JPH05326902A - 固体撮像装置の製造方法 - Google Patents
固体撮像装置の製造方法Info
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- JPH05326902A JPH05326902A JP13297492A JP13297492A JPH05326902A JP H05326902 A JPH05326902 A JP H05326902A JP 13297492 A JP13297492 A JP 13297492A JP 13297492 A JP13297492 A JP 13297492A JP H05326902 A JPH05326902 A JP H05326902A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】複数の受光部及び電荷転送部を形成した基板上
に可視光に対して透明な紫外線吸収層を形成する工程
と、前記紫外線吸収層上に紫外線感光性膜を形成する工
程と、前記紫外線感光性膜を選択的に紫外線露光させる
工程とを具備する固体撮像装置の製造方法。 【効果】紫外線感光膜をカラーフィルターの染色基質と
して用いたとき急峻な端部を持つカラーフィルターが形
成できる。また、この紫外線吸収層はパータニングする
必要がないため、工程数はほとんど増加しない。
に可視光に対して透明な紫外線吸収層を形成する工程
と、前記紫外線吸収層上に紫外線感光性膜を形成する工
程と、前記紫外線感光性膜を選択的に紫外線露光させる
工程とを具備する固体撮像装置の製造方法。 【効果】紫外線感光膜をカラーフィルターの染色基質と
して用いたとき急峻な端部を持つカラーフィルターが形
成できる。また、この紫外線吸収層はパータニングする
必要がないため、工程数はほとんど増加しない。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、固体撮像装置の製造方
法に関する。特に、固体撮像装置のカラーフィルターの
製造方法に関する。
法に関する。特に、固体撮像装置のカラーフィルターの
製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、固体撮像装置は、固体撮像素子
からなる複数の画素をシリコン基板上に配列することに
よって構成される。［図１２］に２次元式固体撮像装置
構成の一例および電気信号の流れを示した。固体撮像素
子は、入射した光をフォトダイオード等で電気信号に変
換する受光部１０２とこの電気信号を転送する電荷転送
部１０３からなり、電気信号は出力バッファー１０５に
転送される。
からなる複数の画素をシリコン基板上に配列することに
よって構成される。［図１２］に２次元式固体撮像装置
構成の一例および電気信号の流れを示した。固体撮像素
子は、入射した光をフォトダイオード等で電気信号に変
換する受光部１０２とこの電気信号を転送する電荷転送
部１０３からなり、電気信号は出力バッファー１０５に
転送される。
【０００３】このような固体撮像装置においてカラー画
像を得るために受光部上にカラーフィルターを形成する
ことが行われている。補色系のカラー固体撮像装置は、
イエロー（Ｙｅと表示）、シアン（Ｃｙと表示）、グリ
ーン（Ｇと表示）、マゼンダ（Ｍｇと表示）の光を受光
する１０７のような画素ブロックを多数有する。カラー
フィルターはＹｅ層、Ｃｙ層、Ｍｇ層の３層からなり、
Ｇの画素上にはＹｅ層とＣｙ層を重ねることによってカ
ラーフィルターを形成している。また、多くの場合カラ
ーフィルター上部に受光部に入射光を集光するマイクロ
レンズを形成する。次に、［図１３］から［図１９］を
参照して従来のカラー固体撮像装置の製造方法を説明す
る。
像を得るために受光部上にカラーフィルターを形成する
ことが行われている。補色系のカラー固体撮像装置は、
イエロー（Ｙｅと表示）、シアン（Ｃｙと表示）、グリ
ーン（Ｇと表示）、マゼンダ（Ｍｇと表示）の光を受光
する１０７のような画素ブロックを多数有する。カラー
フィルターはＹｅ層、Ｃｙ層、Ｍｇ層の３層からなり、
Ｇの画素上にはＹｅ層とＣｙ層を重ねることによってカ
ラーフィルターを形成している。また、多くの場合カラ
ーフィルター上部に受光部に入射光を集光するマイクロ
レンズを形成する。次に、［図１３］から［図１９］を
参照して従来のカラー固体撮像装置の製造方法を説明す
る。
【０００４】［図１３］に示すように、シリコン基板２
