JPH05319962A - 模様付セラミツクス製品およびその製法 - Google Patents
模様付セラミツクス製品およびその製法Info
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- JPH05319962A JPH05319962A JP41788690A JP41788690A JPH05319962A JP H05319962 A JPH05319962 A JP H05319962A JP 41788690 A JP41788690 A JP 41788690A JP 41788690 A JP41788690 A JP 41788690A JP H05319962 A JPH05319962 A JP H05319962A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/50—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
- C04B41/5022—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials with vitreous materials
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- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
- C04B41/81—Coating or impregnation
- C04B41/85—Coating or impregnation with inorganic materials
- C04B41/86—Glazes; Cold glazes
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Abstract
(57)【要約】
［目的］ 無機質基体の溝模様付表面に釉薬を施釉した
のち上記溝模様の溝内以外の釉薬を除去し残存釉薬を焼
付けることで、上記溝模様付表面において溝模様がはつ
きりと表れるようにする。 ［構成］ 下型２の賦形用凹部２ａの略中央に鋳込み口
３が開口し上型１の賦形用凹部１ａの上面に凸部６で模
様が形成されている上下一組の鋳込み型を準備し、鋳込
み型の下型２内に泥漿８を流し込み、下型２と上型１と
を閉めたのち下型２の鋳込み口３からベース泥漿９を鋳
込んで型内の泥漿８をその鋳込み圧力で上下の型の型面
に押し付け、鋳込み型を開け上型１の型面の凸部６で表
面に溝模様が形成されている無機質基体１０を取り出し
て焼成し、焼成した無機質基体１０の表面に釉薬１２を
施釉し、無機質基体表面の溝模様の溝１１内以外の部分
から釉薬１２を取り除き、そののちに残存釉薬を焼付け
る。
のち上記溝模様の溝内以外の釉薬を除去し残存釉薬を焼
付けることで、上記溝模様付表面において溝模様がはつ
きりと表れるようにする。 ［構成］ 下型２の賦形用凹部２ａの略中央に鋳込み口
３が開口し上型１の賦形用凹部１ａの上面に凸部６で模
様が形成されている上下一組の鋳込み型を準備し、鋳込
み型の下型２内に泥漿８を流し込み、下型２と上型１と
を閉めたのち下型２の鋳込み口３からベース泥漿９を鋳
込んで型内の泥漿８をその鋳込み圧力で上下の型の型面
に押し付け、鋳込み型を開け上型１の型面の凸部６で表
面に溝模様が形成されている無機質基体１０を取り出し
て焼成し、焼成した無機質基体１０の表面に釉薬１２を
施釉し、無機質基体表面の溝模様の溝１１内以外の部分
から釉薬１２を取り除き、そののちに残存釉薬を焼付け
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、模様付セラミツクス製
品およびその製法に関するものである。
品およびその製法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】最近、内外壁や床材等に大型の模様付陶
板を取り付けて建造物の美観を高めることが行われてい
る。
板を取り付けて建造物の美観を高めることが行われてい
