JPH05323364A - 液晶表示装置 - Google Patents
液晶表示装置Info
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- JPH05323364A JPH05323364A JP12592092A JP12592092A JPH05323364A JP H05323364 A JPH05323364 A JP H05323364A JP 12592092 A JP12592092 A JP 12592092A JP 12592092 A JP12592092 A JP 12592092A JP H05323364 A JPH05323364 A JP H05323364A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】液晶表示装置の大画面化、高精細化に寄与す
る。 【構成】この液晶表示装置は、マトリクス状に配置され
た走査線2および信号線3と、走査線2および信号線3
に囲まれた領域に配置された表示画素4と、これらの走
査線2および信号線3の交差部に配置され、走査線2に
ゲート電極21が接続され信号線3に信号電極24が接
続され表示画素4に画素電極25が接続されたTFT5
とを表示画素電極アレイ1上に形成し、この表示画素電
極アレイ1と共通電極基板28とで液晶層を挟持してな
る液晶表示装置であって、表示画素4に接続された画素
電極25の幅W1に対して、交流駆動させた場合の負極
性書き込み時に液晶層に少なくとも所定の書き込み電流
が流れるように信号線3に接続した信号電極24の幅W
2を狭く形成している。
る。 【構成】この液晶表示装置は、マトリクス状に配置され
た走査線2および信号線3と、走査線2および信号線3
に囲まれた領域に配置された表示画素4と、これらの走
査線2および信号線3の交差部に配置され、走査線2に
ゲート電極21が接続され信号線3に信号電極24が接
続され表示画素4に画素電極25が接続されたTFT5
とを表示画素電極アレイ1上に形成し、この表示画素電
極アレイ1と共通電極基板28とで液晶層を挟持してな
る液晶表示装置であって、表示画素4に接続された画素
電極25の幅W1に対して、交流駆動させた場合の負極
性書き込み時に液晶層に少なくとも所定の書き込み電流
が流れるように信号線3に接続した信号電極24の幅W
2を狭く形成している。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、例えば薄膜トランジ
スタ(以下、TFTと称す)が形成された表示画素電極
アレイなどを有する液晶表示装置に関する。
スタ(以下、TFTと称す)が形成された表示画素電極
アレイなどを有する液晶表示装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、液晶表示装置の中でも、特にテレ
ビ表示やグラフィックディスプレイなどを指向した大画
面で高精細なアクティブマトリクス型液晶表示装置(以
下、LCDと称す)の開発および実用化が盛んに行われ
ている。
ビ表示やグラフィックディスプレイなどを指向した大画
面で高精細なアクティブマトリクス型液晶表示装置(以
下、LCDと称す)の開発および実用化が盛んに行われ
ている。
【0003】このLCDの大画面化、高精細化に伴い表
示画素を形成するアレイ基板(表示画素電極アレイ)
は、高密度積層技術により形成されることから、その構
造上、金属層と金属層とが所定間隔で対向する部分(寄
生容量部)が増加する傾向にあり、液晶駆動時にこの寄
生容量部が影響を及ぼすことからこの寄生容量部の低減
化が急務となっている。
示画素を形成するアレイ基板(表示画素電極アレイ)
は、高密度積層技術により形成されることから、その構
造上、金属層と金属層とが所定間隔で対向する部分(寄
生容量部)が増加する傾向にあり、液晶駆動時にこの寄
生容量部が影響を及ぼすことからこの寄生容量部の低減
化が急務となっている。
【0004】従来からLCDには、クロストークのない
高コントラスト表示ができるように、各表示画素の駆動
と制御とを行う手段として半導体スイッチが用いられて
いる。その半導体スイッチとしては、単結晶Si基板上に
形成されたMOSFETや、透過型表示が可能で表示面大型化
が容易なTFTなどが用いられる。
高コントラスト表示ができるように、各表示画素の駆動
と制御とを行う手段として半導体スイッチが用いられて
いる。その半導体スイッチとしては、単結晶Si基板上に
形成されたMOSFETや、透過型表示が可能で表示面大型化
が容易なTFTなどが用いられる。
【0005】例えばこのTFTを設けたLCDは、その
