JPH05331685A - 電解処理ラインにおけるストリップ振動防止方法及びストリップ形状矯正方法 - Google Patents
電解処理ラインにおけるストリップ振動防止方法及びストリップ形状矯正方法Info
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- JPH05331685A JPH05331685A JP16553492A JP16553492A JPH05331685A JP H05331685 A JPH05331685 A JP H05331685A JP 16553492 A JP16553492 A JP 16553492A JP 16553492 A JP16553492 A JP 16553492A JP H05331685 A JPH05331685 A JP H05331685A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 電解処理ラインにおけるストリップのバタツ
キを抑えて安定走行を実現させ、スパークの発生を防止
すると共に、ストリップの形状矯正を行なわんとするも
のである。 【構成】 ストリップＸと電極1a、1b間に与えられる噴
流によって生ずる圧力につき、該ストリップＸ両面間で
差を生じさせ、ストリップＸを常に低圧側に押し付ける
ようにする。
キを抑えて安定走行を実現させ、スパークの発生を防止
すると共に、ストリップの形状矯正を行なわんとするも
のである。 【構成】 ストリップＸと電極1a、1b間に与えられる噴
流によって生ずる圧力につき、該ストリップＸ両面間で
差を生じさせ、ストリップＸを常に低圧側に押し付ける
ようにする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は電解処理ラインにおけ
るストリップ振動防止方法及びストリップ形状矯正方法
に関する。
るストリップ振動防止方法及びストリップ形状矯正方法
に関する。
【０００２】
【従来の技術】電気鍍金、電解脱脂、電解酸洗等の電解
処理ラインでは、図７に示される様に電解処理槽4内に
おいて、その中を通過するストリップＸの表面とその両
面の電極1a、1bとの間に、噴流ヘッダ2a、2bから噴流が
与えられ、これらの電解処理が行なわれる（図中5はダ
ムロール、6はコンダクタロール、7はバックアップロー
ルである）。
処理ラインでは、図７に示される様に電解処理槽4内に
おいて、その中を通過するストリップＸの表面とその両
面の電極1a、1bとの間に、噴流ヘッダ2a、2bから噴流が
与えられ、これらの電解処理が行なわれる（図中5はダ
ムロール、6はコンダクタロール、7はバックアップロー
ルである）。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】この様な設備構成を有
する電解処理ラインでは、一般に噴流の供給がストリッ
プＸの表裏両面で同圧になるように調整されて行なわれ
るものであり、そのクッション効果、サクション効果に
より、その間を通過するストリップＸの振動を抑止せし
めている。
する電解処理ラインでは、一般に噴流の供給がストリッ
プＸの表裏両面で同圧になるように調整されて行なわれ
るものであり、そのクッション効果、サクション効果に
より、その間を通過するストリップＸの振動を抑止せし
めている。
【０００４】しかし実際には、これらの噴流ヘッダ2a、
2bに噴流を送るポンプに圧力変動が生じた場合、該変動
の影響を受けてストリップＸのバタツキや形状不良が発
生することになる。
2bに噴流を送るポンプに圧力変動が生じた場合、該変動
の影響を受けてストリップＸのバタツキや形状不良が発
生することになる。
【０００５】この様な圧力変動を原因とするストリップ
Ｘのバタツキや形状不良が発生すると、該ストリップＸ
