JPH0531468A - 導電性支持体の超音波洗浄方法 - Google Patents
導電性支持体の超音波洗浄方法Info
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- JPH0531468A JPH0531468A JP21013291A JP21013291A JPH0531468A JP H0531468 A JPH0531468 A JP H0531468A JP 21013291 A JP21013291 A JP 21013291A JP 21013291 A JP21013291 A JP 21013291A JP H0531468 A JPH0531468 A JP H0531468A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 円筒状導電性支持体の外周面の洗浄効果を高
める。 【構成】 一方の端部が閉塞された円筒状導電性支持体
の閉塞された側を上にして洗浄液に浸漬し、支持体内部
に残った空気を抜き、洗浄液を侵入させて、超音波洗浄
を行う。
める。 【構成】 一方の端部が閉塞された円筒状導電性支持体
の閉塞された側を上にして洗浄液に浸漬し、支持体内部
に残った空気を抜き、洗浄液を侵入させて、超音波洗浄
を行う。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、導電性支持体の超音波
洗浄方法に関する。
洗浄方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】電子部品等の洗浄方法に関しては、被洗
浄物を、洗浄槽の周、底部に設けた振動源から （２ｎ＋１）λ／４ （ｎ＝０，１，２，・・・，λ：波長） の位置に浮遊させることを特徴とする超音波洗浄方法
が、特開昭５７−２０９６７７号公報に開示されてい
る。また、支持体に蓋がある場合、洗浄槽に洗浄液を入
れ、蓋部を上にして導電性支持体を浸漬し、内部が空洞
のまま揺動し、底部と両側部より超音波洗浄を行うこと
は、従来においても実施されていた。
浄物を、洗浄槽の周、底部に設けた振動源から （２ｎ＋１）λ／４ （ｎ＝０，１，２，・・・，λ：波長） の位置に浮遊させることを特徴とする超音波洗浄方法
が、特開昭５７−２０９６７７号公報に開示されてい
る。また、支持体に蓋がある場合、洗浄槽に洗浄液を入
れ、蓋部を上にして導電性支持体を浸漬し、内部が空洞
のまま揺動し、底部と両側部より超音波洗浄を行うこと
は、従来においても実施されていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところが、従来技術で
は、底部からの超音波振動によるキャビテーション効果
により発生した気泡がつぶれるときの衝撃波の音圧は、
ドラム内部が空洞であるため（音響インピーダンスが小
さい）、図５に示すように空気４１と導電性支持体４３
の境界面よりλ／４（λは波長）離れた所に最大音圧が
現れる。すなわち、図５中４４が音圧最大位置である。
また、４２は洗浄液である。従って、支持体の被洗浄面
の洗浄効果が低いという問題があった。本発明は上記の
点を解決しようとするもので、その目的は導電性支持体
内部に洗浄液（空気に比べて音響インピーダンスが大き
い）を入れて、導電性支持体と洗浄液の境界面が最大音
圧部となるようにして、導電性支持体の外周面の洗浄効
果を高めようとするものである。
は、底部からの超音波振動によるキャビテーション効果
により発生した気泡がつぶれるときの衝撃波の音圧は、
ドラム内部が空洞であるため（音響インピーダンスが小
さい）、図５に示すように空気４１と導電性支持体４３
の境界面よりλ／４（λは波長）離れた所に最大音圧が
現れる。すなわち、図５中４４が音圧最大位置である。
また、４２は洗浄液である。従って、支持体の被洗浄面
の洗浄効果が低いという問題があった。本発明は上記の
点を解決しようとするもので、その目的は導電性支持体
内部に洗浄液（空気に比べて音響インピーダンスが大き
い）を入れて、導電性支持体と洗浄液の境界面が最大音
圧部となるようにして、導電性支持体の外周面の洗浄効
果を高めようとするものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明は、一端部が閉塞
された円筒状導電性導電性支持体の閉塞された側を上に
して洗浄液に浸漬し、導電性支持体内部に残った空気を
抜き、洗浄液を侵入させて、超音波洗浄を行うことを特
徴とする。すなわち、蓋のある円筒状導電性支持体に対
して、図１（ａ）のように超音波振動６によって洗浄液
