JPH0533133A - 磁性膜形成用スパツタ装置のダスト集塵機 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は、基板上に磁性膜を形成するスパッ
タ装置のダスト集塵機に関する。 【構成】 スパッタ装置の加熱室、成膜室などを通過で
きる走行台車の上に磁石板を備えて構成されている。 【効果】 本発明によれば、基板にスパッタすることに
より成膜室などに生じるダスト状の磁性膜フレークを除
去することができる。即ち、磁石板を備えた走行台車を
スパッタ装置に投入し、スパッタ装置の各室を通過させ
ることによって各室に滞留している磁性膜フレークを吸
着する。磁性膜フレークを吸着したまま走行台車をスパ
ッタ装置から取り出すことでスパッタ装置の内部を清浄
化することができ、基板にスパッタする際の不良率を下
げることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明はディスク上に磁性膜を形
成するスパッタ装置に用いて好適なダスト集塵機に関す
るものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、薄膜磁気ヘッドなどの薄膜素子を
スパッタリングにより製造する場合に用いて好適な成膜
装置として、図２に示す構成のスパッタ装置が知られて
いる。

【０００３】図２に示すスパッタ装置Ａにおいて、６は
予備加熱室、７は加熱室、８は第１スパッタ室、９は中
間室、１０は第２スパッタ室、１１は取出室を各々示
し、これらの各室が直列的に接続されてスパッタ装置Ａ
が構成されるとともに、各室の境界部分には仕切弁装置
１２が設けられていて、各室の雰囲気を別個に調節でき
るようになっている。更に図２において符号１３は加熱
ヒータを示し、各室の温度調節ができるようになってい
る。

【０００４】また、図２に示す構成のスパッタ装置Ａに
おいては、スパッタカソード１が第１スパッタ室８の左
右両内側壁と第２スパッタ室１０の左右両内側壁に設け
られ、両側のスパッタカソード１からターゲットの構成
粒子を飛ばして成膜することができるようになってい
る。

【０００５】図２に示すスパッタ装置Ａを使用してスパ
ッタを行う場合は、図３に示す基板ホルダ１５を備えた
走行台車１６を使用する。そして、前記基板ホルダ１５
に磁気ディスクの基板１７を必要枚数装着する。

【０００６】次に走行台車１６を仕切弁装置１２を通し
て予備加熱室６に移動させ、基板１７を所定の温度に加
熱すると同時に内部圧力を調節し、この後に加熱室７を
介して第１スパッタ室８に移動させ、第１スパッタ室８
において複数のスパッタカソードから順次あるいは複数
同時にスパッタを行って成膜処理を行い、次いで中間室
９に走行台車１６を移動し、次に第２スパッタ室１０で
必要に応じて同様にスパッタ処理を行い薄膜磁気ヘッド
などの薄膜素子の製造に利用している。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】前記構成のスパッタ装
置Ａにあっては繰り返し使用している間に、スパッタ室
から多量の磁性膜フレーク(ダストの１種)が発生する問
題がある。この磁性膜フレークは、マグネトロンターゲ
ットからの磁場により磁化されて磁気を帯びている。従
ってこの磁性膜フレークが存在する空間を前記走行台車
１６が通過した場合、磁性膜が成膜される前の基板(ハ
ードディスク)あるいは基板ホルダ１５に容易に吸着
し、スパッタの障害となり、不良率が向上する問題があ
った。

【０００８】また、基板ホルダ１５自体にもスパッタで
飛ばされた粒子が付着し、この付着粒子膜がターゲット
磁界により磁化され、基板ホルダ１５が前記磁性膜フレ
ークを吸着し、前記問題を増長させる問題があった。

