各絵素部のうち輝点欠陥絵素部Ａにおける配
向膜１１ａ、１１ｂが、破壊・除去されている。このた
め、破壊・除去された配向膜１１ａ、１１ｂと接する液
晶層１２の液晶部分では、液晶の旋光性がなくなり、そ
れまで輝点となっていた輝点欠陥絵素部Ａが暗点とな
る。また、その修正にエキシマレーザを使用した場合
は、輝点欠陥絵素部Ａの配向膜１１ａ、１１ｂのみを破
壊・除去することが可能である。
生を防止でき、しかも不良絵素部分のみを精度よく修正
できるようにする。 【構成】 各絵素部のうち輝点欠陥絵素部Ａにおける配
向膜１１ａ、１１ｂが、破壊・除去されている。このた
め、破壊・除去された配向膜１１ａ、１１ｂと接する液
晶層１２の液晶部分では、液晶の旋光性がなくなり、そ
れまで輝点となっていた輝点欠陥絵素部Ａが暗点とな
る。また、その修正にエキシマレーザを使用した場合
は、輝点欠陥絵素部Ａの配向膜１１ａ、１１ｂのみを破
壊・除去することが可能である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばアクティブマト
リクス型液晶表示装置などの液晶表示装置及びその輝点
欠陥修正方法に関する。
リクス型液晶表示装置などの液晶表示装置及びその輝点
欠陥修正方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示装置は、マトリクス状に配設さ
れた絵素部分に設けた電極への電圧印加を制御すること
により、その絵素部分において光を透過させたり遮蔽さ
せたりし、これを全絵素に対して行うことにより表示を
行うように構成されている。特に、アクティブマトリク
ス駆動方式の液晶表示装置では、貼り合わされた一対の
ガラス基板の一方のガラス基板上にマトリクス状に配列
された絵素電極に、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を接続
し、該ＴＦＴのスイッチング動作により、各絵素電極に
電圧を印加して表示動作を行うように構成されている。
れた絵素部分に設けた電極への電圧印加を制御すること
により、その絵素部分において光を透過させたり遮蔽さ
せたりし、これを全絵素に対して行うことにより表示を
行うように構成されている。特に、アクティブマトリク
ス駆動方式の液晶表示装置では、貼り合わされた一対の
ガラス基板の一方のガラス基板上にマトリクス状に配列
された絵素電極に、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）を接続
し、該ＴＦＴのスイッチング動作により、各絵素電極に
電圧を印加して表示動作を行うように構成されている。
【０００３】ところで、上述したＴＦＴは、ガラス基板
上にゲート、ソース及びドレインの各電極や配線等の金
属薄膜を積層した多層構造である。そのＴＦＴの作製
は、上記各金属薄膜をガラス基板上に積層する工程と、
該金属薄膜をパターニングする工程とを繰り返して行わ
れる。このため、全てのＴＦＴを欠陥のない完全なもの
として作製するには、製造工程において各種条件を維持
管理するために非常な努力を要する。
上にゲート、ソース及びドレインの各電極や配線等の金
属薄膜を積層した多層構造である。そのＴＦＴの作製
は、上記各金属薄膜をガラス基板上に積層する工程と、
該金属薄膜をパターニングする工程とを繰り返して行わ
れる。このため、全てのＴＦＴを欠陥のない完全なもの
として作製するには、製造工程において各種条件を維持
管理するために非常な努力を要する。
【０００４】それ故、場合によっては、正常なＴＦＴ特
性が得られない欠陥ＴＦＴの発生や、絵素電極やＴＦＴ
へ電圧を印加する配線における短絡、断線等の発生を避
けられず、このために絵素電極に正常な電圧を印加する
ことができずに、表示を制御できない不良絵素が存在す
る液晶表示装置が製造されるという不都合があった。加
えて、上述した不良絵素を有する液晶表示装置において
は、表示部の画素に対応する電極に電圧を印加して光を