と電極1a、1bとの距離が縮まってスパークが発生し、ス
トリップＸの表面性状を劣化させることになる。そのた
め両間の距離の設定を小さくすることができず、その間
を満たしている処理液の抵抗が大きくなってしまい、結
局電力ロスを増大させることになる。
Ｘのバタツキや形状不良が発生すると、該ストリップＸ
と電極1a、1bとの距離が縮まってスパークが発生し、ス
トリップＸの表面性状を劣化させることになる。そのた
め両間の距離の設定を小さくすることができず、その間
を満たしている処理液の抵抗が大きくなってしまい、結
局電力ロスを増大させることになる。
【０００６】又電気鍍金が行われる場合には、ストリッ
プＸの形状不良が原因となってストリップ幅方向の鍍金
付着量が不均一になることもあった。
プＸの形状不良が原因となってストリップ幅方向の鍍金
付着量が不均一になることもあった。
【０００７】本発明は従来技術の以上の様な問題に鑑み
創案されたもので、ストリップと電極との間に与える噴
流の供給の仕方に工夫を加えることにより、該ストリッ
プの振動を抑止したり、その形状矯正を実施できるよう
にしたものである。
創案されたもので、ストリップと電極との間に与える噴
流の供給の仕方に工夫を加えることにより、該ストリッ
プの振動を抑止したり、その形状矯正を実施できるよう
にしたものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】そのため本発明の電解処
理ラインにおけるストリップ振動防止法は、電解処理ラ
インの電解処理槽内を通過するストリップの表面とその
両面の電極との間に噴流を与えた時に、該ストリップの
両面で差圧を生じさせるようにしたことを基本的特徴と
している。
理ラインにおけるストリップ振動防止法は、電解処理ラ
インの電解処理槽内を通過するストリップの表面とその
両面の電極との間に噴流を与えた時に、該ストリップの
両面で差圧を生じさせるようにしたことを基本的特徴と
している。
【０００９】上記の様な圧力差を付けるために、噴流量
に差を持たせて実現されることになるが、それによって
ストリップ両面での流速に差が生じてしまうことにな
る。純ＺnやＺn−Ｎi合金鍍金系では、鍍金組成や付着
量にその流速の影響は少なく、大きな問題とはならない
が、Ｚn−Ｆe系合金鍍金の様な流速依存性の大きな電気
鍍金への適用は困難となる。
に差を持たせて実現されることになるが、それによって
ストリップ両面での流速に差が生じてしまうことにな
る。純ＺnやＺn−Ｎi合金鍍金系では、鍍金組成や付着
量にその流速の影響は少なく、大きな問題とはならない
が、Ｚn−Ｆe系合金鍍金の様な流速依存性の大きな電気
鍍金への適用は困難となる。
【００１０】その様な電気鍍金系への本発明法の適用に
ついては、ストリップ側に面する両電極の非対象な位置
に突起を設け、且つ該ストリップ両面に与える噴流を等
流速とすることにより、ストリップ両面で局部的に差圧
を生じさせるものとする。
ついては、ストリップ側に面する両電極の非対象な位置
に突起を設け、且つ該ストリップ両面に与える噴流を等
流速とすることにより、ストリップ両面で局部的に差圧
を生じさせるものとする。
【００１１】又本願第２発明の電解処理ラインにおける
ストリップ形状矯正方法は、電解処理ラインの電解処理
槽内を通過するストリップの表面と電極との間に噴流を
与えた時に、該噴流の噴出圧力及び／又は噴出流量をス
トリップ幅方向で各別に制御することを基本的特徴とし
ている。
ストリップ形状矯正方法は、電解処理ラインの電解処理
槽内を通過するストリップの表面と電極との間に噴流を
与えた時に、該噴流の噴出圧力及び／又は噴出流量をス
トリップ幅方向で各別に制御することを基本的特徴とし
ている。
【００１２】
【作用】第１発明の様にストリップ両面に与えた噴流で
