JPS6333555A - 薄膜記録媒体製造用マスク装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （イ）産業上の利用分野 本発明は、放電反応を利用した薄膜処理装置で光ディス
ク等の薄膜記録媒体を製造する工程で適用するマスク装
置であって、特に記録層を保護層で包み込む膜構造を真
空中で連続して実現出来るように構成したマスク装置に
関する。

（ロ）従来の技術 薄膜記録媒体において、特に金属膜を用いる記録媒体、
例えば遷移金属−希土類金属系アモルファス合金に代表
される光磁気媒体、Ｃｏ−Ｎｉに代表されるハードディ
スク媒体、あるいはＴｅ　−Ｓｅ系に代表される相変化
記録媒体においては、その耐酸化性及び耐蝕性において
十分な信頼性が得られていない。そこで主として端面か
らの酸化及び腐食を抑えるために第３図に示すように、
記録層１を保護層２．３で包み込む膜構造をとることで
記録膜の信頼性を確保することが必要となる。

従来、この膜構造の薄膜記録媒体をスパッタ装置のよう
な放電反応を利用した薄膜処理装置で製造する場合、各
層の膜付毎にマスク寸法を変える必要があるので、各膜
付毎に真空をやふり、成膜後火気中に基板を取り出して
他のマスクと交換し、再び真空中に基板を戻して成膜し
ていた。

一方、成膜中、基板を大気にさらすことなく真空中で連
続して上記のような膜構造を実現する手段として、連続
して多層膜を成膜できる薄膜処理装置に成膜室内で選択
的にマスクを基板に取付け、成膜後このマスクを取外す
ように構成したマスク脱着装置を設けるようにすること
が着想されているが現在まで実現されていない。

（ハ）発明が解決しようとする問題点 上記のように各膜付毎に基板を大気中に取り出してマス
クの交換を行なっていたのでは、その度に各層が大気に
さらされるために膜の界面に酸素が取り込まれ、記録層
の信頼性に問題があった。

また、上記のようなマスク脱着装置ではその機構が複雑
化し、それに伴い脱着装置の信頼性が不十分であり、加
えて、マスク脱着時に発生するゴミによる媒体の欠陥が
増加することにより、記録膜の信頼性劣化をもたらすと
いう問題がある。

本発明は、上記従来の問題点を解決し、放電反応を利用
した薄膜処理装置で真空中において連続して多層膜を付
着させ、かつ記録層を保Ｍ層で包み込むような膜構造を
実現できるようにした薄膜記録媒体製造用マスク装置を
提供することを目的としている。

（ニ）問題点を解決するための手段 本発明は、前記問題点を解決するために放電反応を利用
した薄膜処理装置で基板上に記録層及び保護層から成る
多層膜を作製する際に適用される薄膜記録媒体製造用マ
スク装置において、基板ホルダーに載置した基板を位置
決めする固定マスクと、当該固定マスクよりその内径が
小さく、かつ上記基板に対して垂直方向に往復動自在な
可動マスクとを備え、保護層を成膜するとき可動マスク
を移動させて基板側から当該可動マスクを所定位置まで
遠ざけるようにする一方、記録膜を成膜するときは可動
マスクを基板側の所定位置まで近づけるような構成にし
ている。

（ホ）作用 前記のような構成にしたので、記録膜を成膜した後、可
動マスクを基板側から所定値１まで遠ざけたとき、保護
膜は記録膜を覆うようにサイドに回り込んで付着する。

また、真空中における可動機構部分が少なく闇便であり
複雑な動作をしないのでゴミの発生を極力抑えることが
でき、ゴミ付着に基づく記録媒体の欠陥を低減できる。

（へ）実施例 第１図は、本発明の実施例である薄膜記録媒体製造用マ
スク装置を示したもので、ある。

すなわち、基板ホルダー５上に成膜されるべき基板４を
載置し、基板４への付着面積のそれぞれ異なるマスク６
．７が基板４の外周端を覆うように設けられており、マ
スク７の内径ａをマスク６の内径すよりも小さくしてい
る。

上記マスク６は、基板４の外側に接して基板ホルダー５
に固定され、基板外周上端を押えるような形で基板４の
位置決めを行なっている。なお基板全面に所望の膜を付
着させたい場合は、基板面にマスクがかからないように
マスク寸法を選べばよい。

