JPH0532680A - 光学活性なグルタル酸エステル誘導体の光学分割法 - Google Patents
光学活性なグルタル酸エステル誘導体の光学分割法Info
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- JPH0532680A JPH0532680A JP3214534A JP21453491A JPH0532680A JP H0532680 A JPH0532680 A JP H0532680A JP 3214534 A JP3214534 A JP 3214534A JP 21453491 A JP21453491 A JP 21453491A JP H0532680 A JPH0532680 A JP H0532680A
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- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
いてもよい低級アルキル、*は不斉炭素原子をそれぞれ
表わす。)で示されるグルタル酸エステルのラセミ混合
溶液に(+)−デヒドロアビエチルアミンを作用させるこ
とにより、R(-)またはS(+)−グルタル酸エステルを得
る光学分割方法。 【効果】本発明は、HMG−CoA還元酵素の活性を抑
制し、従ってコレステロ−ルの生合成を抑制するのに有
用な光学活性な化合物を合成するための、中間体の製造
法を提供するものである。
Description
て有用な光学活性な3−ヒドロキシグルタル酸モノエス
テルの製造法を提供する。例えば、光学活性なHMG−
CoA還元酵素阻害剤を高収率で大規模に製造しうるた
めには、本発明が提供する光学活性な3−ヒドロキシグ
ルタル酸モノエステルは極めて重要である。
不斉合成法あるいは酵素によるエステル部分の加水分解
法などがよく知られている。しかしながら、従来用いら
れてきたこのような不斉合成法では、種々の特殊な試薬
を要したり、反応工程が繁雑であったりする。また、酵
素による方法では酵素の反応物の受容性や酵素反応の条
件設定に難しさがある。従って、これらの方法では光学
純度の高い活性体を容易に得られる例は余り知られてい
ない。
を得ることは、医薬品を始めとする種々の化合物の合成
にとって、極めて重要な意味を有する。本発明は、ラセ
ミ体である3−ヒドロキシグルタル酸モノエステルを光
学分割することにより、光学活性体を効率良く取得する
方法である。
情を鋭意研究した結果、中間体として有用な光学活性体
を得るための光学分割法を見出した。即ち、本発明は式
I:
いてもよい低級アルキル、*は不斉炭素原子をそれぞれ
表わす。)で示されるラセミ化合物の光学分割法を提供
するものである。
る。ラセミ−3−tert−ブチルジメチルシリルオキシグ
ルタル酸モノメチルエステルに一方の光学活性な光学分
割剤を添加し、添加したのと同種の光学活性体を分離
し、更にその母液から他方の光学活性体を得る方法であ
る。更に詳しくは、ラセミ−3−tert−ブチルジメチル
シリルオキシグルタル酸モノメチルエステルに(+)−D
HAAを作用させることにより、R(-)−3−tert−ブ
チルジメチルシリルオキシグルタル酸モノメチルエステ
ルの(+)DHAA塩を得、該塩を塩分解することによ
り、R(-)−3−tert−ブチルジメチルシリルオキシグ
ルタル酸モノメチルエステル(I−1)を得る。更に
(+)−DHAA塩を分離した後、母液を処理することに
よりS(+)−3−tert−ブチルジメチルシリルオキシグ
ルタル酸モノメチルエステル(I−2)を得る方法であ
る。
メチル、tert−ブチル、アリル、ベンジル、テトラヒド
ロピラニル、tert−ブチルジメチルシリルオキシ、tert
−ブチルジフェニルシリルオキシなどのエ−テル形成保
護基、アセチル、ベンゾイルなどのエステル形成保護
基、メチルスルホニル、p−トルエンスルホニル、フェ
ニルスルホニルなどのスルホン酸エステル形成保護基な
どが挙げられるが、本発明においては、エ−テル形成保
護基、特にtert−ブチルジメチルシリルオキシが好まし
い。
ル」とは、一般に直鎖状または分岐状の炭素原子1〜6
のアルキルを意味し、例えば、メチル、エチル、n−プ
ロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec
−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、イソペンチ
ル、ネオペンチル、tert−ペンチル、2−メチルブチ
ル、n−ヘキシルおよびイソヘキシルなどが挙げられ、
それぞれハロゲンまたはアミノ基で置換されていてもよ
い。
に説明するが、これらによって本発明の範囲は限定され
るものではない。実施例で用いられる略字は、以下に示
す意味を表わす。 Me:メチル Et:エチル TBDMS:tert−ブチルジメチルシリル DHAA:デヒドロアビエチルアミン
ル酸モノメチルエステル 1
し、4時間還流する。減圧下で乾固し残分をトルエンに
溶解しシリカゲルカラムクロマトグラフィ−(トルエン
/酢酸エチル=4/1)にて付し、溶出物を減圧下で濃
