JPH05322248A - クリーンルーム与圧調整方法 - Google Patents
クリーンルーム与圧調整方法Info
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- JPH05322248A JPH05322248A JP4128719A JP12871992A JPH05322248A JP H05322248 A JPH05322248 A JP H05322248A JP 4128719 A JP4128719 A JP 4128719A JP 12871992 A JP12871992 A JP 12871992A JP H05322248 A JPH05322248 A JP H05322248A
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- clean
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Classifications
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
- F24F3/00—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems
- F24F3/12—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
- F24F3/16—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by purification, e.g. by filtering; by sterilisation; by ozonisation
- F24F3/167—Clean rooms, i.e. enclosed spaces in which a uniform flow of filtered air is distributed
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
- F24F11/00—Control or safety arrangements
- F24F11/0001—Control or safety arrangements for ventilation
- F24F2011/0002—Control or safety arrangements for ventilation for admittance of outside air
- F24F2011/0004—Control or safety arrangements for ventilation for admittance of outside air to create overpressure in a room
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Combustion & Propulsion (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Ventilation (AREA)
- Devices For Use In Laboratory Experiments (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 作業状態等の変更により、クリーンルームの
クリーン空間形成用の本体設備だけでは、外部からのダ
スト侵入を防止するための与圧が維持出来ない場合に与
圧を調整してクリーン空間を維持すると共に、この費用
と時間を節約する。 【構成】 作業状態の変更等によりクリーンルームの内
圧が低下し、クリーンルームのクリーン空間形成用の本
体設備５，６，７だけでは、ルーム内へのダスト侵入を
防止する与圧の維持が出来ない場合に、前記内圧低下分
の補充と前記与圧の維持を行うだけの容量を有する加圧
空気供給装置１３と油・水分除去装置１４と高性能フィ
ルター１５と給気口１６とを備えたクリーンルーム与圧
調整装置Ｃをクリーンルームに付加して前記与圧を維持
することを特徴とする。
クリーン空間形成用の本体設備だけでは、外部からのダ
スト侵入を防止するための与圧が維持出来ない場合に与
圧を調整してクリーン空間を維持すると共に、この費用
と時間を節約する。 【構成】 作業状態の変更等によりクリーンルームの内
圧が低下し、クリーンルームのクリーン空間形成用の本
体設備５，６，７だけでは、ルーム内へのダスト侵入を