一方、上記マスク７は、マスク６に重ねて設けられ、そ
の長手方向外端部には、基板４に対してマスク７を垂直
方向に移動させる案内棒９を固着又は当接させている。

そして、案内棒９が静止状態において、マスク７の端面
７°が基板４に密着するようにマスク７と基板ホルダー
５間にスプリング８を装着している。なお当１亥スフ゛
リング８は、基板ホルダー５と後述のプッシャー１０間
に装着してもよい。

また、上記案内棒９は、基板ホルダー５を介して、当該
案内棒９を支持する板状のプッシャー１０に埋設されて
いる。このような形状のプッシャーを使用することによ
って均一な力で同時にマスク７を基板に対して垂直方向
に移動させることができる。もっともブツシャ−の形状
は、マスク７を垂直方向に移動させることができれば、
必ずしも板状のものに限定されず、各案内棒毎にこれを
押すような部材を設けてもよいし、マスク７を牽引する
駆動部材を設けてもよい。

以下には、保護膜、記録膜等多層膜を連続して付着でき
るように多元のターゲットを備えた複数の成膜室から成
るスパッタ装置に本発明を適用したときの動作を説明す
る。

最初に基板４上に所望の保護膜２を付着させる場合、本
装置は、図示しないチャック機構によりチャッキングさ
れ、第１の成膜室に搬送される。

このときプッシャー１０がチャック機構により予め定め
られたストローク分押されて移動する。当該プッシャー
ｌＯの移動に伴ない、案内棒９も連動し、マスク７の端
面７゛　はスプリング８に抗して基板４から垂直方向に
第２図に示すような所定位置まで離された状態におかれ
る。そしてこのような状態において、スパッタ粒子が基
板４に付着して保護膜２が成膜される。

上記のように保護膜２の成膜が終了すると、次マスク７
の端面７′が保護膜２上の位置７゛°に来るようにプッ
シャー１０を引き戻す。するとマスク７は案内棒９に支
持されながらスプリング８の弾性復元力によって７゛の
位置まで移動する。

次いで記録膜１を成膜する次の成膜室に搬送され、マス
ク７の端面７°゛の位置にある状態で記録膜ｌを形成す
るスパッタ粒子を保護膜２上に付着させるようにする。

次に上記記録膜１の上に、記録膜を覆うように保護膜３
を付着させるには、保護膜３を付着させる他の成膜室に
本装置を搬送すると、チャック機構がプッシャー１０を
押してマスク７を、保護膜２を付着させたときの位置ま
で再び移動させるようにする。この場合、スパッタ法で
は、ターゲット側からはマスク７によって陰となってい
る保護膜２端のテーパ部にまでスパッタ粒子が回り込む
ために、保護膜３が記録膜１を覆うように成膜される。

なお、本装置は、上記で説明した膜付着面を水平にした
横型に限定されず、膜付着面を垂直にした所謂縦型にし
てもよく、縦型にすれば基板上に粉塵が付着するのを防
ぐのに効果的である。

（ト）本発明の効果 本発明によれば、基板を大気にさらすことなく、真空中
で連続して記録膜を保護膜で包み込むような薄膜記録媒
体の膜構造を実現することができ、媒体の信軌性を両段
に改善できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の実施例を示したマスク装置の概略断
面図、第２図は保護膜を付着させるときの動作状態を示
した概略断面図、第３図は、本発明によって実現される
薄膜記録媒体の膜構造を示した断面図である。 ■・・・・・・記録膜、２．３・・・・・・保護膜、４
・・・・・・基板５・・・・・・基板ホルダー、６・・
・・・・固定マスク、７・・・・・・可動マスク

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 　放電反応を利用した薄膜処理装置で基板上に記録層及
   び保護層から成る多層膜を作製する際に適用される薄膜
   記録媒体製造用マスク装置において、基板ホルダーに載
   置した基板を位置決めする固定マスクと、当該固定マス
   クよりその内径が小さく、かつ上記基板に対して垂直方
   向に往復動自在な可動マスクとを備え、保護層を成膜す
   るとき可動マスクを移動させて基板側から当該可動マス
   クを所定位置まで遠ざけるようにする一方、記録膜を成
   膜するとき可動マスクを基板側の所定位置まで近づける
   ような構成にしたことを特徴とする薄膜記録媒体製造用
   マスク装置。