遮蔽する場合、光遮蔽部分に不良絵素が存在すると、そ
の不良絵素部分では光を遮蔽することができずに輝点と
なって不良表示となる。また、表示部周りの周囲の画素
で光を遮蔽する状態とする場合においても、光遮蔽部分
に輝点が生じて不良表示となるため、表示品位が著しく
低下するという難点があった。
性が得られない欠陥ＴＦＴの発生や、絵素電極やＴＦＴ
へ電圧を印加する配線における短絡、断線等の発生を避
けられず、このために絵素電極に正常な電圧を印加する
ことができずに、表示を制御できない不良絵素が存在す
る液晶表示装置が製造されるという不都合があった。加
えて、上述した不良絵素を有する液晶表示装置において
は、表示部の画素に対応する電極に電圧を印加して光を
遮蔽する場合、光遮蔽部分に不良絵素が存在すると、そ
の不良絵素部分では光を遮蔽することができずに輝点と
なって不良表示となる。また、表示部周りの周囲の画素
で光を遮蔽する状態とする場合においても、光遮蔽部分
に輝点が生じて不良表示となるため、表示品位が著しく
低下するという難点があった。
【０００５】このような不良絵素の発生を防止する方法
としては、従来、各絵素電極に２本の配線を接続する冗
長回路を採用し、一方の配線が破損しても、他方の配線
により表示に影響が生じないようにしている。又、不良
表示を修正する方法としては、従来、輝点画素を透過す
る光の光路上に遮蔽手段を形成し、この遮蔽手段により
不良絵素部分が輝点として見えないようにする方法が採
用されており、その遮蔽手段の形成は、例えば表示装置
に備わったガラス基板の表面に樹脂インクを塗布して不
透明とすること等によっている。
としては、従来、各絵素電極に２本の配線を接続する冗
長回路を採用し、一方の配線が破損しても、他方の配線
により表示に影響が生じないようにしている。又、不良
表示を修正する方法としては、従来、輝点画素を透過す
る光の光路上に遮蔽手段を形成し、この遮蔽手段により
不良絵素部分が輝点として見えないようにする方法が採
用されており、その遮蔽手段の形成は、例えば表示装置
に備わったガラス基板の表面に樹脂インクを塗布して不
透明とすること等によっている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た冗長回路により不良絵素の発生を防止する場合は、余
分に配線を設けているので回路が複雑になり、また配線
が増加する為に設計や製造が困難となり、更に配線の増
加により配線面積が増加して絵素電極の面積、即ち開口
面積が縮小されるために表示輝度が低下する。しかも、
両方の配線が破損した場合には、輝点の発生を防ぐこと
ができないという問題があった。
た冗長回路により不良絵素の発生を防止する場合は、余
分に配線を設けているので回路が複雑になり、また配線
が増加する為に設計や製造が困難となり、更に配線の増
加により配線面積が増加して絵素電極の面積、即ち開口
面積が縮小されるために表示輝度が低下する。しかも、
両方の配線が破損した場合には、輝点の発生を防ぐこと
ができないという問題があった。
【０００７】一方、上述した遮蔽手段により不良表示を
修正する場合は、照明光の光路系が異なると、照明光学
系毎に遮蔽手段の形成位置、即ち遮蔽位置が異なるた
め、遮光位置を決定するのに複雑な計算や労力を費や
し、また、光の散乱等を考慮すると、輝点となる不良絵
素よりも大きい範囲にわたり遮光手段を形成する必要が
ある場合もあり、隣接する正常絵素部までもが遮光され
るという問題があった。
修正する場合は、照明光の光路系が異なると、照明光学
系毎に遮蔽手段の形成位置、即ち遮蔽位置が異なるた
め、遮光位置を決定するのに複雑な計算や労力を費や
し、また、光の散乱等を考慮すると、輝点となる不良絵
素よりも大きい範囲にわたり遮光手段を形成する必要が
ある場合もあり、隣接する正常絵素部までもが遮光され
るという問題があった。
【０００８】本発明は、このような従来技術の課題を解
決すべくなされたものであり、表示輝度を低下させるこ
となく輝点欠陥の発生を防止でき、しかも不良絵素部分