０１上にフォトダイオードからなる受光部２０３と電荷
転送部２０５を形成する。続いて、電荷転送部２０５に
光が入射し誤動作の原因とならないように、電荷転送部
２０５表面にＡｌやＭｏＳｉなどの遮光膜２０７を形成
する。
０１上にフォトダイオードからなる受光部２０３と電荷
転送部２０５を形成する。続いて、電荷転送部２０５に
光が入射し誤動作の原因とならないように、電荷転送部
２０５表面にＡｌやＭｏＳｉなどの遮光膜２０７を形成
する。
【０００５】次に、［図１４］に示すように、受光部２
０３上と電荷転送部２０５上とにポリスチレンを主成分
とする透光性を有する平坦化膜２０９を形成する。さら
に、平坦化膜２０９上にカゼインやゼラチンを主成分と
する紫外線感光性の染色基質２１１を塗布する。次に、
［図１５］に示すように、紫外線によって染色基質２１
１を選択的に感光させ、現像し、１色めの画素に相当す
るパターンを形成し、染色する。
０３上と電荷転送部２０５上とにポリスチレンを主成分
とする透光性を有する平坦化膜２０９を形成する。さら
に、平坦化膜２０９上にカゼインやゼラチンを主成分と
する紫外線感光性の染色基質２１１を塗布する。次に、
［図１５］に示すように、紫外線によって染色基質２１
１を選択的に感光させ、現像し、１色めの画素に相当す
るパターンを形成し、染色する。
【０００６】次に、［図１６］に示すように、透光性を
有する中間保護膜２１５を形成する。続いて、染色基質
を塗布し、これを選択的紫外線露光、現像により、２色
目の画素に相当するパターン２１７を形成し、染色す
る。
有する中間保護膜２１５を形成する。続いて、染色基質
を塗布し、これを選択的紫外線露光、現像により、２色
目の画素に相当するパターン２１７を形成し、染色す
る。
【０００７】次に、［図１７］に示すように、透光性を
有する中間保護膜２１９を形成する。続いて、染色基質
を塗布し、これを選択的紫外線露光、現像により、３色
目の画素に相当するパターン２２１を形成し、染色す
る。続いて、透光性を有する平坦化膜２２３を形成す
る。
有する中間保護膜２１９を形成する。続いて、染色基質
を塗布し、これを選択的紫外線露光、現像により、３色
目の画素に相当するパターン２２１を形成し、染色す
る。続いて、透光性を有する平坦化膜２２３を形成す
る。
【０００８】次に、［図１８］に示すように、熱変形性
の樹脂層２２５を画素上に選択的に形成しする。続い
て、樹脂層２２５を加熱溶融することにより、［図１
９］に示すようなマイクロレンズ２２７を形成する。
の樹脂層２２５を画素上に選択的に形成しする。続い
て、樹脂層２２５を加熱溶融することにより、［図１
９］に示すようなマイクロレンズ２２７を形成する。
【０００９】以上、従来のカラー固体撮像装置の製造方
法を説明してきたが、この方法によるとカラーフィルタ
ー２１３、２１７、２２１の端部の形状が乱れるという
欠点がある。以下、カラーフィルターの端部の形状が乱
れる理由を説明する。
法を説明してきたが、この方法によるとカラーフィルタ
ー２１３、２１７、２２１の端部の形状が乱れるという
欠点がある。以下、カラーフィルターの端部の形状が乱
れる理由を説明する。
【００１０】［図２０］は染色基質２２１を紫外線露光
し、感光している状態を示している。紫外線はマスク２
１２の開口部を通して入射し、染色基質２２１を感光す
る。ところが、入射光２１０の一部は染色基質２２１を
通過し、電荷転送部２０５上の遮光膜２０７で反射して
染色基質２２１を下から感光させる。遮光膜２０７の形
状はおわんを伏せたような形状であるので、遮光膜２０
７の反射光はマスク２１２の開口幅よりも広がってしま
う。したがって、露光領域２１４の端部はなだらかに尾
を引き、急峻な端部を得ることが出来ない。これがカラ
ーフィルターの端部が乱れる理由である。
し、感光している状態を示している。紫外線はマスク２
１２の開口部を通して入射し、染色基質２２１を感光す
る。ところが、入射光２１０の一部は染色基質２２１を
通過し、電荷転送部２０５上の遮光膜２０７で反射して
染色基質２２１を下から感光させる。遮光膜２０７の形
状はおわんを伏せたような形状であるので、遮光膜２０
７の反射光はマスク２１２の開口幅よりも広がってしま
う。したがって、露光領域２１４の端部はなだらかに尾
を引き、急峻な端部を得ることが出来ない。これがカラ
ーフィルターの端部が乱れる理由である。
【００１１】このように、カラーフィルターの端部が乱
れるとフォトダイオードへの入射行路が不均一になり、
映像にむら生じる。また、カラーフィルターの端部がな