防止する与圧の維持が出来ない場合に、前記内圧低下分
の補充と前記与圧の維持を行うだけの容量を有する加圧
空気供給装置１３と油・水分除去装置１４と高性能フィ
ルター１５と給気口１６とを備えたクリーンルーム与圧
調整装置Ｃをクリーンルームに付加して前記与圧を維持
することを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体等の製造に使用
するクリーンルームに関し、特に、クリーンルームの与
圧調整方法に関するものである。
するクリーンルームに関し、特に、クリーンルームの与
圧調整方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】以前から、半導体等の製造に不可欠なク
リーンルームは、クリーンルーム内の空気をダストを含
まない清浄なものにすると共に、クリーンルームの内圧
を調整して、内圧を外圧よりも少し高く与圧して、ダス
トが外部からクリーンルーム内に入ることを防止してい
る。
リーンルームは、クリーンルーム内の空気をダストを含
まない清浄なものにすると共に、クリーンルームの内圧
を調整して、内圧を外圧よりも少し高く与圧して、ダス
トが外部からクリーンルーム内に入ることを防止してい
る。
【０００３】クリーンルーム与圧調整方法の第１従来例
方法を図２に基づいて説明する。
方法を図２に基づいて説明する。
【０００４】図２において、ハウジング部１は、天井、
床面、右面、左面、前面、後面の６面からなってクリー
ンルームの外郭を構成し、クリーンルームは、作業ゾー
ンＡと内圧・温度・湿度調整ゾーンＢとを有し、この内
圧・温度・湿度調整ゾーンＢで、クリーンルームのクリ
ーン空間を形成し与圧を調整している。
床面、右面、左面、前面、後面の６面からなってクリー
ンルームの外郭を構成し、クリーンルームは、作業ゾー
ンＡと内圧・温度・湿度調整ゾーンＢとを有し、この内
圧・温度・湿度調整ゾーンＢで、クリーンルームのクリ
ーン空間を形成し与圧を調整している。
【０００５】作業ゾーンＡには、製造設備９が設置され
ている。内圧・温度・湿度調整ゾーンＢには、給気口２
から作業ゾーンＡに空気を供給すると共に作業ゾーンＡ
から排気口４を通して内圧・温度・湿度調整ゾーンＢに
空気を排出する給排気装置５と、クリーンルーム内の温
度を一定に保つ温度調節装置６と、クリーンルーム内の
湿度を一定に保つ湿度調節装置７とが配置され、給排気
装置５で圧力を調整され、温度調節装置６と湿度調節装
置７とを通過して、所定の温度と湿度になった空気（矢
印１０）が、給気口２を通り、高性能フィルター（ＨＡ
ＰＡフィルター）３を経て空気中のダストを濾し取られ
て清浄な空気になって、作業ゾーンＡに供給される。
ている。内圧・温度・湿度調整ゾーンＢには、給気口２
から作業ゾーンＡに空気を供給すると共に作業ゾーンＡ
から排気口４を通して内圧・温度・湿度調整ゾーンＢに
空気を排出する給排気装置５と、クリーンルーム内の温
度を一定に保つ温度調節装置６と、クリーンルーム内の
湿度を一定に保つ湿度調節装置７とが配置され、給排気
装置５で圧力を調整され、温度調節装置６と湿度調節装
置７とを通過して、所定の温度と湿度になった空気（矢
印１０）が、給気口２を通り、高性能フィルター（ＨＡ
ＰＡフィルター）３を経て空気中のダストを濾し取られ
て清浄な空気になって、作業ゾーンＡに供給される。
【０００６】この場合、図２に示す第１従来例では、給
排気装置５の給気圧を調整することによって、空気の流
れ１０、１０′を維持すると共に、クリーンルームの作
業ゾーンＡの内圧を調整し、内圧を外圧よりも少し高く
して与圧を維持し、ダストが外部からクリーンルーム内
に入ることを防止している。そして、給排気装置５と温
度調節装置６と湿度調節装置７とは、何れも、クリーン
ルーム内全体の空気を処理する必要があるので、大型で
コスト高なものである。
排気装置５の給気圧を調整することによって、空気の流
れ１０、１０′を維持すると共に、クリーンルームの作
業ゾーンＡの内圧を調整し、内圧を外圧よりも少し高く
して与圧を維持し、ダストが外部からクリーンルーム内
に入ることを防止している。そして、給排気装置５と温
度調節装置６と湿度調節装置７とは、何れも、クリーン
ルーム内全体の空気を処理する必要があるので、大型で
コスト高なものである。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】そして、クリーンルー
ム内で製造する半導体の製造技術は進歩が早く、製造設
備の更新がしばしば行われる。この更新設備には、排気
装置付きのものが多く、図３は、図２に示すクリーンル