のみを精度よく修正できる液晶表示装置及びその輝点欠
陥修正方法を提供することを目的とする。
決すべくなされたものであり、表示輝度を低下させるこ
となく輝点欠陥の発生を防止でき、しかも不良絵素部分
のみを精度よく修正できる液晶表示装置及びその輝点欠
陥修正方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置
は、液晶層を挟んで対向配設した２つの基板各々の液晶
層側に配向膜が形成されていると共に、表示用絵素部が
マトリクス状に配列され、背面側から表示用照明光が照
射される透過型液晶表示装置において、各絵素部のうち
輝点欠陥絵素部における２つの配向膜のうちの少なくと
も一方が、破壊・除去されており、そのことにより上記
目的を達成できる。
は、液晶層を挟んで対向配設した２つの基板各々の液晶
層側に配向膜が形成されていると共に、表示用絵素部が
マトリクス状に配列され、背面側から表示用照明光が照
射される透過型液晶表示装置において、各絵素部のうち
輝点欠陥絵素部における２つの配向膜のうちの少なくと
も一方が、破壊・除去されており、そのことにより上記
目的を達成できる。
【００１０】また、本発明の液晶表示装置の輝点欠陥修
正方法は、液晶層を挟んで対向配設した２つの基板各々
の液晶層側に配向膜が形成されていると共に、表示用絵
素部がマトリクス状に配列され、背面側から表示用照明
光が照射される透過型液晶表示装置において、各絵素部
を駆動して輝点欠陥となっている絵素部を検出する工程
と、輝点欠陥絵素部の２つの配向膜のうちの少なくとも
一方をエキシマレーザにより破壊・除去して輝点欠陥を
修正する工程と、を行うので、そのことにより上記目的
を達成できる。
正方法は、液晶層を挟んで対向配設した２つの基板各々
の液晶層側に配向膜が形成されていると共に、表示用絵
素部がマトリクス状に配列され、背面側から表示用照明
光が照射される透過型液晶表示装置において、各絵素部
を駆動して輝点欠陥となっている絵素部を検出する工程
と、輝点欠陥絵素部の２つの配向膜のうちの少なくとも
一方をエキシマレーザにより破壊・除去して輝点欠陥を
修正する工程と、を行うので、そのことにより上記目的
を達成できる。
【００１１】
【作用】本発明にあっては、各絵素部のうち輝点欠陥絵
素部における配向膜が、破壊・除去されている。このた
め、破壊・除去された配向膜と接する液晶部分では、液
晶の旋光性がなくなり、それまで輝点となっていた輝点
欠陥絵素部が暗点となる。また、その修正にエキシマレ
ーザを使用した場合は、輝点欠陥絵素部の配向膜のみを
精度よく破壊・除去することが可能である。
素部における配向膜が、破壊・除去されている。このた
め、破壊・除去された配向膜と接する液晶部分では、液
晶の旋光性がなくなり、それまで輝点となっていた輝点
欠陥絵素部が暗点となる。また、その修正にエキシマレ
ーザを使用した場合は、輝点欠陥絵素部の配向膜のみを
精度よく破壊・除去することが可能である。
【００１２】
【実施例】以下、本発明の実施例を説明する。
【００１３】図１は本発明の輝点欠陥修正方法により修
正された液晶表示装置の一部を示す断面図、図２は図１
と同一部分における修正前の断面図である。この液晶表
示装置は、間に液晶層１２を挟んで対向配設されたＴＦ
Ｔ基板７と対向基板６とを有する。ＴＦＴ基板７は、ガ
ラス基板８ａの上にＴＦＴ１４と絵素電極１３とがマト
リクス状に形成され、その上の液晶層１２側に配向膜１
１ａが全面にわたり形成されている。一方の対向基板６
は、ガラス基板８ｂの上にブラックマスク９と、対向電
極１０と、配向膜１１ｂとがこの順に形成されており、
この配向膜１１ｂを液晶層１２側にして配設されてい
る。
正された液晶表示装置の一部を示す断面図、図２は図１
と同一部分における修正前の断面図である。この液晶表
示装置は、間に液晶層１２を挟んで対向配設されたＴＦ
Ｔ基板７と対向基板６とを有する。ＴＦＴ基板７は、ガ
ラス基板８ａの上にＴＦＴ１４と絵素電極１３とがマト