液晶駆動部を、図3に示すような等化回路で表すことが
できる。
液晶駆動部を、図3に示すような等化回路で表すことが
できる。
【0006】同図に示すように、信号線31と走査線3
2とがマトリクス状に交差しており、この交差位置にT
FT33が接続されている。この場合、TFT33の信
号電極34が信号線31に接続され、TFT33のゲー
ト電極35が走査線32に接続されている。また、TF
T33の画素電極36は、液晶層を挟持する2 つの電極
のうち表示画素37に接続されている。一方、対向する
共通電極38は直流的に一定の電圧に保持される。この
等化回路には、上記した寄生容量として表示画素37と
走査線32の間に走査線容量Cg が存在する。
2とがマトリクス状に交差しており、この交差位置にT
FT33が接続されている。この場合、TFT33の信
号電極34が信号線31に接続され、TFT33のゲー
ト電極35が走査線32に接続されている。また、TF
T33の画素電極36は、液晶層を挟持する2 つの電極
のうち表示画素37に接続されている。一方、対向する
共通電極38は直流的に一定の電圧に保持される。この
等化回路には、上記した寄生容量として表示画素37と
走査線32の間に走査線容量Cg が存在する。
【0007】このような等化回路のLCDでは、走査線
32よりゲート電極35に走査線選択電圧(走査パル
ス)が印加されている期間、表示画素電圧と信号線31
を通じて信号電極34に印加される映像信号電圧とは同
じ電位になり、走査線非選択電圧が印加されている期
間、表示画素37の側でこの電圧が保持される。この結
果、共通電極38によって所定電位に保持されている液
晶層には、表示画素37との間に映像信号電圧に応じた
電位差が生じる。LCDはこの電位差を制御することに
より液晶層の配列状態を変化させ、この変化で各画素部
分の光の透過率を変化させ表示画像を得るようにしてい
る。
32よりゲート電極35に走査線選択電圧(走査パル
ス)が印加されている期間、表示画素電圧と信号線31
を通じて信号電極34に印加される映像信号電圧とは同
じ電位になり、走査線非選択電圧が印加されている期
間、表示画素37の側でこの電圧が保持される。この結
果、共通電極38によって所定電位に保持されている液
晶層には、表示画素37との間に映像信号電圧に応じた
電位差が生じる。LCDはこの電位差を制御することに
より液晶層の配列状態を変化させ、この変化で各画素部
分の光の透過率を変化させ表示画像を得るようにしてい
る。
【0008】一方、LCDをその電位差を制御して直流
駆動すると、LCD内の液晶層が電気分解して劣化を起
こし寿命が短くなるため、通常、直流電圧の極性を正負
に切り換えて交流駆動が行われる。この場合、負極性書
き込み時に信号電極34がソースとして働き、また、正
極性書き込みの時に画素電極36がソースとして働く。
駆動すると、LCD内の液晶層が電気分解して劣化を起
こし寿命が短くなるため、通常、直流電圧の極性を正負
に切り換えて交流駆動が行われる。この場合、負極性書
き込み時に信号電極34がソースとして働き、また、正
極性書き込みの時に画素電極36がソースとして働く。
【0009】例えば、図4のタイミングチャートに示す
ように、映像信号センター電圧Vsig.c を所定の直流電
位に設定し、この映像信号センター電圧Vsig.c に対し
て偶奇フレームで正負対称に映像信号電圧Vsig を設定
することによって交流駆動が行われる。つまり、この映
像信号電圧Vsig は、映像信号センター電圧Vsig.cと
映像信号に対応した正負対称な交流電圧とが加算された
ものになる。
ように、映像信号センター電圧Vsig.c を所定の直流電
位に設定し、この映像信号センター電圧Vsig.c に対し
て偶奇フレームで正負対称に映像信号電圧Vsig を設定
することによって交流駆動が行われる。つまり、この映
像信号電圧Vsig は、映像信号センター電圧Vsig.cと
映像信号に対応した正負対称な交流電圧とが加算された
ものになる。
【0010】次に、交流駆動時のゲート電圧Vg と映像
信号電圧Vsig と表示画素電極電圧Vp とのタイミング
について説明する。
信号電圧Vsig と表示画素電極電圧Vp とのタイミング
について説明する。
【0011】同図において、負極性保持期間T1内で
は、表示画素電極電圧Vp は映像信号センター電圧Vsi
g.c に対して低い電圧値を保持しているが、映像信号電
圧Vsig の極性が正極性に変わった後の正極性書き込み
の期間T2になると、表示画素電極電圧Vp は映像信号
電圧Vsig に近似してゆき映像信号センター電圧Vsig.