ームの作業ゾーンＡに、製造機種の変更に伴い、局所排
気装置付製造設備８を新設したものを示す。この場合
に、クリーンルームの与圧を調整する第２従来例方法を
図３に基づいて説明する。
ム内で製造する半導体の製造技術は進歩が早く、製造設
備の更新がしばしば行われる。この更新設備には、排気
装置付きのものが多く、図３は、図２に示すクリーンル
ームの作業ゾーンＡに、製造機種の変更に伴い、局所排
気装置付製造設備８を新設したものを示す。この場合
に、クリーンルームの与圧を調整する第２従来例方法を
図３に基づいて説明する。
【０００８】図３の場合には、局所排気装置付製造設備
８の排気作用によって、クリーンルーム内の空気が、矢
印１１に示すように、外部に排気されるので、クリーン
ルームの内圧が低下し、外圧に対して負圧になり、この
圧力差によって、外部のダストが矢印１２のようにクリ
ーンルーム内に流入し、クリーンルーム全体のクリーン
空間が破壊されるという問題点がある。
８の排気作用によって、クリーンルーム内の空気が、矢
印１１に示すように、外部に排気されるので、クリーン
ルームの内圧が低下し、外圧に対して負圧になり、この
圧力差によって、外部のダストが矢印１２のようにクリ
ーンルーム内に流入し、クリーンルーム全体のクリーン
空間が破壊されるという問題点がある。
【０００９】第２従来例方法では、この問題点を解決す
るために、必要によって給排気装置５の吸気側に外気を
吸入させる（図示せず）と共に、内圧・温度・湿度調整
ゾーンＢの給排気装置５と温度調節装置６と湿度調節装
置７の能力アップ、又は、より大型機への更新などによ
って対処している。この第２従来例方法では、クリーン
空間の維持は可能であるが、以前のクリーンルーム内全
体の空気に、局所排気装置付製造設備８の排気量を加え
た空気量を処理する必要があるので、前記容量アップに
も更新にも非常に大きな費用が必要で、なお且つ、工事
期間が長いという問題点がある。
るために、必要によって給排気装置５の吸気側に外気を
吸入させる（図示せず）と共に、内圧・温度・湿度調整
ゾーンＢの給排気装置５と温度調節装置６と湿度調節装
置７の能力アップ、又は、より大型機への更新などによ
って対処している。この第２従来例方法では、クリーン
空間の維持は可能であるが、以前のクリーンルーム内全
体の空気に、局所排気装置付製造設備８の排気量を加え
た空気量を処理する必要があるので、前記容量アップに
も更新にも非常に大きな費用が必要で、なお且つ、工事
期間が長いという問題点がある。
【００１０】本発明は、上記の問題点を解決し、クリー
ンルームの作業ゾーンＡに局所排気装置付製造設備８を
新設した場合に、クリーンルームの与圧を調整してクリ
ーン空間を維持すると共に、この対応に要する費用と時
間とを大幅に節減できるクリーンルーム与圧調整方法を
提供することを課題としている。
ンルームの作業ゾーンＡに局所排気装置付製造設備８を
新設した場合に、クリーンルームの与圧を調整してクリ
ーン空間を維持すると共に、この対応に要する費用と時
間とを大幅に節減できるクリーンルーム与圧調整方法を
提供することを課題としている。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明のクリーンルーム
与圧調整方法は、上記の課題を解決するために、清浄な
クリーン空間で作業を行うためのクリーンルームにおい
て、作業状態の変更等によってクリーンルームの内圧が
低下し、クリーンルームのクリーン空間形成用の本体設
備だけでは、クリーンルーム内へのダストの侵入を防止
する与圧の維持が出来ない場合に、前記内圧低下分の補
充と前記与圧の維持を行うだけの容量を有する加圧空気
供給装置と油・水分除去装置と高性能フィルターと給気
口とを備えたクリーンルーム与圧調整装置をクリーンル
ームに付加して前記与圧を維持することを特徴とする。
与圧調整方法は、上記の課題を解決するために、清浄な
クリーン空間で作業を行うためのクリーンルームにおい
て、作業状態の変更等によってクリーンルームの内圧が
低下し、クリーンルームのクリーン空間形成用の本体設
備だけでは、クリーンルーム内へのダストの侵入を防止
する与圧の維持が出来ない場合に、前記内圧低下分の補
充と前記与圧の維持を行うだけの容量を有する加圧空気
供給装置と油・水分除去装置と高性能フィルターと給気
口とを備えたクリーンルーム与圧調整装置をクリーンル
ームに付加して前記与圧を維持することを特徴とする。
【００１２】
【作用】本発明のクリーンルーム与圧調整方法は、クリ
ーンルームへの局所排気装置付製造設備の新設等の作業
条件変更によってクリーンルームの内圧が低下し、クリ