だらかに尾を引くと、最悪の場合、隣の画素までカラー
フィルターが広がってしまい、色が混ざってしまう。な
お、白黒ＣＣＤにおいては、レンズが遮光膜からの反射
光によって不均一になり、映像にむらを生じる。
れるとフォトダイオードへの入射行路が不均一になり、
映像にむら生じる。また、カラーフィルターの端部がな
だらかに尾を引くと、最悪の場合、隣の画素までカラー
フィルターが広がってしまい、色が混ざってしまう。な
お、白黒ＣＣＤにおいては、レンズが遮光膜からの反射
光によって不均一になり、映像にむらを生じる。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】上記したように、従来
の固体撮像装置のカラーフィルター製造工程ではカラー
フィルターパターンおよびレンズパターンの端部が乱れ
るという欠点があった。本発明は、上記欠点を除去し、
端部が急峻なカラーフィルターパターンおよびレンズパ
ターンを形成する方法を提供し、映像むらや混色のない
固体撮像装置の製造方法を提供することを目的とする。
の固体撮像装置のカラーフィルター製造工程ではカラー
フィルターパターンおよびレンズパターンの端部が乱れ
るという欠点があった。本発明は、上記欠点を除去し、
端部が急峻なカラーフィルターパターンおよびレンズパ
ターンを形成する方法を提供し、映像むらや混色のない
固体撮像装置の製造方法を提供することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明では、複数の受光部及び電荷転送部を形成し
た基板上に可視光に対して透明な紫外線吸収層を形成す
る工程と、前記紫外線吸収層上に紫外線感光性膜を形成
する工程と、前記紫外線感光性膜を選択的に紫外線露光
させる工程とを具備することを特徴とする固体撮像装置
の製造方法を提供する。
に、本発明では、複数の受光部及び電荷転送部を形成し
た基板上に可視光に対して透明な紫外線吸収層を形成す
る工程と、前記紫外線吸収層上に紫外線感光性膜を形成
する工程と、前記紫外線感光性膜を選択的に紫外線露光
させる工程とを具備することを特徴とする固体撮像装置
の製造方法を提供する。
【００１４】また、複数の受光部及び電荷転送部を形成
した基板上に可視光に対して透明な紫外線吸収膜を形成
する工程と、前記紫外線吸収膜上に可視光に対して透明
な平坦化層を形成する工程と、前記平坦化層上に紫外線
感光性膜を形成する工程と、前記紫外線感光性膜を選択
的に紫外線露光させる工程とを具備することを特徴とす
る固体撮像装置の製造方法を提供する。
した基板上に可視光に対して透明な紫外線吸収膜を形成
する工程と、前記紫外線吸収膜上に可視光に対して透明
な平坦化層を形成する工程と、前記平坦化層上に紫外線
感光性膜を形成する工程と、前記紫外線感光性膜を選択
的に紫外線露光させる工程とを具備することを特徴とす
る固体撮像装置の製造方法を提供する。
【００１５】また、複数の受光部及び電荷転送部を形成
した基板上に可視光に対して透明な平坦化層を形成する
工程と、前記平坦化層上に可視光に対して透明な紫外線
吸収膜を形成する工程と、前記紫外線吸収膜上に紫外線
感光性膜を形成する工程と、前記紫外線感光性膜を選択
的に紫外線露光させる工程とを具備することを特徴とす
る固体撮像装置の製造方法を提供する。
した基板上に可視光に対して透明な平坦化層を形成する
工程と、前記平坦化層上に可視光に対して透明な紫外線
吸収膜を形成する工程と、前記紫外線吸収膜上に紫外線
感光性膜を形成する工程と、前記紫外線感光性膜を選択
的に紫外線露光させる工程とを具備することを特徴とす
る固体撮像装置の製造方法を提供する。
【００１６】
【作用】本発明で提供する手段を用いると、受光部上及
び電荷転送部上に紫外線吸収層を形成するため、紫外線
感光膜を選択的に紫外線露光する際に電荷転送部表面か
らの反射がなく紫外線感光膜の感光部の端部が急峻にな
る。したがって紫外線感光膜をカラーフィルターの染色
基質として用いたとき急峻な端部を持つカラーフィルタ
ーパターンが形成できる。また、可視光に対して透明で
あるため、この紫外線吸収層をパターニングする必要が
なく、この結果、工程数はほとんど増加しない。
び電荷転送部上に紫外線吸収層を形成するため、紫外線
感光膜を選択的に紫外線露光する際に電荷転送部表面か
らの反射がなく紫外線感光膜の感光部の端部が急峻にな
る。したがって紫外線感光膜をカラーフィルターの染色
基質として用いたとき急峻な端部を持つカラーフィルタ