リクス状に形成され、その上の液晶層１２側に配向膜１
１ａが全面にわたり形成されている。一方の対向基板６
は、ガラス基板８ｂの上にブラックマスク９と、対向電
極１０と、配向膜１１ｂとがこの順に形成されており、
この配向膜１１ｂを液晶層１２側にして配設されてい
る。
【００１４】かかる構成の液晶表示装置に適用される本
発明の輝点欠陥修正方法は、以下のように行われる。先
ず、液晶表示装置の背面に設けた上記光源（図示せず）
からの照明光を液晶表示装置に照射する状態で、液晶表
示装置を駆動させる。これにより、本来暗点である筈の
絵素部が輝点となっていると、その部分が輝点欠陥絵素
部Ａであると判定される。
発明の輝点欠陥修正方法は、以下のように行われる。先
ず、液晶表示装置の背面に設けた上記光源（図示せず）
からの照明光を液晶表示装置に照射する状態で、液晶表
示装置を駆動させる。これにより、本来暗点である筈の
絵素部が輝点となっていると、その部分が輝点欠陥絵素
部Ａであると判定される。
【００１５】次いで、エキシマレーザ加工装置を使用し
て、図２に示すように輝点欠陥絵素部Ａのあるブラック
マスク９の開口部にエキシマレーザ光を照射する。この
照射は、例えばガラス基板８ａ側とガラス基板８ｂ側の
両方から行い、図１に示すように配向膜１１ａ、１１ｂ
を破壊・除去する。
て、図２に示すように輝点欠陥絵素部Ａのあるブラック
マスク９の開口部にエキシマレーザ光を照射する。この
照射は、例えばガラス基板８ａ側とガラス基板８ｂ側の
両方から行い、図１に示すように配向膜１１ａ、１１ｂ
を破壊・除去する。
【００１６】このように処理された液晶表示装置は、輝
点欠陥絵素部Ａに存在した配向膜１１ａ、１１ｂが破壊
・除去されて消失しているので、その消失した部分の配
向膜１１ａ、１１ｂと接する液晶層１２の旋光性がなく
なり、それまで輝点となっていた輝点欠陥部が暗点とな
ることにより輝点欠陥絵素部Ａが修正される。
点欠陥絵素部Ａに存在した配向膜１１ａ、１１ｂが破壊
・除去されて消失しているので、その消失した部分の配
向膜１１ａ、１１ｂと接する液晶層１２の旋光性がなく
なり、それまで輝点となっていた輝点欠陥部が暗点とな
ることにより輝点欠陥絵素部Ａが修正される。
【００１７】その修正原理を、液晶表示装置にＴＮ−Ｌ
ＣＤを用いた場合を例に挙げ、図３に基づきより詳細に
説明する。図３（ａ）に示すように、配向膜２、２で挟
まれた液晶層４に電圧を印加しない場合、入射側偏光フ
ィルム１に入射した光５は、入射側偏光フィルム１にて
振動方向が一方向のものだけになり、液晶層４の９０°
捩れ構造にて光振動方向が９０°回転（旋光）し、この
回転により偏光方向が入射側偏光フィルム１と９０°異
なる出射側偏光フィルター３を透過することとなり、そ
の光透過部分の絵素部では明点となる。これに対し、図
３（ｂ）に示すように、液晶層４に電圧を印加すると、
液晶層４の９０°捩れ構造が崩れるため、光振動方向が
９０°回転（旋光）せず、このために出射側偏光フィル
ター３で遮光されることとなり、暗点となる。
ＣＤを用いた場合を例に挙げ、図３に基づきより詳細に
説明する。図３（ａ）に示すように、配向膜２、２で挟
まれた液晶層４に電圧を印加しない場合、入射側偏光フ
ィルム１に入射した光５は、入射側偏光フィルム１にて
振動方向が一方向のものだけになり、液晶層４の９０°
捩れ構造にて光振動方向が９０°回転（旋光）し、この
回転により偏光方向が入射側偏光フィルム１と９０°異
なる出射側偏光フィルター３を透過することとなり、そ
の光透過部分の絵素部では明点となる。これに対し、図
３（ｂ）に示すように、液晶層４に電圧を印加すると、
液晶層４の９０°捩れ構造が崩れるため、光振動方向が
９０°回転（旋光）せず、このために出射側偏光フィル
ター３で遮光されることとなり、暗点となる。
【００１８】したがって、本発明は、上記配向膜２をエ
キシマレーザ光にて破壊・除去し、輝点欠陥絵素部の液
晶層の９０°捩れ構造を崩すことにより、輝点を暗点に