２が導電性支持体３の表面に与える洗浄効果よりも，図
１（ｂ）のように導電性支持体３の内部の空気をポンプ
７で抜き、洗浄液２を導電性支持体３の内部にまで侵入
させ、超音波振動６を行った方が、導電性支持体３の表
面が最大音圧部となり効果的に洗浄できるからである。
された円筒状導電性導電性支持体の閉塞された側を上に
して洗浄液に浸漬し、導電性支持体内部に残った空気を
抜き、洗浄液を侵入させて、超音波洗浄を行うことを特
徴とする。すなわち、蓋のある円筒状導電性支持体に対
して、図１（ａ）のように超音波振動６によって洗浄液
２が導電性支持体３の表面に与える洗浄効果よりも，図
１（ｂ）のように導電性支持体３の内部の空気をポンプ
７で抜き、洗浄液２を導電性支持体３の内部にまで侵入
させ、超音波振動６を行った方が、導電性支持体３の表
面が最大音圧部となり効果的に洗浄できるからである。
【０００５】
【実施例】次に、実施例を挙げて本発明を説明する。洗
浄ブース内の構成ユニットを図２に示す。入り口コンベ
ア２１に載せられた導電性支持体が、間欠送りで洗浄ブ
ース２０に入り、スプレー槽２２、温浴超音波槽２３、
冷浴超音波槽２４、蒸気槽２５を順次搬送されながら自
動的に洗浄が行われ、出口コンベア２６により、次工程
に送り出される。本工程の目的は導電性支持体の仕上げ
であり、素管の汚れ、付着物等を除去し次工程の塗工に
おいて塗膜欠陥にならないようにするものである。
浄ブース内の構成ユニットを図２に示す。入り口コンベ
ア２１に載せられた導電性支持体が、間欠送りで洗浄ブ
ース２０に入り、スプレー槽２２、温浴超音波槽２３、
冷浴超音波槽２４、蒸気槽２５を順次搬送されながら自
動的に洗浄が行われ、出口コンベア２６により、次工程
に送り出される。本工程の目的は導電性支持体の仕上げ
であり、素管の汚れ、付着物等を除去し次工程の塗工に
おいて塗膜欠陥にならないようにするものである。
【０００６】次に、上記ブース内の温浴超音波槽２３、
冷浴超音波槽２４の構造を図３に示す。なお、図３中５
は超音波振動子、７，８はポンプ、３１は蒸留器、３２
は水分分離器、３３はシャワータンク、３４は冷却管、
３５はシャワー、３６はパレットである。図２に示した
スプレー槽２２より搬送された導電性支持体３は、温浴
超音波槽２３で受け取られ、下降動作となり、下降中に
ポンプ７により導電性支持体内の空気を抜くことによっ
て洗浄液が満たされ、超音波洗浄が行われる。その後、
導電性支持体は上昇動作に移り、ポンプ８より導電性支
持体内部に空気が送り込まれ、洗浄液を排出し、上昇端
に到達し、次の冷浴超音波槽２４に搬送され同じ動作を
繰り返す。温浴、冷浴各槽の液温、その他の条件は以下
の通りである。 ＜液温＞ Ｎｏ．２温浴槽 ４０〜６０℃ Ｎｏ．３冷浴槽 ３０℃ シャワー ２０〜３０℃ ＜導電性支持体＞ アルミドラム ４本２列 ＜超音波発振子＞ Ｎｏ．２温浴槽 手前、底、背部 １．２ｋＷ、
２６ｋＨｚ Ｎｏ．３冷浴槽 手前、底、背部 １．２ｋＷ、
２６ｋＨｚ ＜揺動振幅＞ Ｎｏ．２温浴槽 ５０〜６０ｍｍ Ｎｏ．３冷浴槽 ５０〜６０ｍｍ
冷浴超音波槽２４の構造を図３に示す。なお、図３中５
は超音波振動子、７，８はポンプ、３１は蒸留器、３２
は水分分離器、３３はシャワータンク、３４は冷却管、
３５はシャワー、３６はパレットである。図２に示した
スプレー槽２２より搬送された導電性支持体３は、温浴
超音波槽２３で受け取られ、下降動作となり、下降中に
ポンプ７により導電性支持体内の空気を抜くことによっ
て洗浄液が満たされ、超音波洗浄が行われる。その後、
導電性支持体は上昇動作に移り、ポンプ８より導電性支
持体内部に空気が送り込まれ、洗浄液を排出し、上昇端
に到達し、次の冷浴超音波槽２４に搬送され同じ動作を
繰り返す。温浴、冷浴各槽の液温、その他の条件は以下
の通りである。 ＜液温＞ Ｎｏ．２温浴槽 ４０〜６０℃ Ｎｏ．３冷浴槽 ３０℃ シャワー ２０〜３０℃ ＜導電性支持体＞ アルミドラム ４本２列 ＜超音波発振子＞ Ｎｏ．２温浴槽 手前、底、背部 １．２ｋＷ、
２６ｋＨｚ Ｎｏ．３冷浴槽 手前、底、背部 １．２ｋＷ、
２６ｋＨｚ ＜揺動振幅＞ Ｎｏ．２温浴槽 ５０〜６０ｍｍ Ｎｏ．３冷浴槽 ５０〜６０ｍｍ
【０００７】上記の装置により洗浄した導電性支持体を
浸漬塗工により下引き層、電荷発生層、電荷輸送層を形
成させ、塗膜の欠陥数を調べた。この結果を表１に示
す。
浸漬塗工により下引き層、電荷発生層、電荷輸送層を形
成させ、塗膜の欠陥数を調べた。この結果を表１に示
す。
【０００８】
【表１】
【０００９】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