ーンルームの本体設備だけではクリーンルーム内へのダ
ストの侵入を防止する与圧の維持が出来ない場合に、前
記の内圧低下分を補充し且つ与圧を維持するだけの容量
を有する加圧空気供給装置と油・水分除去装置と高性能
フィルターと給気口とを備えたクリーンルーム与圧調整
装置をクリーンルームに付加して与圧を維持するので、
従来例方法のように、クリーンルーム内全体の空気に、
局所排気装置付製造設備の排気量を加えた空気量を処理
できる設備に変更する方法に比較して、非常に小型で済
み、費用も少なく、工事期間も短くなる。
ーンルームへの局所排気装置付製造設備の新設等の作業
条件変更によってクリーンルームの内圧が低下し、クリ
ーンルームの本体設備だけではクリーンルーム内へのダ
ストの侵入を防止する与圧の維持が出来ない場合に、前
記の内圧低下分を補充し且つ与圧を維持するだけの容量
を有する加圧空気供給装置と油・水分除去装置と高性能
フィルターと給気口とを備えたクリーンルーム与圧調整
装置をクリーンルームに付加して与圧を維持するので、
従来例方法のように、クリーンルーム内全体の空気に、
局所排気装置付製造設備の排気量を加えた空気量を処理
できる設備に変更する方法に比較して、非常に小型で済
み、費用も少なく、工事期間も短くなる。
【００１３】
【実施例】本発明のクリーンルーム与圧調整方法の一実
施例方法を使用するクリーンルームを図１に基づいて説
明する。
施例方法を使用するクリーンルームを図１に基づいて説
明する。
【００１４】図１において、ハウジング部１は、天井、
床面、右面、左面、前面、後面の６面からなってクリー
ンルームの外郭を構成し、クリーンルームは、作業ゾー
ンＡと内圧・温度・湿度調整ゾーンＢとを有し、この内
圧・温度・湿度調整ゾーンＢで、クリーンルームの内圧
を調整している。
床面、右面、左面、前面、後面の６面からなってクリー
ンルームの外郭を構成し、クリーンルームは、作業ゾー
ンＡと内圧・温度・湿度調整ゾーンＢとを有し、この内
圧・温度・湿度調整ゾーンＢで、クリーンルームの内圧
を調整している。
【００１５】作業ゾーンＡには、製造設備９が設置され
ている。内圧・温度・湿度調整ゾーンＢには、給気口２
から作業ゾーンＡに空気を供給すると共に作業ゾーンＡ
から排気口４を通して内圧・温度・湿度調整ゾーンＢに
空気を排出する給排気装置５と、クリーンルーム内の温
度を一定に保つ温度調節装置６と、クリーンルーム内の
湿度を一定に保つ湿度調節装置７とが配置され、給排気
装置５で圧力を調整され、温度調節装置６と湿度調節装
置７とを通過して、所定の温度と湿度になった空気（矢
印１０）が、給気口２を通り、高性能フィルター（ＨＡ
ＰＡフィルター等）３を経て空気中のダストを濾し取ら
れて清浄な空気になって、作業ゾーンＡに供給される。
ている。内圧・温度・湿度調整ゾーンＢには、給気口２
から作業ゾーンＡに空気を供給すると共に作業ゾーンＡ
から排気口４を通して内圧・温度・湿度調整ゾーンＢに
空気を排出する給排気装置５と、クリーンルーム内の温
度を一定に保つ温度調節装置６と、クリーンルーム内の
湿度を一定に保つ湿度調節装置７とが配置され、給排気
装置５で圧力を調整され、温度調節装置６と湿度調節装
置７とを通過して、所定の温度と湿度になった空気（矢
印１０）が、給気口２を通り、高性能フィルター（ＨＡ
ＰＡフィルター等）３を経て空気中のダストを濾し取ら
れて清浄な空気になって、作業ゾーンＡに供給される。
【００１６】この場合、図２に示す第１従来例では、給
排気装置５の給気圧を調整することによって、矢印１
０、１０′が示すような空気の流れを維持すると共に、
クリーンルームの作業ゾーンＡの内圧を調整し、内圧を
外圧よりも少し高く保って与圧を維持し、ダストが外部
からクリーンルーム内に入ることを防止している。
排気装置５の給気圧を調整することによって、矢印１
０、１０′が示すような空気の流れを維持すると共に、
クリーンルームの作業ゾーンＡの内圧を調整し、内圧を
外圧よりも少し高く保って与圧を維持し、ダストが外部
からクリーンルーム内に入ることを防止している。
【００１７】上記のクリーンルームの作業ゾーンＡに、
製造機種の変更等によって、その機種の製造方法に合わ
せて、局所排気装置付製造設備８が新設されると、この
局所排気装置付製造設備８の排気作用によって、クリー
ンルーム内の空気が、矢印１１に示すように、外部に排
気されるので、この排気量を何らかの方法で補充しない
と、クリーンルームの内圧が低下し、外圧に対して負圧
になり、この圧力差によって、外部のダストがクリーン
ルーム内に流入し、クリーンルーム全体のクリーン空間