して修正している。なお、破壊・除去する配向膜は、Ｔ
ＦＴ基板７側の配向膜１１ａだけでも、或は対向基板６
側の配向膜１１ｂだけでもよい。
キシマレーザ光にて破壊・除去し、輝点欠陥絵素部の液
晶層の９０°捩れ構造を崩すことにより、輝点を暗点に
して修正している。なお、破壊・除去する配向膜は、Ｔ
ＦＴ基板７側の配向膜１１ａだけでも、或は対向基板６
側の配向膜１１ｂだけでもよい。
【００１９】図４に、本発明の輝点欠陥修正方法に適用
可能なエキシマレーザ加工装置を示す。この装置は、エ
キシマレーザ発振器１６から輝点欠陥修正用のレーザビ
ーム１８を出射し、出射されたレーザビーム１８をマス
クパターン１７に通して反射ミラー１９で反射させた
後、縮小レンズ２０を経て載置台２２上に載置された液
晶表示装置２１に上側から集光照射する。一方、レーザ
ビーム１８とは別に、液晶表示装置２１の下側に設けた
図示しない光源から発せられた照明光２４を偏光フィル
ター２３ａを通過させて液晶表示装置２１に照射し、液
晶表示装置２１を透過して偏光フィルター２３ｂを通過
した照明光２４に基づいて、液晶表示装置２１の上方に
設けたカメラ２５にて液晶表示装置２１を拡大観察でき
るように構成されている。なお、カメラ２５により液晶
表示装置２１の拡大観察が可能なように、載置台２２は
液晶表示装置２１の周辺部を支持する部分を除いて中空
の筒状体となっており、また反射ミラー１９は紫外線を
反射し可視光線を透過するものを使用している。更に、
載置台２２は、レーザビーム１８を液晶表示装置２１の
輝点修正部に照射できるように移動可能になっている。
上記マスクパターン１７は、輝点欠陥絵素部の外形サイ
ズを、縮小レンズ２０の縮小率分だけ拡大した大きさの
パターンが形成されたものであり、該マスクパターン１
７を通ったレーザビーム１８を縮小露光させて輝点欠陥
絵素部に精度よく照射できるようになっている。
可能なエキシマレーザ加工装置を示す。この装置は、エ
キシマレーザ発振器１６から輝点欠陥修正用のレーザビ
ーム１８を出射し、出射されたレーザビーム１８をマス
クパターン１７に通して反射ミラー１９で反射させた
後、縮小レンズ２０を経て載置台２２上に載置された液
晶表示装置２１に上側から集光照射する。一方、レーザ
ビーム１８とは別に、液晶表示装置２１の下側に設けた
図示しない光源から発せられた照明光２４を偏光フィル
ター２３ａを通過させて液晶表示装置２１に照射し、液
晶表示装置２１を透過して偏光フィルター２３ｂを通過
した照明光２４に基づいて、液晶表示装置２１の上方に
設けたカメラ２５にて液晶表示装置２１を拡大観察でき
るように構成されている。なお、カメラ２５により液晶
表示装置２１の拡大観察が可能なように、載置台２２は
液晶表示装置２１の周辺部を支持する部分を除いて中空
の筒状体となっており、また反射ミラー１９は紫外線を
反射し可視光線を透過するものを使用している。更に、
載置台２２は、レーザビーム１８を液晶表示装置２１の
輝点修正部に照射できるように移動可能になっている。
上記マスクパターン１７は、輝点欠陥絵素部の外形サイ
ズを、縮小レンズ２０の縮小率分だけ拡大した大きさの
パターンが形成されたものであり、該マスクパターン１
７を通ったレーザビーム１８を縮小露光させて輝点欠陥
絵素部に精度よく照射できるようになっている。
【００２０】このエキシマレーザ加工装置による輝点欠
陥修正は以下のように行われる。
陥修正は以下のように行われる。
【００２１】先ず、載置台２２の上に液晶表示装置２１
を前面側を上にして載置する。続いて、その液晶表示装
置２１の背面に設けた上記光源（図示せず）から照明光
２４を液晶表示装置２１に照射する状態で、液晶表示装
置２１を駆動させる。これにより、本来暗点である筈の
絵素部が輝点となっていると、その部分が輝点欠陥絵素
部であると判定される。
を前面側を上にして載置する。続いて、その液晶表示装
置２１の背面に設けた上記光源（図示せず）から照明光
２４を液晶表示装置２１に照射する状態で、液晶表示装