る。
【０００３】このような大型の模様付陶板は、本発明者
が開発したつぎのような鋳込み成形により製造されてい
る。すなわち、まず、上下一組の鋳込み型として、賦形
用凹部の略中央に鋳込み口を開口した下型と、賦形用凹
部の上面に凸部で模様を形成した上型を準備する。そし
て、下型内に泥漿を流し込み、ついで上下の型を閉じ、
その状態で下型の鋳込み口から型内にベース泥漿を鋳込
み、その鋳込み圧力で型内の泥漿を上下の型の型面に押
し付けるようにして無機質基体を鋳込み成形する。この
ようにして得られた無機質基体には、その表面に溝模様
が形成される。そののち、第８図に示すように、上記無
機質基体１５の溝模様形成面１５ａに均一に施釉し、つ
いで焼成し、上記無機質基体１５の表面に溝１６模様が
表れるようにしている。
が開発したつぎのような鋳込み成形により製造されてい
る。すなわち、まず、上下一組の鋳込み型として、賦形
用凹部の略中央に鋳込み口を開口した下型と、賦形用凹
部の上面に凸部で模様を形成した上型を準備する。そし
て、下型内に泥漿を流し込み、ついで上下の型を閉じ、
その状態で下型の鋳込み口から型内にベース泥漿を鋳込
み、その鋳込み圧力で型内の泥漿を上下の型の型面に押
し付けるようにして無機質基体を鋳込み成形する。この
ようにして得られた無機質基体には、その表面に溝模様
が形成される。そののち、第８図に示すように、上記無
機質基体１５の溝模様形成面１５ａに均一に施釉し、つ
いで焼成し、上記無機質基体１５の表面に溝１６模様が
表れるようにしている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
方法では、施釉後の焼成時にその加熱によつて釉薬１７
の一部が溝１６内に流れ込み、水平部分１８では釉薬１
７の厚みが減少し、溝１６内では釉薬１７の厚みが増す
ため、水平部分１８と溝１６とで釉薬１７の厚みに差が
生じて、凸凹の差があまりなくなる。したがつて、無機
質基体１５の表面には釉薬１７の厚みの差により生じる
色の濃淡だけが表されるようになり、溝模様があまり強
調されないという問題がある。
方法では、施釉後の焼成時にその加熱によつて釉薬１７
の一部が溝１６内に流れ込み、水平部分１８では釉薬１
７の厚みが減少し、溝１６内では釉薬１７の厚みが増す
ため、水平部分１８と溝１６とで釉薬１７の厚みに差が
生じて、凸凹の差があまりなくなる。したがつて、無機
質基体１５の表面には釉薬１７の厚みの差により生じる
色の濃淡だけが表されるようになり、溝模様があまり強
調されないという問題がある。
【０００５】本発明は、このような事情に鑑みなされた
もので、溝模様がはっきりと表される模様付セラミツク
ス製品およびその製法の提供をその目的とする。
もので、溝模様がはっきりと表される模様付セラミツク
ス製品およびその製法の提供をその目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明は、無機質基体の溝模様付表面に釉薬を施釉
したのち上記溝模様の溝内以外の釉薬を除去し残存釉薬
を焼付けてなる模様付セラミツクス製品を第１の要旨と
し、下型の賦形用凹部の略中央に鋳込み口が開口し上型
の賦形用凹部の上面に凸部で模様が形成されている上下
一組の鋳込み型を準備する工程と、上記鋳込み型の下型
内に泥漿を流し込む工程と、上記下型と上型とを閉めた
のち下型の鋳込み口からベース泥漿を鋳込んで型内の泥
漿をその鋳込み圧力で上下の型の型面に押し付ける成形
工程と、上型の型面の凸部で表面に溝模様が形成されて
いる無機質基体を上記鋳込み型から取り出し焼成する工
程と、焼成した無機質基体の表面に釉薬を施釉する工程
と、無機質基体表面の溝模様の溝内以外の部分から釉薬
を取り除く工程と、釉薬取除き後に残存釉薬を焼付ける
工程とを備えた模様付セラミツクス製品の製法を第２の
要旨とする。
め、本発明は、無機質基体の溝模様付表面に釉薬を施釉
したのち上記溝模様の溝内以外の釉薬を除去し残存釉薬
を焼付けてなる模様付セラミツクス製品を第１の要旨と
し、下型の賦形用凹部の略中央に鋳込み口が開口し上型
の賦形用凹部の上面に凸部で模様が形成されている上下