ーパターンが形成できる。また、可視光に対して透明で
あるため、この紫外線吸収層をパターニングする必要が
なく、この結果、工程数はほとんど増加しない。
【００１７】
【実施例】以下、本発明を用いた第一の実施例を［図
１］から［図５］を参照して説明する。
１］から［図５］を参照して説明する。
【００１８】［図１］に示すように、シリコン基板３０
１上にフォトダイオードからなる受光部３０３と電荷転
送部３０５を形成する。続いて、電荷転送部３０５に光
が入射し誤動作の原因とならないように、電荷転送部３
０５表面にＡｌ、ＭｏＳｉなどの遮光膜３０７を形成す
る。
１上にフォトダイオードからなる受光部３０３と電荷転
送部３０５を形成する。続いて、電荷転送部３０５に光
が入射し誤動作の原因とならないように、電荷転送部３
０５表面にＡｌ、ＭｏＳｉなどの遮光膜３０７を形成す
る。
【００１９】次に、［図２］に示すように、受光部３０
３上と電荷転送部３０５上とに透光性を有しｉ線（水銀
ランプが出す波長３６５ｎｍの紫外光）を吸収する平坦
化膜３０９を形成する。この例として、ポリスチレンを
主成分としベンゾフェノンを添加した材料等がある。さ
らに、平坦化膜３０９上にカゼインやゼラチンを主成分
とするｉ線感光性の染色基質３１１を塗布する。
３上と電荷転送部３０５上とに透光性を有しｉ線（水銀
ランプが出す波長３６５ｎｍの紫外光）を吸収する平坦
化膜３０９を形成する。この例として、ポリスチレンを
主成分としベンゾフェノンを添加した材料等がある。さ
らに、平坦化膜３０９上にカゼインやゼラチンを主成分
とするｉ線感光性の染色基質３１１を塗布する。
【００２０】次に、［図３］に示すように、ｉ線露光に
よって染色基質３１１選択的に感光、現像し、１色めの
画素に相当するパターンを形成する。このとき、ｉ線を
吸収する平坦化膜３０９が形成されているため、電荷転
送部３０５表面のアルミニウム遮光膜３０７からのｉ線
の反射がない。したがって、急峻な端部をもつ染色基質
３１１が得られる。続いて、染色し、カラーパターン３
１３を得る。
よって染色基質３１１選択的に感光、現像し、１色めの
画素に相当するパターンを形成する。このとき、ｉ線を
吸収する平坦化膜３０９が形成されているため、電荷転
送部３０５表面のアルミニウム遮光膜３０７からのｉ線
の反射がない。したがって、急峻な端部をもつ染色基質
３１１が得られる。続いて、染色し、カラーパターン３
１３を得る。
【００２１】次に、［図４］に示すように、透光性を有
する中間保護膜３１５を形成する。続いて、染色基質を
塗布し、これを選択的にｉ線露光、現像によりに除去
し、２色めに染色することによりカラーフィルターパタ
ーン３１７を得る。
する中間保護膜３１５を形成する。続いて、染色基質を
塗布し、これを選択的にｉ線露光、現像によりに除去
し、２色めに染色することによりカラーフィルターパタ
ーン３１７を得る。
【００２２】次に、［図５］に示すように、透光性を有
する中間保護膜３１９を形成する。続いて、染色基質を
塗布し、これを選択的にｉ線露光、現像によりに除去
し、３色めに染色することによりカラーフィルターパタ
ーン３２１を得る。続いて、透光性を有する平坦化膜３
２３を形成する。続いて、マイクロレンズ３２７を形成
する。
する中間保護膜３１９を形成する。続いて、染色基質を
塗布し、これを選択的にｉ線露光、現像によりに除去
し、３色めに染色することによりカラーフィルターパタ
ーン３２１を得る。続いて、透光性を有する平坦化膜３
２３を形成する。続いて、マイクロレンズ３２７を形成
する。
【００２３】以上、第一の実施例を説明したが、この方
法を用いるとｉ線露光する際に電荷転送部３０５表面か
らのｉ線の反射がない。したがって、急峻な端部をもつ
カラーフィルターを形成することが出来る。この結果、
映像むらや混色の無いカラー固体撮像装置を形成するこ
とが出来る。また、可視光に対して透明であるため、こ
の紫外線吸収層をパターニングする必要がなく、この結
果、工程数はほとんど増加しない。
法を用いるとｉ線露光する際に電荷転送部３０５表面か
らのｉ線の反射がない。したがって、急峻な端部をもつ
カラーフィルターを形成することが出来る。この結果、
映像むらや混色の無いカラー固体撮像装置を形成するこ
とが出来る。また、可視光に対して透明であるため、こ
の紫外線吸収層をパターニングする必要がなく、この結
果、工程数はほとんど増加しない。
【００２４】第一の実施例では中間保護膜３１５、３１
９と平坦化膜３２３がｉ線吸収膜であるかどうかは言及