c より高い電圧値になる。そして、正極性書き込み期間
T2が終了するとき(ゲート電圧Vg の印加が終了する
とき)に、表示画素電極電圧Vp はTFTのゲート・画
素電極間の寄生容量の存在に起因する突き抜け電圧によ
り若干のレベルシフトを起こすが、正極性保持期間T3
中はその電圧値を保持する。
は、表示画素電極電圧Vp は映像信号センター電圧Vsi
g.c に対して低い電圧値を保持しているが、映像信号電
圧Vsig の極性が正極性に変わった後の正極性書き込み
の期間T2になると、表示画素電極電圧Vp は映像信号
電圧Vsig に近似してゆき映像信号センター電圧Vsig.
c より高い電圧値になる。そして、正極性書き込み期間
T2が終了するとき(ゲート電圧Vg の印加が終了する
とき)に、表示画素電極電圧Vp はTFTのゲート・画
素電極間の寄生容量の存在に起因する突き抜け電圧によ
り若干のレベルシフトを起こすが、正極性保持期間T3
中はその電圧値を保持する。
【0012】続いて、正極性保持期間T3内に映像信号
電圧Vsig の極性が負極性に変わり、さらに、ゲート電
圧Vg が印加されて負極性書き込み期間T4になると、
表示画素電極電圧Vp は映像信号電圧Vsig に近似して
ゆき映像信号センター電圧Vsig.c に対して低い電圧値
になる。そして、負極性書き込み期間T4が終了したと
きにレベルシフトを起こし、上記同様に負極性保持期間
T5、その電圧値を保持する。なお、共通電極38の対
向電極電圧は、映像信号センター電圧Vsig.cよりも突
き抜け電圧によるレベルシフト分だけ低い値に設定す
る。
電圧Vsig の極性が負極性に変わり、さらに、ゲート電
圧Vg が印加されて負極性書き込み期間T4になると、
表示画素電極電圧Vp は映像信号電圧Vsig に近似して
ゆき映像信号センター電圧Vsig.c に対して低い電圧値
になる。そして、負極性書き込み期間T4が終了したと
きにレベルシフトを起こし、上記同様に負極性保持期間
T5、その電圧値を保持する。なお、共通電極38の対
向電極電圧は、映像信号センター電圧Vsig.cよりも突
き抜け電圧によるレベルシフト分だけ低い値に設定す
る。
【0013】ここで、図5を参照して従来のLCDの表
示画素電極アレイ構成について説明する。
示画素電極アレイ構成について説明する。
【0014】同図に示すように、表示画素電極アレイ5
1には、複数の信号線52および走査線53がマトリク
ス状に形成されている。また、この表示画素電極アレイ
51のマトリクス状の各線で囲まれた領域内には、表示
画素54が形成されている。さらに、このマトリクス状
に交差するそれぞれの位置には、TFT55が形成され
ている。このTFT55の各電極のうち、信号線52に
接続されている信号電極56と、表示画素54に接続さ
れている画素電極57との電極幅W3は等しく形成され
ている。
1には、複数の信号線52および走査線53がマトリク
ス状に形成されている。また、この表示画素電極アレイ
51のマトリクス状の各線で囲まれた領域内には、表示
画素54が形成されている。さらに、このマトリクス状
に交差するそれぞれの位置には、TFT55が形成され
ている。このTFT55の各電極のうち、信号線52に
接続されている信号電極56と、表示画素54に接続さ
れている画素電極57との電極幅W3は等しく形成され
ている。
【0015】このように電極幅W3が等しく形成された
TFT55の電流−電圧特性について図6を参照して説
明する。同図は、交流駆動するにあたり、正・負それぞ
れの極性時で、書き込みに要する電流を比較したもので
ある。
TFT55の電流−電圧特性について図6を参照して説
明する。同図は、交流駆動するにあたり、正・負それぞ
れの極性時で、書き込みに要する電流を比較したもので
ある。
【0016】同図に示すように、例えばドレイン・ソー
ス間電圧の変化に対して所定間隔でゲート・ソース間電
圧をサンプリングした場合、信号電極側ソースの(負極
性)書き込みでは、ゲート・ソース間電圧は一定、例え
ば26ボルト(図中●部)を維持し、この曲線上で書き込
み電流、つまりゲート・ソース間電流が決定される。