が破壊されるという問題点がある。
製造機種の変更等によって、その機種の製造方法に合わ
せて、局所排気装置付製造設備８が新設されると、この
局所排気装置付製造設備８の排気作用によって、クリー
ンルーム内の空気が、矢印１１に示すように、外部に排
気されるので、この排気量を何らかの方法で補充しない
と、クリーンルームの内圧が低下し、外圧に対して負圧
になり、この圧力差によって、外部のダストがクリーン
ルーム内に流入し、クリーンルーム全体のクリーン空間
が破壊されるという問題点がある。
【００１８】この問題点を解決するための、本発明のク
リーンルーム与圧調整方法の一実施例方法を使用するク
リーンルーム与圧調整装置Ｃは、外部の空気を加圧して
供給する加圧空気供給装置１３と、この加圧空気内に存
在する油分と水分とを除去する油・水分除去装置１４
と、油分と水分とを除去された加圧空気からダストを除
去する高性能フィルター１５（ＨＡＰＡフィルター等）
と、給気口１６とを有する。
リーンルーム与圧調整方法の一実施例方法を使用するク
リーンルーム与圧調整装置Ｃは、外部の空気を加圧して
供給する加圧空気供給装置１３と、この加圧空気内に存
在する油分と水分とを除去する油・水分除去装置１４
と、油分と水分とを除去された加圧空気からダストを除
去する高性能フィルター１５（ＨＡＰＡフィルター等）
と、給気口１６とを有する。
【００１９】本発明のクリーンルーム与圧調整方法の一
実施例方法を使用するクリーンルームの動作を図１に基
づいて説明する。
実施例方法を使用するクリーンルームの動作を図１に基
づいて説明する。
【００２０】図１において、給排気装置５で圧力を調整
して供給された矢印１０の空気の流れ（これは、クリー
ン度クラス１００万程度）は、温度調節装置６と湿度調
節装置７とを通過して温度と湿度とを調整されて、給気
口２を経て、作業ゾーンＡの天井にある高性能フィルタ
ー１５でダストを濾し取られて、クリーン度クラス１程
度の清浄な矢印１０′の空気の流れになって、作業ゾー
ンＡに降下する。この清浄な空気は、製造装置９で発生
したダスト（クリーン度クラス１０万〜１００万程度）
を作業ゾーンＡから排気口を経て、内圧・温度・湿度調
整ゾーンＢに排出し、作業ゾーンＡにクリーン空間（ク
リーン度クラス１程度）を形成する。このようなクリー
ンルームの作業ゾーンＡに、製造機種の変更に伴って、
洗浄装置等の局所排気装置付製造装置が新設されると、
前記のように、この局所排気装置付製造設備８の排気作
用によって、クリーンルーム内の空気が、矢印１１に示
すように、外部に排気されるので、この排気量を何らか
の方法で補充しないと、クリーンルームの内圧が低下
し、外圧に対して負圧になり、この圧力差によって、外
部のダストを含む空気（これは、クリーン度クラス１０
０万程度）がクリーンルーム内に流入し、クリーンルー
ム全体のクリーン空間が破壊されるという問題点が発生
する。
して供給された矢印１０の空気の流れ（これは、クリー
ン度クラス１００万程度）は、温度調節装置６と湿度調
節装置７とを通過して温度と湿度とを調整されて、給気
口２を経て、作業ゾーンＡの天井にある高性能フィルタ
ー１５でダストを濾し取られて、クリーン度クラス１程
度の清浄な矢印１０′の空気の流れになって、作業ゾー
ンＡに降下する。この清浄な空気は、製造装置９で発生
したダスト（クリーン度クラス１０万〜１００万程度）
を作業ゾーンＡから排気口を経て、内圧・温度・湿度調
整ゾーンＢに排出し、作業ゾーンＡにクリーン空間（ク
リーン度クラス１程度）を形成する。このようなクリー
ンルームの作業ゾーンＡに、製造機種の変更に伴って、
洗浄装置等の局所排気装置付製造装置が新設されると、
前記のように、この局所排気装置付製造設備８の排気作
用によって、クリーンルーム内の空気が、矢印１１に示
すように、外部に排気されるので、この排気量を何らか
の方法で補充しないと、クリーンルームの内圧が低下
し、外圧に対して負圧になり、この圧力差によって、外
部のダストを含む空気（これは、クリーン度クラス１０
０万程度）がクリーンルーム内に流入し、クリーンルー
ム全体のクリーン空間が破壊されるという問題点が発生
する。
【００２１】この場合、本実施例のクリーンルーム与圧
調整装置Ｃを設置すると、加圧空気供給装置１３で作ら
れた加圧空気の流れ１７（クリーン度クラス１００万程
度、気圧１〜５Ｋｇｆ／ｃｍ2 程度）は、油・水分除去
装置１４を通過して、加圧空気中の油分と水分とを除去
され、更に、高性能フィルター１５（ＨＡＰＡフィルタ
ー等）によって、ダストを濾し取られてクリーン度クラ
ス１程度の清浄な空気の流れ１７′になって給気口１６