【０００９】本発明は前記課題を解決するためになされ
たもので、スパッタ装置内に生じる磁性膜フレークを容
易に除去することができ、スパッタ時の不良率を低くす
ることができるスパッタ装置用ダスト集塵機を提供する
ことを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】請求項１記載の発明は前
記課題を解決するために、加熱室とスパッタ室と取出室
を具備し、各室が仕切り弁を介し接続されて個々に内部
雰囲気を調整自在に構成されるとともに、ディスクを備
えた走行台車が加熱室とスパッタ室と取出室を順次移動
する間にディスク上に磁性膜が形成される磁性膜形成用
スパッタ装置に用いられるダスト集塵機であって、前記
加熱室とスパッタ室と取出室とを移動自在な移動台車
と、この移動台車の上に設けられた磁石板とを具備して
なるものである。

【００１１】

【作用】スパッタ装置の各室を通過させて磁石板を設け
た走行台車を移動させることでスパッタ装置内の空間に
滞留する磁性膜フレークを磁石板で吸着して除去するこ
とができる。この吸着の後に基板を備えた走行台車をス
パッタ装置の各室に送って成膜を行うことで基板上に磁
性膜を形成することができる。この際に基板が通過する
空間に滞留していた磁性膜フレークは予め先の走行台車
の磁石板によって除去されているので、基板上に磁性膜
フレークが付着することがなくなり、スパッタの障害と
ならなくなる。

【００１２】

【実施例】図１は本発明の一実施例を示すもので、この
実施例のダスト集塵機２０は、走行台車２１と磁石板２
２とから構成されている。前記走行台車２１は、図３に
示す走行台車１６と同等の構成のもので、図２に示すス
パッタ装置の予備加熱室６と加熱室７と第１スパッタ室
８と中間室９と第２スパッタ室１０と取出室１１を順次
移動できるように構成されている。走行台車２１の上に
設けられている磁石板２２は、永久磁石からなる板体あ
るいは、電源を内臓した電磁石板のいずれでも良く、要
は磁力を発生できるもので、スパッタ室を通過する際に
障害にならない形状であれば良い。

【００１３】次に前記ダスト集塵機２０の使用方法につ
いて、スパッタ装置Ａによる磁性膜の形成と関連づけて
説明する。

【００１４】スパッタ装置Ａを用いて基板１７に磁性膜
を形成するには、図３に示す構成の基板ホルダ１５を備
えた走行台車１６をスパッタ装置Ａに投入すれば良い。

【００１５】即ち、予備加熱室６の入口側の仕切弁装置
１２を解放して予備加熱室６に走行台車１６を移動さ
せ、前記仕切弁装置１２を閉じた後に予備加熱室６の温
度と気圧を調節し、基板１７を加熱ヒータ１３により予
熱する。

【００１６】予備加熱室６での調整が終了したならば、
予備加熱室６の出口側の仕切弁装置１２をあけて加熱室
７に走行台車１６を移動させ、再び仕切弁装置１２を閉
じた後に基板１７を加熱ヒータ１３により所定の温度に
加熱する。

【００１７】基板１７の加熱処理が終了したならば仕切
弁装置１２をあけて走行台車１６を第１スパッタ室８に
移動させる。第１スパッタ室８においては加熱ヒータ１
３によって基板１７を加熱すると同時にスパッタを行っ
てターゲット１から粒子をたたき出して基板１７上に磁
性膜を形成する。

【００１８】成膜が終了したならば、第１成膜室８の出
口側の仕切弁装置１２を解放して走行台車１６を中間室
９に移動し、次いで走行台車１６を第２スパッタ室１０
に移動させて必要に応じて成膜処理を行う。第２スパッ
タ室１０における成膜が終了したならば、出口側の仕切
弁１２を解放して取出室１１に走行台車１６を移動さ
せ、後に取出室１１から走行台車１６を出すことによっ
てスパッタ終了とする。

【００１９】前記スパッタ装置Ａでは、基板１７上に磁
性膜を形成するので、第１スパッタ室８に設けるターゲ
ット１はＣr(クロム)などの磁性膜形成用のターゲット
を用い、第２スパッタ室１０にもＣ(炭素)など磁性膜形
成用のターゲットを用いる。