該両面間に差圧を設ければ、図１に示すようにストリッ
プＸは低圧側へ押え付けられることになる。この時の差
圧をポンプの圧力変動以上につけることで、ストリップ
Ｘは常に低圧側へ押え付けられることになり、該ストリ
ップＸの振動が極めて減少することになる。
該両面間に差圧を設ければ、図１に示すようにストリッ
プＸは低圧側へ押え付けられることになる。この時の差
圧をポンプの圧力変動以上につけることで、ストリップ
Ｘは常に低圧側へ押え付けられることになり、該ストリ
ップＸの振動が極めて減少することになる。
【００１３】又図２に示される様に、電極1a、1b入側の
ストリップＸに面する上下非対象な位置に突起10a、10b
を設け、更に噴流ヘッダ2a、2b等からストリップＸ両面
に与えられる噴流の吐出量を同一にする等して図中Ａの
領域での流速をストリップＸ両面で差が生じないように
した場合、Ｂ及びＣの領域の突起10a、10bの所で処理液
の通過断面積が部分的に絞られるため、図３に示される
様に、該突起10a又は10bの所で局部的に圧力が高くなっ
てストリップＸを押し上げる（又は押し下げる）力が作
用し、このＢ及びＣの領域でストリップＸ両面で圧力差
が生ずる。この圧力差がポンプの圧力変動以上に設定さ
れていれば、ストリップＸは常に一方向に押し付けられ
ることになり、その振動が低下せしめられる。従って上
述の様な流速依存性の高い電気鍍金に適用された場合、
ストリップＸ両面の流速には差がないため、悪影響は生
じない（尚図２中Ａ領域を占める11a、11bは電極通電部
を示している）。
ストリップＸに面する上下非対象な位置に突起10a、10b
を設け、更に噴流ヘッダ2a、2b等からストリップＸ両面
に与えられる噴流の吐出量を同一にする等して図中Ａの
領域での流速をストリップＸ両面で差が生じないように
した場合、Ｂ及びＣの領域の突起10a、10bの所で処理液
の通過断面積が部分的に絞られるため、図３に示される
様に、該突起10a又は10bの所で局部的に圧力が高くなっ
てストリップＸを押し上げる（又は押し下げる）力が作
用し、このＢ及びＣの領域でストリップＸ両面で圧力差
が生ずる。この圧力差がポンプの圧力変動以上に設定さ
れていれば、ストリップＸは常に一方向に押し付けられ
ることになり、その振動が低下せしめられる。従って上
述の様な流速依存性の高い電気鍍金に適用された場合、
ストリップＸ両面の流速には差がないため、悪影響は生
じない（尚図２中Ａ領域を占める11a、11bは電極通電部
を示している）。
【００１４】更に第２発明の様にストリップ表面に与え
る噴流につき、その噴出圧力及び／又は噴出流量をスト
リップ幅方向で制御すれば、該ストリップの形状矯正を
行なうことができる。そればかりか、ストリップ幅方向
の鍍金付着量分布の情報を同幅方向の噴出圧力・噴出流
量制御にフィードバックさせれば、鍍金付着量の均一化
を図ることもできる。
る噴流につき、その噴出圧力及び／又は噴出流量をスト
リップ幅方向で制御すれば、該ストリップの形状矯正を
行なうことができる。そればかりか、ストリップ幅方向
の鍍金付着量分布の情報を同幅方向の噴出圧力・噴出流
量制御にフィードバックさせれば、鍍金付着量の均一化
を図ることもできる。
【００１５】
【実施例】本発明者等は、図４に示される電気亜鉛鍍金
ラインにおいて次の様な実験を行なった。
ラインにおいて次の様な実験を行なった。
【００１６】同ラインでは、ストリップＸを水平に通板
させる電気鍍金槽4内において該ストリップＸ上下面に
平行に備えられた電極1a、1bの全面に、図５に示される
様に千鳥状に液供給孔20が設けられている。そしてスト
リップＸと電極1a、1b間に鍍金液が噴流を与える場合
に、該液供給孔20を使用しているが、この液供給孔20ま
での鍍金液の供給は、図６に示される様に、電極1a、1b
の対向面の夫々反対側をシェル3a、3bで囲んで液貯溜エ