ス間電圧の変化に対して所定間隔でゲート・ソース間電
圧をサンプリングした場合、信号電極側ソースの(負極
性)書き込みでは、ゲート・ソース間電圧は一定、例え
ば26ボルト(図中●部)を維持し、この曲線上で書き込
み電流、つまりゲート・ソース間電流が決定される。
【0017】これに対して画素電極側ソースの(正極
性)書き込みでは、ゲート・ソース間電圧は、例えば26
ボルトから24、22、20…ボルト(図中○部)というよう
に減少してゆくので、ゲート・ソース間電流もこれに応
じて少なくなる。すなわち、画素電極側ソース時の方が
書き込み電流が少ない状態で書き込みが行われるのに対
して、信号電極側ソース時の方が多くの電流を流した状
態で書き込みが行われる。よって、信号線側ソース時の
方が楽に書き込みが行われる。
性)書き込みでは、ゲート・ソース間電圧は、例えば26
ボルトから24、22、20…ボルト(図中○部)というよう
に減少してゆくので、ゲート・ソース間電流もこれに応
じて少なくなる。すなわち、画素電極側ソース時の方が
書き込み電流が少ない状態で書き込みが行われるのに対
して、信号電極側ソース時の方が多くの電流を流した状
態で書き込みが行われる。よって、信号線側ソース時の
方が楽に書き込みが行われる。
【0018】ところで、表示画素電極アレイ51上で寄
生容量を生じる部分(寄生容量部)は、信号線52と走
査線53との交差部と、TFT55のチャネル領域とで
ある(図中、斜線で示す部分)。なお、図3の等化回路
において走査線容量Cg となる部分は、後者のTFT5
5のチャネル領域である。
生容量を生じる部分(寄生容量部)は、信号線52と走
査線53との交差部と、TFT55のチャネル領域とで
ある(図中、斜線で示す部分)。なお、図3の等化回路
において走査線容量Cg となる部分は、後者のTFT5
5のチャネル領域である。
【0019】この場合、走査線53より印加される走査
パルスの形状はCR積で決定されるため、走査線容量C
g が、例えば大きくなれば、それに比例して走査パルス
の波形のなまりも大きくなる。走査パルスの波形がなま
ると、それだけ信号書き込み時間が短くなり、画素電位
の書き込みにはよいことではない。
パルスの形状はCR積で決定されるため、走査線容量C
g が、例えば大きくなれば、それに比例して走査パルス
の波形のなまりも大きくなる。走査パルスの波形がなま
ると、それだけ信号書き込み時間が短くなり、画素電位
の書き込みにはよいことではない。
【0020】しかしながら、近年、液晶表示装置の大画
面化・高精細化に伴い表示画素4の数が増化する傾向に
あるため、表示画素を駆動するTFT55などの数も増
え、寄生容量部の面積は益々増加することになる。
面化・高精細化に伴い表示画素4の数が増化する傾向に
あるため、表示画素を駆動するTFT55などの数も増
え、寄生容量部の面積は益々増加することになる。
【0021】
【発明が解決しようとする課題】上述したように大画面
化・高精細化の方向にある液晶表示装置では、寄生容量
部が増加し、液晶駆動に影響を与えるという問題があっ
た。
化・高精細化の方向にある液晶表示装置では、寄生容量
部が増加し、液晶駆動に影響を与えるという問題があっ
た。
【0022】本発明は、このような課題を解決するため
になされたもので、TFTの信号書き込み動作に影響の
ない範囲で寄生容量を低減することのできる液晶表示装
置を提供することを目的としている。
になされたもので、TFTの信号書き込み動作に影響の
ない範囲で寄生容量を低減することのできる液晶表示装
置を提供することを目的としている。
【0023】
【課題を解決するための手段】本発明は上記した目的を
達成するために、マトリクス状に配置された走査線およ
び信号線と、前記走査線および信号線に囲まれた領域に
配置された表示画素と、これらの走査線および信号線の
交差部に配置され、前記走査線に第1の電極が接続され
前記信号線に第2の電極が接続され前記表示画素に第3
の電極が接続された半導体スイッチング素子とを第1の
基板上に形成し、この第1の基板と共通電極が形成され