置２１を駆動させる。これにより、本来暗点である筈の
絵素部が輝点となっていると、その部分が輝点欠陥絵素
部であると判定される。
【００２２】次に、このようにして判定された輝点欠陥
絵素部に、エキシマレーザ発振器１６から出射したレー
ザビーム１８を、マスクパターン１７、反射ミラー１９
および縮小レンズ２０を経て集光照射し、欠陥修正す
る。
絵素部に、エキシマレーザ発振器１６から出射したレー
ザビーム１８を、マスクパターン１７、反射ミラー１９
および縮小レンズ２０を経て集光照射し、欠陥修正す
る。
【００２３】なお、このエキシマレーザ加工装置に使用
されるレーザ波長例としては、ＸｅＣｌによる場合は３
０８ｍｍ、ＸｅＦによる場合は３５１ｍｍである。ま
た、液晶表示装置２１のガラス基板の透過率は、３０８
ｍｍで２０％程度、３５１ｍｍで９０％程度であった。
この透過率に合わせて照射レーザパワーの調整を行うこ
とを要する。
されるレーザ波長例としては、ＸｅＣｌによる場合は３
０８ｍｍ、ＸｅＦによる場合は３５１ｍｍである。ま
た、液晶表示装置２１のガラス基板の透過率は、３０８
ｍｍで２０％程度、３５１ｍｍで９０％程度であった。
この透過率に合わせて照射レーザパワーの調整を行うこ
とを要する。
【００２４】本発明では使用するレーザ光としてエキシ
マレーザ光に限定している。その理由は、以下の通りで
ある。ＣＯ2レーザやＹＡＧレーザを使用することも考
えられるが、これらのレーザ光は熱影響が大きく、また
波長も長い為、輝点欠陥絵素部の配向膜だけを破壊する
ことが非常に困難である。これに対し、エキシマレーザ
光を使用する場合は、ガラス基板を透過する波長を選べ
ること、光化学反応にて配向膜を破壊・除去できるので
熱的影響がないこと、及び波長が短いために、例えば５
０μｍ×１００μｍの狭い開口部に対しても充分な分解
能がえられること等の特徴を有し、輝点欠陥絵素部の配
向膜のみを破壊する事が可能であるという理由である。
マレーザ光に限定している。その理由は、以下の通りで
ある。ＣＯ2レーザやＹＡＧレーザを使用することも考
えられるが、これらのレーザ光は熱影響が大きく、また
波長も長い為、輝点欠陥絵素部の配向膜だけを破壊する
ことが非常に困難である。これに対し、エキシマレーザ
光を使用する場合は、ガラス基板を透過する波長を選べ
ること、光化学反応にて配向膜を破壊・除去できるので
熱的影響がないこと、及び波長が短いために、例えば５
０μｍ×１００μｍの狭い開口部に対しても充分な分解
能がえられること等の特徴を有し、輝点欠陥絵素部の配
向膜のみを破壊する事が可能であるという理由である。
【００２５】したがって、本発明によりＴＦＴ基板７側
の配向膜１１ａを破壊・除去する場合は、ＴＦＴ基板７
上にＴＦＴ１４や配線が絵素電極１３に接近した状態で
形成されていても、エキシマレーザ光の波長が３０８．
３５１ｍｍと短いので、ＴＦＴ１４や配線を傷付けるこ
となく行うことができるという利点も有る。
の配向膜１１ａを破壊・除去する場合は、ＴＦＴ基板７
上にＴＦＴ１４や配線が絵素電極１３に接近した状態で
形成されていても、エキシマレーザ光の波長が３０８．
３５１ｍｍと短いので、ＴＦＴ１４や配線を傷付けるこ
となく行うことができるという利点も有る。
【００２６】
【発明の効果】本発明による場合には、輝点欠陥絵素部
の配向膜を破壊・除去することにより輝点を暗くするこ
とができるので、従来のように冗長回路を必要とせず、
また輝点透過光路上に遮蔽手段を設ける必要がない。こ
のため、遮蔽手段を設けるときの位置や面積の決定に労
力を費やすのを解消できる。又、欠陥修正にエキシマレ
ーザの光化学反応を用いる為、ＹＡＧレーザ等の熱処理
加工レーザを用いる時の様に周辺部への熱影響も殆どな
く、また波長が短いため精度よく輝点欠陥絵素部のみを
加工することが可能である。
の配向膜を破壊・除去することにより輝点を暗くするこ
とができるので、従来のように冗長回路を必要とせず、
また輝点透過光路上に遮蔽手段を設ける必要がない。こ