一組の鋳込み型を準備する工程と、上記鋳込み型の下型
内に泥漿を流し込む工程と、上記下型と上型とを閉めた
のち下型の鋳込み口からベース泥漿を鋳込んで型内の泥
漿をその鋳込み圧力で上下の型の型面に押し付ける成形
工程と、上型の型面の凸部で表面に溝模様が形成されて
いる無機質基体を上記鋳込み型から取り出し焼成する工
程と、焼成した無機質基体の表面に釉薬を施釉する工程
と、無機質基体表面の溝模様の溝内以外の部分から釉薬
を取り除く工程と、釉薬取除き後に残存釉薬を焼付ける
工程とを備えた模様付セラミツクス製品の製法を第２の
要旨とする。
【０００７】
【作用】すなわち、本発明の方法は、上下一組の鋳込み
型として、賦形用凹部の略中央に鋳込み口を開口した下
型と、賦形用凹部の上面に凸部で模様を形成した上型を
準備し、上記下型内に泥漿を流し込んだのち、上記下型
と上型とを閉めて下型の鋳込み口から型内にベース泥漿
を鋳込むようにしている。したがつて、型内の泥漿が鋳
込み口から流入するベース泥漿によつて崩形することな
くそのままの状態で上方に押し上げられるようになり、
これにより泥漿とベース泥漿が緊密に一体化され、かつ
ベース泥漿の鋳込み圧力で泥漿が上下の型の型面に均一
に押し付けられるようになる。また、ベース泥漿を高圧
で鋳込んでも、上記の均一押し付け効果は損なわれない
ため、泥漿が崩形することがない。したがつて、高速鋳
込みによつて短時間で無機質基体を得ることができる。
このようにして得られた無機質基体は、その表面が緻密
に形成され、かつこの緻密な表面には上型の型面の凸部
で溝模様が形成されている。本発明では、つぎに、上記
の無機質基体を焼成し、そののち無機質基体の溝模様が
形成されている表面に施釉し、ついで、その表面の溝模
様の溝内以外の部分から釉薬を取り除き、取り除いた後
に残存釉薬を焼付けるようにしている。したがつて、本
発明のセラミツクス製品では、無機質基体の表面には、
その溝内にだけ釉薬が焼付けられており、無機質基体の
地色と釉薬の色とがはつきり区別でき、溝模様が充分に
強調されるようになる。
型として、賦形用凹部の略中央に鋳込み口を開口した下
型と、賦形用凹部の上面に凸部で模様を形成した上型を
準備し、上記下型内に泥漿を流し込んだのち、上記下型
と上型とを閉めて下型の鋳込み口から型内にベース泥漿
を鋳込むようにしている。したがつて、型内の泥漿が鋳
込み口から流入するベース泥漿によつて崩形することな
くそのままの状態で上方に押し上げられるようになり、
これにより泥漿とベース泥漿が緊密に一体化され、かつ
ベース泥漿の鋳込み圧力で泥漿が上下の型の型面に均一
に押し付けられるようになる。また、ベース泥漿を高圧
で鋳込んでも、上記の均一押し付け効果は損なわれない
ため、泥漿が崩形することがない。したがつて、高速鋳
込みによつて短時間で無機質基体を得ることができる。
このようにして得られた無機質基体は、その表面が緻密
に形成され、かつこの緻密な表面には上型の型面の凸部
で溝模様が形成されている。本発明では、つぎに、上記
の無機質基体を焼成し、そののち無機質基体の溝模様が
形成されている表面に施釉し、ついで、その表面の溝模
様の溝内以外の部分から釉薬を取り除き、取り除いた後
に残存釉薬を焼付けるようにしている。したがつて、本
発明のセラミツクス製品では、無機質基体の表面には、
その溝内にだけ釉薬が焼付けられており、無機質基体の
地色と釉薬の色とがはつきり区別でき、溝模様が充分に
強調されるようになる。
【０００８】つぎに、本発明を実施例にもとづいて詳し
く説明する。
く説明する。
【０００９】
【実施例】第１図は本発明に用いる鋳込み型を示してい
る。図において、１は上型であり、この上型１には、そ
の賦形用凹部１ａの上面に凸部６が形成され、油圧シリ
ンダ（図示せず）の駆動によつて昇降動作を行うように
なつている。２は下型であり、その下型２には、その賦
形用凹部２ａの底面の中央に鋳込み口３が開口してお
り、流路４を介して材料供給源（図示せず）から延びる
材料供給用配管５に連通している。
る。図において、１は上型であり、この上型１には、そ
の賦形用凹部１ａの上面に凸部６が形成され、油圧シリ