た第2の基板とで液晶層を挟持してなる液晶表示装置に
おいて、前記半導体スイッチ素子を交流駆動させ、その
負極性書き込み時に少なくとも書き込み電流を供給可能
な範囲で前記第3の電極の幅に対して前記第2の電極の
幅を狭く形成したことを特徴としている。
達成するために、マトリクス状に配置された走査線およ
び信号線と、前記走査線および信号線に囲まれた領域に
配置された表示画素と、これらの走査線および信号線の
交差部に配置され、前記走査線に第1の電極が接続され
前記信号線に第2の電極が接続され前記表示画素に第3
の電極が接続された半導体スイッチング素子とを第1の
基板上に形成し、この第1の基板と共通電極が形成され
た第2の基板とで液晶層を挟持してなる液晶表示装置に
おいて、前記半導体スイッチ素子を交流駆動させ、その
負極性書き込み時に少なくとも書き込み電流を供給可能
な範囲で前記第3の電極の幅に対して前記第2の電極の
幅を狭く形成したことを特徴としている。
【0024】
【作用】本発明の液晶表示装置は半導体スイッチ素子を
用いて液晶を交流駆動する。この場合の負極性書き込み
時に少なくとも書き込み電流を供給可能な範囲で第3の
電極の幅に対して第2の電極の幅を狭く形成している。
用いて液晶を交流駆動する。この場合の負極性書き込み
時に少なくとも書き込み電流を供給可能な範囲で第3の
電極の幅に対して第2の電極の幅を狭く形成している。
【0025】すなわち、第2の電極の幅を狭くしたこと
による半導体スイッチ素子の動作影響はなく、この電極
の面積が削減された分の走査線容量Cg が削減されて、
装置全体としての寄生容量が低減される。
による半導体スイッチ素子の動作影響はなく、この電極
の面積が削減された分の走査線容量Cg が削減されて、
装置全体としての寄生容量が低減される。
【0026】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して詳細
に説明する。
に説明する。
【0027】図1はこの発明の一実施例を示すアクティ
ブマトリクス型液晶表示装置(以下、LCDと称す)の
表示画素電極アレイの部分平面図、図2は図1のA−A
断面図である。
ブマトリクス型液晶表示装置(以下、LCDと称す)の
表示画素電極アレイの部分平面図、図2は図1のA−A
断面図である。
【0028】図1において、1は第1の基板としての表
示画素電極アレイである。この表示画素電極アレイ1に
は、複数の走査線2および信号線3がマトリクス状に交
差するように形成されている。また、この表示画素電極
アレイ1には、走査線2と信号線3とに囲まれた領域に
表示画素4が形成されている。さらに、各走査線2およ
び信号線3の交差位置には、TFT5が形成されいる。
示画素電極アレイである。この表示画素電極アレイ1に
は、複数の走査線2および信号線3がマトリクス状に交
差するように形成されている。また、この表示画素電極
アレイ1には、走査線2と信号線3とに囲まれた領域に
表示画素4が形成されている。さらに、各走査線2およ
び信号線3の交差位置には、TFT5が形成されいる。
【0029】続いて、図2を参照してこの表示画素電極
アレイ1の積層構造について説明する。
アレイ1の積層構造について説明する。
【0030】同図に示すように、表示画素電極アレイ1
上には、第1の電極としてのゲート電極21が形成され
ており走査線2に接続されている。このゲート電極21
上には、絶縁層22を介して半導体層23が形成されて
いる。この半導体層23上には、第2の電極としての信
号電極24と第3の電極としての画素電極25とが所定
間隔をもって形成されており、信号電極24は信号線3
に、画素電極25は表示画素4にそれぞれ接続されてい
る。この信号電極24および画素電極25の上には配向
膜26が形成されている。このように形成されている表
示画素電極アレイ1と共通電極27を形成した第2の基
板としての共通電極基板28とで液晶層29を挟持する
ことによりこのLCDが得られる。
上には、第1の電極としてのゲート電極21が形成され
ており走査線2に接続されている。このゲート電極21
上には、絶縁層22を介して半導体層23が形成されて