してはいないが、ｉ線の吸収強度をより大きくするた
め、また、プロセスの一貫性を保つためにこれらの層を
ｉ線吸収膜で形成しても良い。
９と平坦化膜３２３がｉ線吸収膜であるかどうかは言及
してはいないが、ｉ線の吸収強度をより大きくするた
め、また、プロセスの一貫性を保つためにこれらの層を
ｉ線吸収膜で形成しても良い。
【００２５】また、中間保護膜を形成せずに三層のカラ
ーフィルターを同一平面上に形成しても良い。この場
合、隣り合せになったフィルター間の混色を防ぐために
化学的な処理が必要になる。次に、紫外線吸収膜を用い
た第二の実施例を［図６］から［図８］を参照して説明
する。
ーフィルターを同一平面上に形成しても良い。この場
合、隣り合せになったフィルター間の混色を防ぐために
化学的な処理が必要になる。次に、紫外線吸収膜を用い
た第二の実施例を［図６］から［図８］を参照して説明
する。
【００２６】［図６］に示すように、シリコン基板４０
１上にフォトダイオードからなる受光部４０３と電荷転
送部４０５を形成する。続いて、電荷転送部４０５に光
が入射し誤動作の原因とならないように、電荷転送部４
０５表面にＡｌまたはＭｏＳｉなどの遮光膜４０７を形
成する。続いて、透光性を有しｉ線を吸収する紫外線吸
収膜４０８を形成する。この例として、スパッタで形成
した薄いＴｉＷ膜やＴｉＭｏ膜、ＴｉＮ膜等がある。ま
た、薄いカーボン膜等でも良い。
１上にフォトダイオードからなる受光部４０３と電荷転
送部４０５を形成する。続いて、電荷転送部４０５に光
が入射し誤動作の原因とならないように、電荷転送部４
０５表面にＡｌまたはＭｏＳｉなどの遮光膜４０７を形
成する。続いて、透光性を有しｉ線を吸収する紫外線吸
収膜４０８を形成する。この例として、スパッタで形成
した薄いＴｉＷ膜やＴｉＭｏ膜、ＴｉＮ膜等がある。ま
た、薄いカーボン膜等でも良い。
【００２７】次に、［図７］に示すように、受光部４０
３上と電荷転送部４０５上とにポリスチレンを主成分と
する平坦化膜４０９を形成する。さらに、平坦化膜４０
９上にカゼインやゼラチン等をを主成分とするｉ線感光
性の染色基質４１１を塗布する。
３上と電荷転送部４０５上とにポリスチレンを主成分と
する平坦化膜４０９を形成する。さらに、平坦化膜４０
９上にカゼインやゼラチン等をを主成分とするｉ線感光
性の染色基質４１１を塗布する。
【００２８】次に、［図８］に示すように、ｉ線露光に
よって染色基質４１１感光し黄色及び緑色の画素に相当
する領域を残して他の領域を選択的に除去する。このと
き、ｉ線を吸収する紫外線吸収膜４０８が形成されてい
るため、電荷転送部４０５表面のアルミニウム遮光膜４
０７からのｉ線の反射がない。したがって、急峻な端部
をもつ染色基質４１１が得られる。続いて、黄色の染色
液に浸し染色基質４１１を黄色のカラーフィルター４１
３に変える。その後の工程は第一の実施例と同様であ
る。すなわち、シアン、マゼンタのカラーフィルターを
形成し、マイクロレンズを形成する。
よって染色基質４１１感光し黄色及び緑色の画素に相当
する領域を残して他の領域を選択的に除去する。このと
き、ｉ線を吸収する紫外線吸収膜４０８が形成されてい
るため、電荷転送部４０５表面のアルミニウム遮光膜４
０７からのｉ線の反射がない。したがって、急峻な端部
をもつ染色基質４１１が得られる。続いて、黄色の染色
液に浸し染色基質４１１を黄色のカラーフィルター４１
３に変える。その後の工程は第一の実施例と同様であ
る。すなわち、シアン、マゼンタのカラーフィルターを
形成し、マイクロレンズを形成する。
【００２９】以上、第二の実施例を説明したが、この方
法を用いるとｉ線露光する際に電荷転送部４０５表面か
らのｉ線の反射がない。したがって、急峻な端部をもつ
カラーフィルターを形成することが出来る。この結果、
映像むらや混色の無いカラー固体撮像装置を形成するこ
とが出来る。また、可視光に対して透明であるため、こ
の紫外線吸収層をパターニングする必要がなく、この結
果、工程数はほとんど増加しない。次に、紫外線吸収膜
を用いた第三の実施例を［図９］から［図１１］を参照
して説明する。
法を用いるとｉ線露光する際に電荷転送部４０５表面か
らのｉ線の反射がない。したがって、急峻な端部をもつ
カラーフィルターを形成することが出来る。この結果、
映像むらや混色の無いカラー固体撮像装置を形成するこ
とが出来る。また、可視光に対して透明であるため、こ
の紫外線吸収層をパターニングする必要がなく、この結