から、作業ゾーンＡに流入する。このクリーン度クラス
１程度の清浄な空気の流れ１７′の流入量を前記局所排
気装置付製造設備８の排気量に合わせてコントロールす
ると、クリーンルームの作業ゾーンＡのクリーン空間
は、所定の与圧を維持できる所定の内圧とクリーン度ク
ラス１程度の所定の清浄さを維持できる。
調整装置Ｃを設置すると、加圧空気供給装置１３で作ら
れた加圧空気の流れ１７（クリーン度クラス１００万程
度、気圧１〜５Ｋｇｆ／ｃｍ2 程度）は、油・水分除去
装置１４を通過して、加圧空気中の油分と水分とを除去
され、更に、高性能フィルター１５（ＨＡＰＡフィルタ
ー等）によって、ダストを濾し取られてクリーン度クラ
ス１程度の清浄な空気の流れ１７′になって給気口１６
から、作業ゾーンＡに流入する。このクリーン度クラス
１程度の清浄な空気の流れ１７′の流入量を前記局所排
気装置付製造設備８の排気量に合わせてコントロールす
ると、クリーンルームの作業ゾーンＡのクリーン空間
は、所定の与圧を維持できる所定の内圧とクリーン度ク
ラス１程度の所定の清浄さを維持できる。
【００２２】この本実施例方法を使用するクリーンルー
ム与圧調整装置Ｃは、局所排気装置付製造設備８の排気
量に相当分だけを処理すれば良いので、第２従来例方法
のように、クリーンルーム内全体の空気に、局所排気装
置付製造設備８の排気量を加えた空気量を処理する必要
がある場合に比較して、非常に小型で済み、費用も少な
く、工事期間も短くて良い。例えば、面積３０ｍ2 程度
のクリーンルームの場合で、第２従来例方法に比較し
て、費用は１／５、工事期間は１／１０ 程度になる。
ム与圧調整装置Ｃは、局所排気装置付製造設備８の排気
量に相当分だけを処理すれば良いので、第２従来例方法
のように、クリーンルーム内全体の空気に、局所排気装
置付製造設備８の排気量を加えた空気量を処理する必要
がある場合に比較して、非常に小型で済み、費用も少な
く、工事期間も短くて良い。例えば、面積３０ｍ2 程度
のクリーンルームの場合で、第２従来例方法に比較し
て、費用は１／５、工事期間は１／１０ 程度になる。
【００２３】本発明のクリーンルーム与圧調整方法を使
用するクリーンルーム与圧調整装置は、上記の実施例の
構成に限らず種々の態様が可能である。例えば、圧力調
整機構や流量調整機構を付加しても良い。又、高性能フ
ィルター１５の代わりに、クリーンルームの高性能フィ
ルター３を共用する構造にもできる。
用するクリーンルーム与圧調整装置は、上記の実施例の
構成に限らず種々の態様が可能である。例えば、圧力調
整機構や流量調整機構を付加しても良い。又、高性能フ
ィルター１５の代わりに、クリーンルームの高性能フィ
ルター３を共用する構造にもできる。
【００２４】
【発明の効果】本発明のクリーンルーム与圧調整方法
は、清浄なクリーン空間で作業を行うためのクリーンル
ームにおいて、局所排気装置付製造設備の新設等の作業
条件変更によってクリーンルームの内圧が低下し、クリ
ーンルームの本体設備だけでは、外部からのダスト侵入
を防止する与圧の維持が出来ない場合に、前記内圧低下
分を補充し前記与圧を維持するだけの容量を有する加圧
空気供給装置と油・水分除去装置と高性能フィルターと
給気口とを備えたクリーンルーム与圧調整装置をクリー
ンルームに付加して前記与圧を維持するので、従来例方
法のように、クリーンルーム内全体の空気に、局所排気
装置付製造設備の排気量を加えた空気量を処理する設備
に変更する方法と比較して、非常に小型で済み、費用も
少なく、工事期間も短くて良いという効果を奏する。例
えば、面積３０ｍ2 程度のクリーンルームの場合で、従
来例方法に比較して、費用は１／５程度、工事期間は１
／１０程度になるという効果を奏する。
は、清浄なクリーン空間で作業を行うためのクリーンル
ームにおいて、局所排気装置付製造設備の新設等の作業
条件変更によってクリーンルームの内圧が低下し、クリ
ーンルームの本体設備だけでは、外部からのダスト侵入
を防止する与圧の維持が出来ない場合に、前記内圧低下
分を補充し前記与圧を維持するだけの容量を有する加圧
空気供給装置と油・水分除去装置と高性能フィルターと
給気口とを備えたクリーンルーム与圧調整装置をクリー
ンルームに付加して前記与圧を維持するので、従来例方
法のように、クリーンルーム内全体の空気に、局所排気
装置付製造設備の排気量を加えた空気量を処理する設備
に変更する方法と比較して、非常に小型で済み、費用も
少なく、工事期間も短くて良いという効果を奏する。例
えば、面積３０ｍ2 程度のクリーンルームの場合で、従
来例方法に比較して、費用は１／５程度、工事期間は１