縮し、残分をペンタンから氷冷下で結晶化させて目的化
合物27.2gを無色結晶として得られる(融点:54
〜55℃) IR(Nujol):1700, 1730 cm-1 元素分析値(%)C12H24O5Siとして 計算値:C,52.12; H,8.75 実験値:C,51.90; H,8.721 HNMR(CDCl3, 200M)δ:0.07 (3H,s); 0.08 (3H,
s); 0.85 (9H,s); 2.60(4H,m); 3.68 (3H,s); 4.55 (1
H,m)
タル酸モノメチルエステ ル (I−1)
キシグルタル酸モノメチルエステルの(+)DHAA塩
2 (+)DHAA10.0g(36mmol)を50mlのメタ
ノ−ルに溶解し、そこへラセミの(±)−3−tert−ブ
チルジメチルシリルオキシグルタル酸モノメチルエステ
ル110.0g(35mmol)を加え、減圧下乾固する。
残分を100mlのペンタンに溶解し、種を植えて氷冷下
一晩静置する。析出した結晶を濾取して融点129〜1
30℃のR−(−)−3−tert−ブチルジメチルシリル
オキシグルタル酸モノメチルエステルの(+)DHAA
塩28.41gを得る。 [α]D+9.0°(C=2.0、 25.0℃、 MeOH)1 HNMR(200M,CDCl3)δ:0.04 (3H,s); 0.06
(3H,s); 0.84 (9H,s); 0.97(3H,s); 1.21 (6H,d,J=7H
z);1.22 (3H,s); 1.30〜1.85 (8H,m); 2.20〜2.95 (11
H,m); 3.64 (3H,s); 4.48 (1H,m); 6.68〜7.30 (3H,m) 元素分析値(%)C32H55NO5Siとして 計算値:C,68.40; H,9.87; N,2.49 実験値:C,68.18; H,9.74; N,2.57
−テル中に懸濁し、そこへ4N-HCl−酢酸エチル溶液1
0mlを加えて撹拌する。更に、ペンタン100mlを加え
て、撹拌した後析出物を濾去し、濾液を減圧下で濃縮す
る。残分をトルエンに溶解して、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィ−(トルエン/酢酸エチル=2/1)に付
して光学純度96%ee以上の油状物として目的化合物
(I−1)4.10gを得る。 [α]D−5.8°(C=4.1、 25.0℃、 MeOH)1 HNMR(200M, CDCl3)δ:0.07 (3H,S); 0.08 (3H,
s); 0.85 (9H,s); 2.60(4H,m); 3.68 (3H,s); 4.55 (1
H,m)
1)をR(+)1−フェネチルアミン−DCC−1−ヒ
ドロキシベンズトリアゾ−ルを用いて反応を行ない、H
eathcock(J.Org.Chem.,49,3657(1984))の方
法に準じてNMRより確認した。1 HNMR(200M, CDCl3)δ:0.07 (3H,s); 0.11 (3H,
s); 0.86 (9H,s); 1.47 (3H,d,J=7Hz); 2.35〜2.60 (4
H,m); 3.65 (3H,s); 4.50 (1H,m); 5.12 (1H,m); 6.57
(1H,br,d,J=7Hz); 7.32 (5H,m)
タル酸モノメチルエス テル (I−2)
シグルタル酸モノメチル エステルのS(-)−1−フェネ
チルアミン塩 3 化合物2を得た際の母液を乾固して、200mlのエ−テ
ルに溶解する。撹拌下で4N−HCl−酢酸エチル溶液1
0mlを加えて、析出物を濾去し、濾液を濃縮してシリカ
ゲルカラムクロマトグラフィ−(トルエン/酢酸エチル
=2/1)に付し、溶出物を減圧下で濃縮する。残分を
20mlのペンタンにて溶解して−20℃下で二晩静置す
る。析出した結晶を濾去し、濾液中の溶媒を留去して光
学純度93%eeの油状物として粗(1−2)3.80
gを得る。この化合物1.00g(3.62mmol)、S-
(-)-1−フェネチルアミン440μl(3.50mmol)
を3mlのエ−テルに溶解し、更にペンタンを6ml加えて
1時間室温下で静置する。析出する結晶を濾取して化合
物31.27gを得る(融点:104〜105℃)。 [α]D +11.2°(C=1.00, 24.0℃, MeOH) 元素分析値(%)C20H35NO5Siとして 計算値:C,60.42; H,8.87; N,3.52 実験値:C,60.34; H,8.85; N,3.611 HNMR(200M,CDCl3)δ:0.04 (3H,s); 0.05 (3H,
s); 0.84 (9H,s); 1.50 (3H,d,J=6Hz); 2.30〜2.60 (4
H,m); 3.65 (3H,s); 4.11 (1H,q.J=6Hz); 7.25〜7.40
(5H,m)
こへ4N-HCl−酢酸エチル溶液2mlを加えて、室温で2
0分間撹拌する。不溶物を濾去し、濾液を減圧下濃縮し
て残分をペンタンにて溶解した後シリカゲル(トルエン
/酢酸エチル=2/1)にて精製して溶出液の溶媒を留
去して光学純度98%eeの目的化合物(I−2)86