より導電性支持体の外周面の洗浄効果が向上し、塗膜欠
陥数が大幅に減少したことがわかる。
より導電性支持体の外周面の洗浄効果が向上し、塗膜欠
陥数が大幅に減少したことがわかる。
【図１】（ａ）は導電性支持体内に空気がある状態にお
ける、超音波洗浄の概念図である。 （ｂ）は導電性支持体内に洗浄液が満たされた状態にお
ける、超音波洗浄の概念図である。
ける、超音波洗浄の概念図である。 （ｂ）は導電性支持体内に洗浄液が満たされた状態にお
ける、超音波洗浄の概念図である。
【図２】洗浄ブース内の構成ユニットの工程図である。
【図３】温浴（冷浴）超音波洗浄槽の回路図である。
【図４】（ａ）は被洗浄導電性支持体の内部に洗浄液が
ない場合、（ｂ）は洗浄液がある場合の導電性支持体表
面付近における超音波の波形状態を示す説明図である。
ない場合、（ｂ）は洗浄液がある場合の導電性支持体表
面付近における超音波の波形状態を示す説明図である。
１ 洗浄槽
２ 洗浄液
３ 導電性支持体（被洗浄体）
４ 揺動振幅
５ 超音波振動子
６ 超音波振動
７ 空気抜きポンプ
８ 空気挿入ポンプ
２１ 入り口コンベア
２２ スプレー槽
２３ 温浴超音波洗浄槽
２４ 冷浴超音波洗浄槽
２５ 蒸気槽
２６ 出口コンベア
３１ 洗浄液の蒸溜器
３２ 洗浄液の水分分離器
３３ シャワータンク
３４ 冷却管
３５ シャワー
３６ パレット
４１ 空気
４２ 洗浄液
４３ 導電性支持体
４４ 音圧最大位置
Claims (2)
- 【請求項１】 一方の端部が閉塞された円筒状導電性支
持体の閉塞された側を上にして洗浄液に浸漬し、支持体
内部に残った空気を抜き、洗浄液を侵入させて、超音波
洗浄を行うことを特徴とする電子写真用導電性支持体の
洗浄方法。 - 【請求項２】 上部に蓋がある支持体を洗浄液に浸漬
後、ポンプにて円筒内の空気を抜き、超音波洗浄後、円
筒内にポンプにて空気を吹き込むことを特徴とする電子
写真用導電性支持体の洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21013291A JPH0531468A (ja) | 1991-07-27 | 1991-07-27 | 導電性支持体の超音波洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21013291A JPH0531468A (ja) | 1991-07-27 | 1991-07-27 | 導電性支持体の超音波洗浄方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0531468A true JPH0531468A (ja) | 1993-02-09 |
Family
ID=16584321
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21013291A Pending JPH0531468A (ja) | 1991-07-27 | 1991-07-27 | 導電性支持体の超音波洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0531468A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05188457A (ja) * | 1992-01-09 | 1993-07-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 防水ケース |
| US11771298B2 (en) | 2018-12-21 | 2023-10-03 | Realmthree Ltd | Ultrasonic cleaning apparatus |
-
1991
- 1991-07-27 JP JP21013291A patent/JPH0531468A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05188457A (ja) * | 1992-01-09 | 1993-07-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 防水ケース |
| US11771298B2 (en) | 2018-12-21 | 2023-10-03 | Realmthree Ltd | Ultrasonic cleaning apparatus |
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