いる。この半導体層23上には、第2の電極としての信
号電極24と第3の電極としての画素電極25とが所定
間隔をもって形成されており、信号電極24は信号線3
に、画素電極25は表示画素4にそれぞれ接続されてい
る。この信号電極24および画素電極25の上には配向
膜26が形成されている。このように形成されている表
示画素電極アレイ1と共通電極27を形成した第2の基
板としての共通電極基板28とで液晶層29を挟持する
ことによりこのLCDが得られる。
【0031】また、図1において、表示画素4に接続さ
れた画素電極25の幅W1に対して信号線3に接続され
た信号電極24の幅W2を狭く形成している。この幅W
2は、少なくとも書き込み電流を供給可能な範囲で狭く
形成しており、画素電極25の幅W1に対して、例えば
1/2 程度としている。半導体層23上に形成された互い
の電極接合面の面積で比較した場合でも、その面積比で
は1/2 程度である。信号電極24の幅W2を狭くして、
その分、TFT5のチャネル領域を少しでも小さくする
ために、半導体層23もそれぞれの電極幅W1、W2に
合わせて、例えば台形状にしている。
れた画素電極25の幅W1に対して信号線3に接続され
た信号電極24の幅W2を狭く形成している。この幅W
2は、少なくとも書き込み電流を供給可能な範囲で狭く
形成しており、画素電極25の幅W1に対して、例えば
1/2 程度としている。半導体層23上に形成された互い
の電極接合面の面積で比較した場合でも、その面積比で
は1/2 程度である。信号電極24の幅W2を狭くして、
その分、TFT5のチャネル領域を少しでも小さくする
ために、半導体層23もそれぞれの電極幅W1、W2に
合わせて、例えば台形状にしている。
【0032】このLCDの場合、TFTのドレイン・ソ
ース間に流れる電流(以下、書き込み電流Idsと称す)
を求める式(A)に基づいてTFTの各電極が形成され
ている。
ース間に流れる電流(以下、書き込み電流Idsと称す)
を求める式(A)に基づいてTFTの各電極が形成され
ている。
【0033】 Ids=μ・C・W/L{(Vgs−Vth)Vds−Vds2 /2 } (A) 但し、μ:移動度、C:酸化膜容量、W:TFTのチャ
ネル幅 L:TFTのチャネル長、Vgs:ゲート・ソース間電圧 Vds:ドレイン・ソース間電圧、Vth:しきい値電圧 上式(A)より書き込み電流Idsは、TFTのチャネル
幅Wに比例することが判る。また、この書き込み電流I
dsを決定するときに影響するチャネル幅Wは、TFTの
電極のうち、ソースとして働く側の電極の幅であること
が判っている。したがって、書き込み電流Idsに影響を
与えることがない方の電極幅(ドレインとして働く側の
電極の幅)をある程度の幅まで小さく形成しても負極性
時の信号書き込みは行える。ここで言う「ある程度の
幅」とは、液晶層に少なくとも所定値、例えば正極性時
の書き込み電流とほぼ同じ電流を流せるような電極の幅
のことである。
ネル幅 L:TFTのチャネル長、Vgs:ゲート・ソース間電圧 Vds:ドレイン・ソース間電圧、Vth:しきい値電圧 上式(A)より書き込み電流Idsは、TFTのチャネル
幅Wに比例することが判る。また、この書き込み電流I
dsを決定するときに影響するチャネル幅Wは、TFTの
電極のうち、ソースとして働く側の電極の幅であること
が判っている。したがって、書き込み電流Idsに影響を
与えることがない方の電極幅(ドレインとして働く側の
電極の幅)をある程度の幅まで小さく形成しても負極性
時の信号書き込みは行える。ここで言う「ある程度の
幅」とは、液晶層に少なくとも所定値、例えば正極性時
の書き込み電流とほぼ同じ電流を流せるような電極の幅
のことである。
【0034】また、正極性書き込み時は、表示画素25
側の電極幅W1の方が上式(A)のWとして働くので、
信号電極24の幅W2を狭くしても信号の書き込みには
影響がない。
側の電極幅W1の方が上式(A)のWとして働くので、
信号電極24の幅W2を狭くしても信号の書き込みには
影響がない。
【0035】このLCDは、従来と同様に交流駆動なの