／１０程度になるという効果を奏する。
【図１】本発明のクリーンルーム与圧調整方法の一実施
例方法を使用するクリーンルーム与圧調整装置の側面図
である。
例方法を使用するクリーンルーム与圧調整装置の側面図
である。
【図２】第１従来例のクリーンルーム与圧調整方法を使
用するクリーンルーム与圧調整装置の側面図である。
用するクリーンルーム与圧調整装置の側面図である。
【図３】第２従来例のクリーンルーム与圧調整方法を使
用するクリーンルーム与圧調整装置の側面図である。
用するクリーンルーム与圧調整装置の側面図である。
Ａ 作業ゾーン Ｂ 内圧・温度・湿度調整ゾーン Ｃ クリーンルーム与圧調整装置 １ ハウジング部 ２ 給気口 ３ 高性能フィルター ４ 排気口 ５ 給排気装置 ６ 温度調節装置 ７ 湿度調節装置 １３ 加圧空気供給装置 １４ 油・水分除去装置 １５ 高性能フィルター １６ 給気口
Claims (1)
- 【請求項１】 清浄なクリーン空間で作業を行うための
クリーンルームにおいて、作業状態の変更等によってク
リーンルームの内圧が低下し、クリーンルームのクリー
ン空間形成用の本体設備だけでは、クリーンルーム内へ
のダストの侵入を防止する与圧の維持が出来ない場合
に、前記内圧低下分の補充と前記与圧の維持を行うだけ
の容量を有する加圧空気供給装置と油・水分除去装置と
高性能フィルターと給気口とを備えたクリーンルーム与
圧調整装置をクリーンルームに付加して前記与圧を維持
することを特徴とするクリーンルーム与圧調整方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4128719A JPH05322248A (ja) | 1992-05-21 | 1992-05-21 | クリーンルーム与圧調整方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4128719A JPH05322248A (ja) | 1992-05-21 | 1992-05-21 | クリーンルーム与圧調整方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05322248A true JPH05322248A (ja) | 1993-12-07 |
Family
ID=14991740
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4128719A Pending JPH05322248A (ja) | 1992-05-21 | 1992-05-21 | クリーンルーム与圧調整方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05322248A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5830117A (en) * | 1995-09-05 | 1998-11-03 | Fmc Corporation | Torque control for continuous motion bag machine |
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| EP2722603A3 (de) * | 2012-10-16 | 2015-10-07 | Schilling Engineering GmbH | Reinraumsystem |
| JP2022100386A (ja) * | 2019-12-19 | 2022-07-05 | 高砂熱学工業株式会社 | クリーンルーム装置および空気循環ユニット |
| US20220349594A1 (en) * | 2019-12-04 | 2022-11-03 | Hitachi Global Life Solutions, Inc. | Air Conditioning System |
-
1992
- 1992-05-21 JP JP4128719A patent/JPH05322248A/ja active Pending
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| US12085308B2 (en) | 2019-12-04 | 2024-09-10 | Hitachi Global Life Solutions, Inc. | Air conditioning system |
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