果、工程数はほとんど増加しない。次に、紫外線吸収膜
を用いた第三の実施例を［図９］から［図１１］を参照
して説明する。
【００３０】［図９］に示すように、シリコン基板５０
１上にフォトダイオードからなる受光部５０３と電荷転
送部５０５を形成する。続いて、電荷転送部５０５に光
が入射し誤動作の原因とならないように、電荷転送部５
０５表面にアルミニウムの遮光膜５０７を形成する。
１上にフォトダイオードからなる受光部５０３と電荷転
送部５０５を形成する。続いて、電荷転送部５０５に光
が入射し誤動作の原因とならないように、電荷転送部５
０５表面にアルミニウムの遮光膜５０７を形成する。
【００３１】次に、［図１０］に示すように、受光部５
０３上と電荷転送部５０５上とにポリスチレンを主成分
とする平坦化膜５０９を形成する。続いて、透光性を有
しｉ線を吸収する紫外線吸収膜５１０を形成する。この
例として、スパッタで形成した薄いＴｉＷ膜やＴｉＭｏ
膜、ＴｉＮ膜等がある。また、薄いカーボン膜等でも良
い。さらに、平坦化膜５０９上にカゼインやゼラチン等
をを主成分とするｉ線感光性の染色基質５１１を塗布す
る。
０３上と電荷転送部５０５上とにポリスチレンを主成分
とする平坦化膜５０９を形成する。続いて、透光性を有
しｉ線を吸収する紫外線吸収膜５１０を形成する。この
例として、スパッタで形成した薄いＴｉＷ膜やＴｉＭｏ
膜、ＴｉＮ膜等がある。また、薄いカーボン膜等でも良
い。さらに、平坦化膜５０９上にカゼインやゼラチン等
をを主成分とするｉ線感光性の染色基質５１１を塗布す
る。
【００３２】次に、［図１１］に示すように、ｉ線露光
によって染色基質５１１感光し黄色及び緑色の画素に相
当する領域を残して他の領域を選択的に除去する。この
とき、ｉ線を吸収する紫外線吸収膜５１０が形成されて
いるため、電荷転送部５０５表面のアルミニウム遮光膜
５０７からのｉ線の反射がない。したがって、急峻な端
部をもつ染色基質５１１が得られる。続いて、黄色の染
色液に浸し染色基質５１１を黄色のカラーフィルター５
１３に変える。その後の工程は第一の実施例と同様であ
る。すなわち、シアン、マゼンタのカラーフィルターを
形成し、マイクロレンズを形成する。
によって染色基質５１１感光し黄色及び緑色の画素に相
当する領域を残して他の領域を選択的に除去する。この
とき、ｉ線を吸収する紫外線吸収膜５１０が形成されて
いるため、電荷転送部５０５表面のアルミニウム遮光膜
５０７からのｉ線の反射がない。したがって、急峻な端
部をもつ染色基質５１１が得られる。続いて、黄色の染
色液に浸し染色基質５１１を黄色のカラーフィルター５
１３に変える。その後の工程は第一の実施例と同様であ
る。すなわち、シアン、マゼンタのカラーフィルターを
形成し、マイクロレンズを形成する。
【００３３】以上、第三の実施例を説明したが、この方
法を用いるとｉ線露光する際に電荷転送部５０５表面か
らのｉ線の反射がない。したがって、急峻な端部をもつ
カラーフィルターを形成することが出来る。この結果、
映像むらや混色の無いカラー固体撮像装置を形成するこ
とが出来る。また、このｉ線吸収層はパターニングする
必要がない。従って、工程数はほとんど増加しない。
法を用いるとｉ線露光する際に電荷転送部５０５表面か
らのｉ線の反射がない。したがって、急峻な端部をもつ
カラーフィルターを形成することが出来る。この結果、
映像むらや混色の無いカラー固体撮像装置を形成するこ
とが出来る。また、このｉ線吸収層はパターニングする
必要がない。従って、工程数はほとんど増加しない。
【００３４】以上、第一、第二、第三の実施例共に紫外
線の露光光としてｉ線を用いた例を示した。しかし、こ
れに限る必要はなく、可視光よりも波長が短ければ良
い。また、さらに波長の短い露光光を用いても良い。
線の露光光としてｉ線を用いた例を示した。しかし、こ
れに限る必要はなく、可視光よりも波長が短ければ良
い。また、さらに波長の短い露光光を用いても良い。
【００３５】また、第１、第二、第３の実施例共にカラ
ーフィルターは補色系の黄色、シアン、緑色、マゼンタ
の４色を用いたが、これに限る必要はなく、原色系
（赤、青、緑）でも良い。
ーフィルターは補色系の黄色、シアン、緑色、マゼンタ
の４色を用いたが、これに限る必要はなく、原色系
（赤、青、緑）でも良い。
【００３６】
【発明の効果】上記したように、本発明を用いると、受
光部上及び電荷転送部上に紫外線吸収層を形成するた
め、紫外線感光膜を選択的にｉ線露光する際に電荷転送
部表面からの反射がなく紫外線感光膜の感光部の端部が