で、負極性書き込み時に信号電極24がソースとして働
き、また正極性書き込みの時は画素電極25がソースと
して働く。信号電極24の幅W2を狭くすることによっ
て、図6における画素電極側ソースの書き込み電流特性
のような書き込み経路にはならずに、その書き込み経路
は放物線形状を保ったまま低電流側にシフトする。この
ときの信号電極24の幅W2の値は、正極性書き込み時
のドレイン・ソース間電流の総量がほぼ等しくなるよう
に選ぶ必要がある。すなわち、動作的には異なるが、書
き込まれる電流のトータル値は等しくなる。
で、負極性書き込み時に信号電極24がソースとして働
き、また正極性書き込みの時は画素電極25がソースと
して働く。信号電極24の幅W2を狭くすることによっ
て、図6における画素電極側ソースの書き込み電流特性
のような書き込み経路にはならずに、その書き込み経路
は放物線形状を保ったまま低電流側にシフトする。この
ときの信号電極24の幅W2の値は、正極性書き込み時
のドレイン・ソース間電流の総量がほぼ等しくなるよう
に選ぶ必要がある。すなわち、動作的には異なるが、書
き込まれる電流のトータル値は等しくなる。
【0036】このように本実施例の液晶表示装置によれ
ば、TFT5の画素電極25の幅W1に対して信号電極
24の幅W2を1/2 程度まで小さく形成したことによ
り、従来に比較してTFT5の書き込み能力は変わらず
に装置全体として寄生容量部の面積を少なくとも15〜25
%程度は削減できる。したがって、この分の大画面化、
高精細化ができるようになる。
ば、TFT5の画素電極25の幅W1に対して信号電極
24の幅W2を1/2 程度まで小さく形成したことによ
り、従来に比較してTFT5の書き込み能力は変わらず
に装置全体として寄生容量部の面積を少なくとも15〜25
%程度は削減できる。したがって、この分の大画面化、
高精細化ができるようになる。
【0037】なお、本発明では、実施例において半導体
層を台形状としたが、長方形でもよくその形状は限定さ
れるものではない。
層を台形状としたが、長方形でもよくその形状は限定さ
れるものではない。
【0038】
【発明の効果】以上説明したように本発明の液晶表示装
置によれば、表示画素に接続した第3の電極の幅に対し
てTFTの信号線に接続した第2の電極の幅を狭く形成
したのでTFTに起因する走査線容量が低減され、装置
全体しての寄生容量を低減することができる。
置によれば、表示画素に接続した第3の電極の幅に対し
てTFTの信号線に接続した第2の電極の幅を狭く形成
したのでTFTに起因する走査線容量が低減され、装置
全体しての寄生容量を低減することができる。
【0039】この結果、液晶表示装置の大画面化、高精
細化に寄与することができる。
細化に寄与することができる。
【図1】本実施例のアクティブマトリクス型液晶表示装
置の構成を示す平面図である。
置の構成を示す平面図である。
【図2】図1のA−A線断面図である。
【図3】一般的なアクティブマトリクス型液晶表示装置
の任意の画素における等価回路を示す図である。
の任意の画素における等価回路を示す図である。
【図4】ゲート電圧Vg と映像信号電圧Vsig と表示画
素電極電圧Vp とのタイミングチャートである。
素電極電圧Vp とのタイミングチャートである。
【図5】従来のアクティブマトリクス型液晶表示装置の
構成を示す平面図である。
構成を示す平面図である。
【図6】図5のTFTの電流−電圧特性を示す図であ
る。
る。
1…表示画素電極アレイ、2…走査線、3…信号線、4
…表示画素、5…TFT、21…ゲート電極、22…絶
縁層、23…半導体層、24…信号電極、25…画素電
極、26…配向膜、27…共通電極、28…共通電極基
板。
…表示画素、5…TFT、21…ゲート電極、22…絶
縁層、23…半導体層、24…信号電極、25…画素電
極、26…配向膜、27…共通電極、28…共通電極基
板。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 27/12 A 29/784
Claims (1)
- 【請求項1】 マトリクス状に配置された走査線および