リアを形成すると共に、該エリアと連通する管30a、30b
を図示しない液循環タンクにつなげることで行なってい
る。本実施例では、各電極1a、1bの液供給孔20の夫々の
トータル断面積より管30a、30bの夫々の断面積の方が大
きくなるように設定されているため、各液貯溜エリア内
が常に正圧となることで、全ての液供給孔20から安定し
て鍍金液が噴出できるようにしている。
させる電気鍍金槽4内において該ストリップＸ上下面に
平行に備えられた電極1a、1bの全面に、図５に示される
様に千鳥状に液供給孔20が設けられている。そしてスト
リップＸと電極1a、1b間に鍍金液が噴流を与える場合
に、該液供給孔20を使用しているが、この液供給孔20ま
での鍍金液の供給は、図６に示される様に、電極1a、1b
の対向面の夫々反対側をシェル3a、3bで囲んで液貯溜エ
リアを形成すると共に、該エリアと連通する管30a、30b
を図示しない液循環タンクにつなげることで行なってい
る。本実施例では、各電極1a、1bの液供給孔20の夫々の
トータル断面積より管30a、30bの夫々の断面積の方が大
きくなるように設定されているため、各液貯溜エリア内
が常に正圧となることで、全ての液供給孔20から安定し
て鍍金液が噴出できるようにしている。
【００１７】この様な装置構成で0.8t×1500w（単位m
m）サイズの上記ストリップＸに対し、60〜120m／分の
ラインスピードで鍍金処理を実施した。それと共に、上
方電極1a側の各液供給孔20から噴出せしめられる鍍金液
総噴出流量と下方電極1b側の各液供給孔20から噴出せし
められる鍍金液総噴出流量とを個別に調整し、ストリッ
プＸ両面の噴流による圧力に差を付けたり、同圧状態に
して、その時のストリップＸのバタツキ及びスパーク発
生頻度を調べ、下記表１に示す結果を得た。
m）サイズの上記ストリップＸに対し、60〜120m／分の
ラインスピードで鍍金処理を実施した。それと共に、上
方電極1a側の各液供給孔20から噴出せしめられる鍍金液
総噴出流量と下方電極1b側の各液供給孔20から噴出せし
められる鍍金液総噴出流量とを個別に調整し、ストリッ
プＸ両面の噴流による圧力に差を付けたり、同圧状態に
して、その時のストリップＸのバタツキ及びスパーク発
生頻度を調べ、下記表１に示す結果を得た。
【００１８】
【表１】
【００１９】尚、上記表１でストリップバタツキの判定
基準としては、この電極1a、1b間におけるストリップＸ
の平均振幅が5mm未満の場合を二重丸（優）、同振幅が7
mm未満の場合を一重丸（良）、同振幅が10mm未満の場合
を三角（可）、同振幅が10mm以上の場合をバツ（不可）
とした。又スパーク発生頻度の判定は、スパーク発生が
全く無かった場合を二重丸、１時間に１回の割りで発生
した場合を一重丸、１時間に２回の割りで発生した場合
をバツとした。
基準としては、この電極1a、1b間におけるストリップＸ
の平均振幅が5mm未満の場合を二重丸（優）、同振幅が7
mm未満の場合を一重丸（良）、同振幅が10mm未満の場合
を三角（可）、同振幅が10mm以上の場合をバツ（不可）
とした。又スパーク発生頻度の判定は、スパーク発生が
全く無かった場合を二重丸、１時間に１回の割りで発生
した場合を一重丸、１時間に２回の割りで発生した場合
をバツとした。
【００２０】同表から本発明例となるNo.1〜No.6の場合
はストリップＸのバタツキが抑えられ、そのためストリ
ップＸの走行が安定して、スパークの発生は全く無かっ
た。これに対し、従来例となるNo.8〜No.10の場合はス
トリップＸのバタツキが大きくなり、その走行が不安定
になるため、１時間に１回の割りでスパークが発生し
た。
はストリップＸのバタツキが抑えられ、そのためストリ
ップＸの走行が安定して、スパークの発生は全く無かっ