ンダ（図示せず）の駆動によつて昇降動作を行うように
なつている。２は下型であり、その下型２には、その賦
形用凹部２ａの底面の中央に鋳込み口３が開口してお
り、流路４を介して材料供給源（図示せず）から延びる
材料供給用配管５に連通している。
【００１０】上記の鋳込み型を用いての模様付陶板の製
造は例えばつぎのようにして行われる。すなわち、第２
図に示すように、顔料等で着色された泥漿８をシュータ
ー７から流下させて下型２の賦形用凹部２ａに充填す
る。この着色泥漿８は長石，珪石，粘土等の混合物から
なる。このとき、その充填量は、下型２の内容積の６０
〜８５％となるようにすることが重要である。すなわ
ち、充填量が上記範囲を下回ると、鋳込み時のベース泥
漿の流入量が多くなるため、着色泥漿８が受ける流れの
影響が大きくなり崩形しやすくなり、逆に、充填量が上
記範囲よりも多くなると、鋳込み時のベース泥漿の流入
量が少なくなつて成形が不充分となる傾向がみられるか
らである。このようにして下型２内に着色泥漿８を充填
したのち、第３図に示すように、シューター７を矢印方
向に移動させて上下の型１，２間の空間から除外する。
この状態で上型１を下降させて型締めし、引張強度の大
きいガラス繊維成分を含むベース泥漿９を鋳込み口３か
ら型内に鋳込む。この場合、上記ベース泥漿９は、第４
図に示すように、型内で左右方向に広がりながら着色泥
漿８を上方に押し上げ、その鋳込み圧力で着色泥漿８を
上型１および下型２の内面に押し付けながら、型内で着
色泥漿８と一体化される。このとき、上型１および下型
２の内面に着色泥漿８およびベース泥漿９の水分が吸収
される。つぎに、これを脱型すると、第５図に示すよう
な、上面に溝１１模様が形成された無機質基板１０が得
られる。この無機質基板１０は厚み１５mmに形成されて
おり、上記溝１１は幅２mm，深さ２mmに形成されてい
る。そののち、この無機質基板１０を８００℃で素焼き
し、第６図に示すように、その表面に釉薬１２を施釉す
る。上記釉薬１２は、長石５０％，珪石１０％，蛙目５
％，炭酸カルシウム１０％，亜鉛華７％，フリツト１５
％および顔料３％（単位はそれぞれＷｔ％）等を混合
し、細磨加工して粉末化したものに溶媒，分散剤等を加
えて懸濁し流動体としたものであり、上記着色泥漿８の
有する色と異なる色に着色されたものが使用される。施
釉後、第７図に示すように、平面部分１３から釉薬１２
をサンドスクリーン等で削り取り、溝１１内にのみ釉薬
１２を残し、これを焼成炉に入れ１２００℃で本焼きす
る。このようにして模様付陶板が得られる。
造は例えばつぎのようにして行われる。すなわち、第２
図に示すように、顔料等で着色された泥漿８をシュータ
ー７から流下させて下型２の賦形用凹部２ａに充填す
る。この着色泥漿８は長石，珪石，粘土等の混合物から
なる。このとき、その充填量は、下型２の内容積の６０
〜８５％となるようにすることが重要である。すなわ
ち、充填量が上記範囲を下回ると、鋳込み時のベース泥
漿の流入量が多くなるため、着色泥漿８が受ける流れの
影響が大きくなり崩形しやすくなり、逆に、充填量が上
記範囲よりも多くなると、鋳込み時のベース泥漿の流入
量が少なくなつて成形が不充分となる傾向がみられるか
らである。このようにして下型２内に着色泥漿８を充填
したのち、第３図に示すように、シューター７を矢印方
向に移動させて上下の型１，２間の空間から除外する。
この状態で上型１を下降させて型締めし、引張強度の大
きいガラス繊維成分を含むベース泥漿９を鋳込み口３か
ら型内に鋳込む。この場合、上記ベース泥漿９は、第４
図に示すように、型内で左右方向に広がりながら着色泥
漿８を上方に押し上げ、その鋳込み圧力で着色泥漿８を
上型１および下型２の内面に押し付けながら、型内で着
色泥漿８と一体化される。このとき、上型１および下型
２の内面に着色泥漿８およびベース泥漿９の水分が吸収
される。つぎに、これを脱型すると、第５図に示すよう
な、上面に溝１１模様が形成された無機質基板１０が得
られる。この無機質基板１０は厚み１５mmに形成されて
おり、上記溝１１は幅２mm，深さ２mmに形成されてい
る。そののち、この無機質基板１０を８００℃で素焼き