信号線と、前記走査線および信号線に囲まれた領域に配
置された表示画素と、これらの走査線および信号線の交
差部に配置され、前記走査線に第1の電極が接続され前
記信号線に第2の電極が接続され前記表示画素に第3の
電極が接続された半導体スイッチ素子とを第1の基板上
に形成し、この第1の基板と共通電極が形成された第2
の基板とで液晶層を挟持してなる液晶表示装置におい
て、 前記半導体スイッチ素子を交流駆動させ、その負極性書
き込み時に少なくとも書き込み電流を供給可能な範囲で
前記第3の電極の幅に対して前記第2の電極の幅を狭く
形成したことを特徴とする液晶表示装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12592092A JPH05323364A (ja) | 1992-05-19 | 1992-05-19 | 液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12592092A JPH05323364A (ja) | 1992-05-19 | 1992-05-19 | 液晶表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05323364A true JPH05323364A (ja) | 1993-12-07 |
Family
ID=14922218
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12592092A Withdrawn JPH05323364A (ja) | 1992-05-19 | 1992-05-19 | 液晶表示装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05323364A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005228805A (ja) * | 2004-02-10 | 2005-08-25 | Chi Mei Electronics Corp | 薄膜トランジスタおよび液晶表示装置 |
| KR100539661B1 (ko) * | 2002-01-31 | 2005-12-30 | (주) 제이.에스.씨.앤.아이 | 스위칭 박막 트랜지스터, 이를 이용하는 이미지 입력소자및 그 제조방법 |
| US9425251B2 (en) | 2013-11-08 | 2016-08-23 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film transistor substrate and organic light-emitting diode (OLED) display having the same |
-
1992
- 1992-05-19 JP JP12592092A patent/JPH05323364A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100539661B1 (ko) * | 2002-01-31 | 2005-12-30 | (주) 제이.에스.씨.앤.아이 | 스위칭 박막 트랜지스터, 이를 이용하는 이미지 입력소자및 그 제조방법 |
| JP2005228805A (ja) * | 2004-02-10 | 2005-08-25 | Chi Mei Electronics Corp | 薄膜トランジスタおよび液晶表示装置 |
| US9425251B2 (en) | 2013-11-08 | 2016-08-23 | Samsung Display Co., Ltd. | Thin film transistor substrate and organic light-emitting diode (OLED) display having the same |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990803 |