急峻になる。したがって紫外線感光膜をカラーフィルタ
ーの染色基質として用いたとき急峻な端部を持つカラー
フィルターが形成できる。また、この紫外線吸収層はパ
ータニングする必要がないため、工程数はほとんど増加
しない。この結果、映像むらや混色の無いカラー固体撮
像装置の製造方法を提供できる。
光部上及び電荷転送部上に紫外線吸収層を形成するた
め、紫外線感光膜を選択的にｉ線露光する際に電荷転送
部表面からの反射がなく紫外線感光膜の感光部の端部が
急峻になる。したがって紫外線感光膜をカラーフィルタ
ーの染色基質として用いたとき急峻な端部を持つカラー
フィルターが形成できる。また、この紫外線吸収層はパ
ータニングする必要がないため、工程数はほとんど増加
しない。この結果、映像むらや混色の無いカラー固体撮
像装置の製造方法を提供できる。
【図１】本発明の第一の実施例を示す断面図
【図２】本発明の第一の実施例を示す断面図
【図３】本発明の第一の実施例を示す断面図
【図４】本発明の第一の実施例を示す断面図
【図５】本発明の第一の実施例を示す断面図
【図６】本発明の第二の実施例を示す断面図
【図７】本発明の第二の実施例を示す断面図
【図８】本発明の第二の実施例を示す断面図
【図９】本発明の第三の実施例を示す断面図
【図１０】本発明の第三の実施例を示す断面図
【図１１】本発明の第三の実施例を示す断面図
【図１２】従来の固体撮像装置の構成を示す平面図
【図１３】従来例を示す断面図
【図１４】従来例を示す断面図
【図１５】従来例を示す断面図
【図１６】従来例を示す断面図
【図１７】従来例を示す断面図
【図１８】従来例を示す断面図
【図１９】従来例を示す断面図
【図２０】従来例を露光時の状態を示す断面図
１０２、２０３、３０３、４０３、５０３ 受光部 １０３、２０５、３０５、４０５、５０５ 電荷転送
部 １０５ 出力バッファー １０７ 画素ブロック ２０１、３０１、４０１、５０１ シリコン基板 ２０７、３０７、４０７、５０７ 遮光膜 ２０９、３０９、４０９、５０９、２２３ 平坦化膜 ２１１、３１１、４１１、５１１ 染色基質 ２１２ マスク ２１３、３１３、４１３、５１３ 黄色のカラーフィ
ルター ２１４ 露光領域 ２１５、２１９ 中間保護膜 ２１７ シアンのカラーフィルター ２２１ マゼンタのカラーフィルター ２２５ 樹脂層 ２２７、３２７、４２７、５２７ マイクロレンズ ４０８、５１０ 紫外線吸収膜
部 １０５ 出力バッファー １０７ 画素ブロック ２０１、３０１、４０１、５０１ シリコン基板 ２０７、３０７、４０７、５０７ 遮光膜 ２０９、３０９、４０９、５０９、２２３ 平坦化膜 ２１１、３１１、４１１、５１１ 染色基質 ２１２ マスク ２１３、３１３、４１３、５１３ 黄色のカラーフィ
ルター ２１４ 露光領域 ２１５、２１９ 中間保護膜 ２１７ シアンのカラーフィルター ２２１ マゼンタのカラーフィルター ２２５ 樹脂層 ２２７、３２７、４２７、５２７ マイクロレンズ ４０８、５１０ 紫外線吸収膜
Claims (3)
- 【請求項１】 複数の受光部及び電荷転送部を形成した
基板上に可視光に対して透明な紫外線吸収層を形成する
工程と、 前記紫外線吸収層上に紫外線感光性膜を形成する工程
と、 前記紫外線感光性膜を選択的に紫外線露光させる工程と
を具備することを特徴とする固体撮像装置の製造方法 - 【請求項２】 複数の受光部及び電荷転送部を形成した
基板上に可視光に対して透明な紫外線吸収膜を形成する
工程と、 前記紫外線吸収膜上に可視光に対して透明な平坦化層を
形成する工程と、 前記平坦化層上に紫外線感光性膜を形成する工程と、 前記紫外線感光性膜を選択的に紫外線露光させる工程と
を具備することを特徴とする固体撮像装置の製造方法。 - 【請求項３】 複数の受光部及び電荷転送部を形成した
基板上に可視光に対して透明な平坦化層を形成する工程
と、 前記平坦化層上に可視光に対して透明な紫外線吸収膜を
形成する工程と、 前記紫外線吸収膜上に紫外線感光性膜を形成する工程
と、 前記紫外線感光性膜を選択的に紫外線露光させる工程と
を具備することを特徴とする固体撮像装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13297492A JPH05326902A (ja) | 1992-05-26 | 1992-05-26 | 固体撮像装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13297492A JPH05326902A (ja) | 1992-05-26 | 1992-05-26 | 固体撮像装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05326902A true JPH05326902A (ja) | 1993-12-10 |