し、第６図に示すように、その表面に釉薬１２を施釉す
る。上記釉薬１２は、長石５０％，珪石１０％，蛙目５
％，炭酸カルシウム１０％，亜鉛華７％，フリツト１５
％および顔料３％（単位はそれぞれＷｔ％）等を混合
し、細磨加工して粉末化したものに溶媒，分散剤等を加
えて懸濁し流動体としたものであり、上記着色泥漿８の
有する色と異なる色に着色されたものが使用される。施
釉後、第７図に示すように、平面部分１３から釉薬１２
をサンドスクリーン等で削り取り、溝１１内にのみ釉薬
１２を残し、これを焼成炉に入れ１２００℃で本焼きす
る。このようにして模様付陶板が得られる。
【００１１】上記実施例では、着色泥漿８が鋳込み口３
から流入するベース泥漿９によつて上下の型１，２の内
面に均一に押し付けられて、表面が緻密になる。しか
も、得られた模様付陶板の表面には、着色泥漿８の色と
釉薬１２の色とがはつきり区別できて溝模様が強調され
た模様が表れている。さらに、ベース泥漿９に含まれる
ガラス繊維成分は引張強度が大きいことから、得られる
模様付陶板は強度的に強いものになる。
から流入するベース泥漿９によつて上下の型１，２の内
面に均一に押し付けられて、表面が緻密になる。しか
も、得られた模様付陶板の表面には、着色泥漿８の色と
釉薬１２の色とがはつきり区別できて溝模様が強調され
た模様が表れている。さらに、ベース泥漿９に含まれる
ガラス繊維成分は引張強度が大きいことから、得られる
模様付陶板は強度的に強いものになる。
【００１２】なお、上記実施例では、泥漿として着色泥
漿を用いているが、これに限るものではなく、釉薬と異
なる色をしていれば、着色していない泥漿を用いてもよ
い。
漿を用いているが、これに限るものではなく、釉薬と異
なる色をしていれば、着色していない泥漿を用いてもよ
い。
【００１３】さらに、上記実施例では、陶板の表面の平
面部分１３から釉薬１２を全部削り取るようにしている
が、上記平面部分１３に釉薬１２を薄膜状に残してもよ
い。また、上記実施例では、無機質基板１０を素焼きし
たのち施釉しているが、場合によつては、素焼きせずに
施釉してもよい。したがつて、本発明において無機質基
体とは、素焼品だけでなく、泥漿を型内で固めたもの、
それを乾燥させたものも含まれる。
面部分１３から釉薬１２を全部削り取るようにしている
が、上記平面部分１３に釉薬１２を薄膜状に残してもよ
い。また、上記実施例では、無機質基板１０を素焼きし
たのち施釉しているが、場合によつては、素焼きせずに
施釉してもよい。したがつて、本発明において無機質基
体とは、素焼品だけでなく、泥漿を型内で固めたもの、
それを乾燥させたものも含まれる。
【００１４】
【発明の効果】以上のように、本発明は、上下一組の鋳
込み型として、賦形用凹部の略中央に鋳込み口を開口し
た下型と、賦形用凹部の上面に凸部で模様を形成した上
型を準備し、上記下型内に泥漿を流し込んだのち、上記
下型と上型とを閉めて下型の鋳込み口からベース泥漿を
型内に鋳込むようにしているため、下型内の泥漿が鋳込
み口から流入するベース泥漿によつて崩形することなく
そのままの状態で押し上げられて、泥漿とベース泥漿が
緊密に一体化され、かつベース泥漿の鋳込み圧力で泥漿
が上下の型の型面に均一に押し付けられる。したがつ
て、得られた無機質基体の表面は緻密に形成されるよう
になる。また、ベース泥漿を高圧で鋳込んでも、上記の
均一押し付け効果は損なわれないため、泥漿が崩形する
ことがなく、高速鋳込みによつて短時間で無機質基体を
得ることができる。しかも、上記無機質基体の溝模様付
表面に施釉したのち、上記溝模様の溝内以外の部分から
釉薬を取り除き、残存釉薬を焼付けるようにしているた
め、本発明のセラミツクス製品では、無機質基体の地色
と釉薬の色とがはつきり区別でき、溝模様が充分に強調
されるようになる。
込み型として、賦形用凹部の略中央に鋳込み口を開口し
た下型と、賦形用凹部の上面に凸部で模様を形成した上
型を準備し、上記下型内に泥漿を流し込んだのち、上記
下型と上型とを閉めて下型の鋳込み口からベース泥漿を
型内に鋳込むようにしているため、下型内の泥漿が鋳込
み口から流入するベース泥漿によつて崩形することなく