【００２０】以上のような工程を繰り返し行うことによ
ってスパッタ装置Ａの各室は磁性膜フレークが次第に滞
留するようになる。よってこの磁性膜フレークをスパッ
タ装置Ａから取り除く必要がある。

【００２１】そこで、図１に示す走行台車２１を前記走
行台車１６と全く同一条件でスパッタ装置Ａに投入す
る。即ち、仕切弁装置１２…を適宜解放して走行台車２
１を予備加熱室６と加熱室７と第１スパッタ室８と中間
室９と第２スパッタ室１０と取出室１１を順次移動させ
る。そしてこの移動中に磁石板２２による磁力によって
スパッタ装置Ａ内の磁性膜フレークを磁力で吸引する。
走行台車２１が各室を順次移動することによって各室に
滞留している磁性膜フレークは除去されてスパッタ装置
Ａの全体のダスト集塵がなされる。

【００２２】以上説明したようにダスト集塵を行った後
に再び基板ホルダ１５と基板１７とを備えた走行台車１
６を移動させながら基板１７上に成膜するならば、移動
台車１６は磁性膜フレークが除去された後の清浄な空間
を通過することになるので、基板１７に磁性膜フレーク
が付着するおそれがなくなり、基板１７上に形成される
磁性膜の不良率を下げることができる。

【００２３】ところで前記走行台車２１を用いて磁性膜
フレークの除去を行うのは、複数台の走行台車１６を走
行させて所定枚数の基板１７にスパッタした後であって
も良いし、１台の走行台車２１の移動後に順次続けて走
行台車１６を走行させるようにしても良い。そして、一
度スパッタ装置Ａを通過させた後の前記走行台車２１
は、必要に応じて磁性膜フレークを機械的に除去した後
に繰り返し使用することができる。

【００２４】また、磁石板２２として電磁石を用いるな
らば、磁性膜フレークを吸着してスパッタ装置Ａを通過
した後に電磁石への通電を停止することで、磁石板２２
に付着した磁性膜フレークを簡単に除去することができ
る。

【００２５】なお、前記実施例においては、走行台車１
６と走行台車２１は同一形状のものを用いたが、走行台
車１６と走行台車２１とを別々の形状のものにしても良
いのは勿論であり、走行台車２１の形状はスパッタ装置
Ａ内を通過できるものであれば特別問わないものとす
る。

【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、磁
石板を備えた走行台車を移動させてスパッタ装置内を通
過させることでスパッタ室などに滞留している磁性膜フ
レークを磁石板で吸着することができ、磁石板が通過し
た後の空間に磁性膜フレークを無くすることができる。
従って磁性膜フレークを除去した後の清浄化された空間
に基板を備えた走行台車を通過させることができるの
で、基板上に磁性膜を形成する場合の不良率を低くする
ことができる。また、磁石板を備えた走行台車はスパッ
タ装置に何回でも繰り返し使用することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は本発明の一実施例を示す斜視図である。

【図２】図２はスパッタ装置の一例を示す断面図であ
る。

【図３】図３は基板ホルダを備えた走行台車の斜視図で
ある。

【符号の説明】

Ａ スパッタ装置 ６ 予備加熱室 ７ 加熱室 ８ 第１スパッタ室 １０ 第２スパッタ室 １５ 基板ホルダ １６ 走行台車 １７ 基板

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】 加熱室とスパッタ室と取出室を具備し、
   各室が仕切り弁を介し接続されて個々に内部雰囲気を調
   整自在に構成されるとともに、ディスクを備えた走行台
   車が加熱室とスパッタ室と取出室を順次移動する間にデ
   ィスク上に磁性膜が形成される磁性膜形成用スパッタ装
   置に用いられるダスト集塵機であって、前記加熱室とス
   パッタ室と取出室とを通過自在な移動台車と、この移動
   台車の上に設けられた磁石板とを具備してなることを特
   徴とするダスト集塵機。