Family
ID=15093848
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13297492A Pending JPH05326902A (ja) | 1992-05-26 | 1992-05-26 | 固体撮像装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05326902A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004006336A1 (ja) * | 2002-07-09 | 2004-01-15 | Toppan Printing Co., Ltd. | 固体撮像素子及びその製造方法 |
| US7084472B2 (en) | 2002-07-09 | 2006-08-01 | Toppan Printing Co., Ltd. | Solid-state imaging device and manufacturing method therefor |
| JP2009065178A (ja) * | 2008-10-03 | 2009-03-26 | Toppan Printing Co Ltd | 固体撮像素子 |
| US7659929B2 (en) | 2004-08-24 | 2010-02-09 | Panasonic Corporation | Solid-state image sensor and method of manufacturing thereof |
| US7968888B2 (en) | 2005-06-08 | 2011-06-28 | Panasonic Corporation | Solid-state image sensor and manufacturing method thereof |
-
1992
- 1992-05-26 JP JP13297492A patent/JPH05326902A/ja active Pending
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004006336A1 (ja) * | 2002-07-09 | 2004-01-15 | Toppan Printing Co., Ltd. | 固体撮像素子及びその製造方法 |
| JPWO2004006336A1 (ja) * | 2002-07-09 | 2005-11-10 | 凸版印刷株式会社 | 固体撮像素子及びその製造方法 |
| US7084472B2 (en) | 2002-07-09 | 2006-08-01 | Toppan Printing Co., Ltd. | Solid-state imaging device and manufacturing method therefor |
| CN100440518C (zh) * | 2002-07-09 | 2008-12-03 | 凸版印刷株式会社 | 固体摄像元件及其制造方法 |
| JP4622516B2 (ja) * | 2002-07-09 | 2011-02-02 | 凸版印刷株式会社 | 固体撮像素子及びその製造方法 |
| US7659929B2 (en) | 2004-08-24 | 2010-02-09 | Panasonic Corporation | Solid-state image sensor and method of manufacturing thereof |
| US7968888B2 (en) | 2005-06-08 | 2011-06-28 | Panasonic Corporation | Solid-state image sensor and manufacturing method thereof |
| JP2009065178A (ja) * | 2008-10-03 | 2009-03-26 | Toppan Printing Co Ltd | 固体撮像素子 |
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