そのままの状態で押し上げられて、泥漿とベース泥漿が
緊密に一体化され、かつベース泥漿の鋳込み圧力で泥漿
が上下の型の型面に均一に押し付けられる。したがつ
て、得られた無機質基体の表面は緻密に形成されるよう
になる。また、ベース泥漿を高圧で鋳込んでも、上記の
均一押し付け効果は損なわれないため、泥漿が崩形する
ことがなく、高速鋳込みによつて短時間で無機質基体を
得ることができる。しかも、上記無機質基体の溝模様付
表面に施釉したのち、上記溝模様の溝内以外の部分から
釉薬を取り除き、残存釉薬を焼付けるようにしているた
め、本発明のセラミツクス製品では、無機質基体の地色
と釉薬の色とがはつきり区別でき、溝模様が充分に強調
されるようになる。
【図１】本発明に用いる鋳込み型の一例を示す断面図で
ある。
ある。
【図２】上記鋳込み型内に泥漿を流し込んでいるところ
を示す説明図である。
を示す説明図である。
【図３】上記鋳込み型内にベース泥漿を鋳込んでいると
ころを示す説明図である。
ころを示す説明図である。
【図４】上記鋳込み型内で無機質基体を成形していると
ころを示す説明図である。
ころを示す説明図である。
【図５】上記鋳込み型内で成形された無機質基体を示す
断面図である。
断面図である。
【図６】表面が施釉された無機質基体を示す断面図であ
る。
る。
【図７】本発明の一実施例の模様付セラミツクス製品を
示す説明図である。
示す説明図である。
【図８】従来例の模様付セラミツクス製品を示す説明図
である。
である。
１ 上型 ２ 下型 ３ 鋳込み口 ６ 凸部 ８ 泥漿 ９ ベース泥漿 １０ 無機質基板
Claims (2)
- 【請求項１】 無機質基体の溝模様付表面に釉薬を施釉
したのち上記溝模様の溝内以外の釉薬を除去し残存釉薬
を焼付けてなる模様付セラミツクス製品。 - 【請求項２】 下型の賦形用凹部の略中央に鋳込み口が
開口し上型の賦形用凹部の上面に凸部で模様が形成され
ている上下一組の鋳込み型を準備する工程と、上記鋳込
み型の下型内に泥漿を流し込む工程と、上記下型と上型
とを閉めたのち下型の鋳込み口からベース泥漿を鋳込ん
で型内の泥漿をその鋳込み圧力で上下の型の型面に押し
付ける成形工程と、上型の型面の凸部で表面に溝模様が
形成されている無機質基体を上記鋳込み型から取り出し
焼成する工程と、焼成した無機質基体の表面に釉薬を施
釉する工程と、無機質基体表面の溝模様の溝内以外の部
分から釉薬を取り除く工程と、釉薬取除き後に残存釉薬
を焼付ける工程とを備えたことを特徴とする模様付セラ
ミツクス製品の製法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP41788690A JPH05319962A (ja) | 1990-12-28 | 1990-12-28 | 模様付セラミツクス製品およびその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP41788690A JPH05319962A (ja) | 1990-12-28 | 1990-12-28 | 模様付セラミツクス製品およびその製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05319962A true JPH05319962A (ja) | 1993-12-03 |
Family
ID=18525900
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP41788690A Pending JPH05319962A (ja) | 1990-12-28 | 1990-12-28 | 模様付セラミツクス製品およびその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05319962A (ja) |
-
1990
- 1990-12-28 JP JP41788690A patent/JPH05319962A/ja active Pending
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