のため、遮蔽手段を設けるときの位置や面積の決定に労
力を費やすのを解消できる。又、欠陥修正にエキシマレ
ーザの光化学反応を用いる為、ＹＡＧレーザ等の熱処理
加工レーザを用いる時の様に周辺部への熱影響も殆どな
く、また波長が短いため精度よく輝点欠陥絵素部のみを
加工することが可能である。
【図１】本発明の輝点欠陥修正方法を適用した後の液晶
表示装置を示す断面図。
表示装置を示す断面図。
【図２】本発明の輝点欠陥修正方法を適用する前の液晶
表示装置を示す断面図。
表示装置を示す断面図。
【図３】本発明の輝点欠陥修正原理を、液晶表示装置が
ＴＮ・ＬＣＤの場合を例に挙げて説明するための図。
ＴＮ・ＬＣＤの場合を例に挙げて説明するための図。
【図４】本発明の輝点欠陥修正方法に適用できるエキシ
マレーザ加工装置例を示す模式図。
マレーザ加工装置例を示す模式図。
１ 偏光フィルター ２ 配向膜 ３ 液晶層 ５ 光 ６ 対向基板 ７ ＴＦＴ基板 ８ ガラス基板 ９ ブラックマスク １０ 対向電極 １１ａ、１１ｂ 配向膜 １２ 液晶層 １３ 絵素電極 １４ ＴＦＴ １６ エキシマレーザ発振器 １７ マスクパターン １８ レーザビーム １９ 反射ミラー ２０ 縮小レンズ ２１ 液晶表示装置 ２２ 載置台 ２３ａ、２３ｂ 偏光フィルター ２４ 照明光 ２５ カメラ
Claims (2)
- 【請求項１】液晶層を挟んで対向配設した２つの基板各
々の液晶層側に配向膜が形成されていると共に、表示用
絵素部がマトリクス状に配列され、背面側から表示用照
明光が照射される透過型液晶表示装置において、 各絵素部のうち輝点欠陥絵素部における２つの配向膜の
うちの少なくとも一方が、破壊・除去された液晶表示装
置。 - 【請求項２】液晶層を挟んで対向配設した２つの基板各
々の液晶層側に配向膜が形成されていると共に、表示用
絵素部がマトリクス状に配列され、背面側から表示用照
明光が照射される透過型液晶表示装置において、 各絵素部を駆動して輝点欠陥となっている絵素部を検出
する工程と、 輝点欠陥絵素部の２つの配向膜のうちの少なくとも一方
をエキシマレーザにより破壊・除去して輝点欠陥を修正
する工程と、 を行う液晶表示装置の輝点欠陥修正方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4120845A JP2994853B2 (ja) | 1992-05-13 | 1992-05-13 | 液晶表示装置の欠陥修正方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4120845A JP2994853B2 (ja) | 1992-05-13 | 1992-05-13 | 液晶表示装置の欠陥修正方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05313167A true JPH05313167A (ja) | 1993-11-26 |
| JP2994853B2 JP2994853B2 (ja) | 1999-12-27 |
Family
ID=14796384
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4120845A Expired - Lifetime JP2994853B2 (ja) | 1992-05-13 | 1992-05-13 | 液晶表示装置の欠陥修正方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2994853B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002341349A (ja) * | 2001-05-16 | 2002-11-27 | Toshiba Corp | 液晶表示装置及びその製造方法 |
| KR100510419B1 (ko) * | 2001-09-27 | 2005-08-26 | 레이저프론트 테크놀로지스 가부시키가이샤 | 액정표시장치용 래스터 결함 수정 방법 및 이를 위한래스터 결함 수정 장치 |