1mgを得る。 [α]D +5.8°(C=4.1, 25.0℃, MeOH)1 HNMR(200M, CDCl3)δ:0.07 (3H,s); 0.08 (3H,
s); 0.85 (9H,s); 2.60 (4H,m); 3.68 (3H,s); 4.55 (1
H,m) 光学純度は同様にして、R(+)1−フェネチルアミン−
DCC−1−ヒドロクシベンズトリアゾ−ルと反応を行
ない、アミド誘導体としてHeathcockの方法に
て確認した。1 HNMR(200M, CDCl3)δ:0.03 (3H,
s); 0.07 (3H,s); 0.79 (9
H,s); 1.50 (3H,d,J=7Hz);
2.35−2.62 (4H,m); 3.69 (3
H,s); 4.50 (1H,m); 5.11
(1H,m);6.56 (1H,brd,J=7H
z); 7.32 (5H, m)
Claims (4)
- 【請求項1】一般式(I): 【化1】 (式中、R1はヒドロキシ保護基、R2は置換基を有して
いてもよい低級アルキル、*は不斉炭素原子をそれぞれ
表わす。)で示されるグルタル酸エステルのラセミ混合
溶液に(+)−デヒドロアビエチルアミンを作用させて、
R(-)グルタル酸エステルの(+)−デヒドロアビエチルア
ミン塩を生成させることを特徴とする光学活性なグルタ
ル酸エステルの回収方法。 - 【請求項2】生成した塩を塩分解することを特徴とする
請求項1記載のR(-)グルタル酸エステルの回収方法。 - 【請求項3】母液にアミンを作用させて、S(+)グルタ
ル酸エステルのアミン塩を形成し、更に塩分解すること
を特徴とする請求項1記載のS(+)グルタル酸エステル
の回収方法。 - 【請求項4】アミンがフェネチルアミンである請求項3
記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21453491A JP3272377B2 (ja) | 1991-07-30 | 1991-07-30 | 光学活性なグルタル酸エステル誘導体の光学分割法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21453491A JP3272377B2 (ja) | 1991-07-30 | 1991-07-30 | 光学活性なグルタル酸エステル誘導体の光学分割法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0532680A true JPH0532680A (ja) | 1993-02-09 |
| JP3272377B2 JP3272377B2 (ja) | 2002-04-08 |
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ID=16657327
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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| JP21453491A Expired - Lifetime JP3272377B2 (ja) | 1991-07-30 | 1991-07-30 | 光学活性なグルタル酸エステル誘導体の光学分割法 |
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|---|---|
| JP (1) | JP3272377B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008130678A3 (en) * | 2007-04-18 | 2008-12-11 | Teva Pharma | Rosuvastatin intermediates and process for the preparation of rosuvastatin |
-
1991
- 1991-07-30 JP JP21453491A patent/JP3272377B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008130678A3 (en) * | 2007-04-18 | 2008-12-11 | Teva Pharma | Rosuvastatin intermediates and process for the preparation of rosuvastatin |
| EP2062903A1 (en) * | 2007-04-18 | 2009-05-27 | Teva Pharmaceutical Industries Ltd. | Statin intermediates and process for the preparation of statins |
| JP2009538831A (ja) * | 2007-04-18 | 2009-11-12 | テバ ファーマシューティカル インダストリーズ リミティド | ロスバスタチン中間体及びロスバスタチンの調製方法。 |
Also Published As
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