| WO2007132586A1 (ja) * | 2006-05-16 | 2007-11-22 | Sharp Kabushiki Kaisha | 表示パネルの製造方法、表示パネルの製造装置、及び表示パネル |
| KR100816594B1 (ko) * | 2005-06-03 | 2008-03-24 | 가부시끼가이샤 도시바 | 액정 패널의 보수 방법 및 장치 |
| KR100821004B1 (ko) * | 2005-07-14 | 2008-04-10 | 가부시끼가이샤 도시바 | 액정 패널 및 이를 수리하는 방법 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02127614A (ja) * | 1988-11-08 | 1990-05-16 | Fujitsu Ltd | アクティブマトリクス型液晶表示装置の製造方法 |
| JPH02196219A (ja) * | 1989-01-25 | 1990-08-02 | Agency Of Ind Science & Technol | レーザーを用いた液晶配向膜の作製方法 |
-
1992
- 1992-05-13 JP JP4120845A patent/JP2994853B2/ja not_active Expired - Lifetime
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| US8045132B2 (en) | 2005-06-03 | 2011-10-25 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method and apparatus for repairing a liquid crystal panel |
| KR100821004B1 (ko) * | 2005-07-14 | 2008-04-10 | 가부시끼가이샤 도시바 | 액정 패널 및 이를 수리하는 방법 |
| US7692739B2 (en) | 2005-07-14 | 2010-04-06 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Liquid crystal panel and method of repairing same |
| CN101004491B (zh) | 2005-07-14 | 2010-12-15 | 株式会社东芝 | 液晶面板及其修补方法 |
| WO2007132586A1 (ja) * | 2006-05-16 | 2007-11-22 | Sharp Kabushiki Kaisha | 表示パネルの製造方法、表示パネルの製造装置、及び表示パネル |
| US7880844B2 (en) | 2006-05-16 | 2011-02-01 | Sharp Kabushiki Kaisha | Display panel manufacturing method, display panel manufacturing apparatus, and display panel |
| US8023097B2 (en) | 2006-05-16 | 2011-09-20 | Sharp Kabushiki Kaisha | Display panel manufacturing method, display panel manufacturing apparatus, and display panel |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2994853B2 (ja) | 1999-12-27 |
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