た。これに対し、従来例となるNo.8〜No.10の場合はス
トリップＸのバタツキが大きくなり、その走行が不安定
になるため、１時間に１回の割りでスパークが発生し
た。
【００２１】次に本発明者等は、Ｚn−Ｆe合金電気鍍金
ラインの鍍金槽内構成を前記図２に示すような構成と、
電極1a、1bにこれらの突起10a、10bのない構成のものを
用い、上下の噴流ヘッダ2a、2bからの噴流量を同一にし
て、即ち前実施例と同一サイズのストリップＸ両面に与
えられる噴流の流速を同一にして鍍金処理を行なった。
それと共に、ストリップＸのバタツキ、スパーク発生頻
度及びストリップＸ表裏の鍍金皮膜中のＦe含有量の差
を調べ、下記表２に示す結果を得た。
ラインの鍍金槽内構成を前記図２に示すような構成と、
電極1a、1bにこれらの突起10a、10bのない構成のものを
用い、上下の噴流ヘッダ2a、2bからの噴流量を同一にし
て、即ち前実施例と同一サイズのストリップＸ両面に与
えられる噴流の流速を同一にして鍍金処理を行なった。
それと共に、ストリップＸのバタツキ、スパーク発生頻
度及びストリップＸ表裏の鍍金皮膜中のＦe含有量の差
を調べ、下記表２に示す結果を得た。
【００２２】
【表２】
【００２３】尚、同表のストリップＸのバタツキ及びス
パーク発生頻度の評価は前実施例のものと同じである。
又ストリップＸ表裏の鍍金皮膜中のＦe含有量の差の評
価は、その差が1％未満の場合を二重丸、2％未満の場合
を一重丸、3％未満の場合を三角、3％以上の場合をバツ
で示した。
パーク発生頻度の評価は前実施例のものと同じである。
又ストリップＸ表裏の鍍金皮膜中のＦe含有量の差の評
価は、その差が1％未満の場合を二重丸、2％未満の場合
を一重丸、3％未満の場合を三角、3％以上の場合をバツ
で示した。
【００２４】同表から本発明例となるNo.11〜No.16の場
合はストリップＸのバタツキが少なく、且つスパーク発
生頻度も低く抑えられ、加えて表裏鍍金皮膜中のＦe含
有量の差もほとんどないことがわかる。これに対し電極
に突起を設けなかった従来例では、No.17〜20でストリ
ップＸのバタツキが大きくなっており、又No.20〜22で
は表裏鍍金皮膜中のＦe含有量の差が大きくなってい
る。
合はストリップＸのバタツキが少なく、且つスパーク発
生頻度も低く抑えられ、加えて表裏鍍金皮膜中のＦe含
有量の差もほとんどないことがわかる。これに対し電極
に突起を設けなかった従来例では、No.17〜20でストリ
ップＸのバタツキが大きくなっており、又No.20〜22で
は表裏鍍金皮膜中のＦe含有量の差が大きくなってい
る。
【００２５】更に本発明者等は前記図７に示される電気
亜鉛鍍金ラインにて、上下の噴流ヘッダ2a、2bのノズル
スリット21につき図８に示される様にその幅方向で三つ
の区分（Ｏp、Ｃe、Ｄr）に分け、夫々のスリット幅が
各異なるものを用いて鍍金処理を実施した。又この時も
上方の噴流ヘッダ2aから噴出せしめられる鍍金液噴出流
量と下方の噴流ヘッダ2bから噴出せしめられる鍍金液噴
出流量とを個別に調整し、ストリップＸ両面の噴流によ
る圧力に差を付けたり、同圧の状態にした。
亜鉛鍍金ラインにて、上下の噴流ヘッダ2a、2bのノズル
スリット21につき図８に示される様にその幅方向で三つ
の区分（Ｏp、Ｃe、Ｄr）に分け、夫々のスリット幅が
各異なるものを用いて鍍金処理を実施した。又この時も
上方の噴流ヘッダ2aから噴出せしめられる鍍金液噴出流
量と下方の噴流ヘッダ2bから噴出せしめられる鍍金液噴
出流量とを個別に調整し、ストリップＸ両面の噴流によ
る圧力に差を付けたり、同圧の状態にした。
【００２６】そして以上の様な処理を行なった時のスト
リップＸの幅方向の反りと程度を調べ下記表３に示す結
果を得た。
リップＸの幅方向の反りと程度を調べ下記表３に示す結
果を得た。
【００２７】
【表３】
【００２８】尚、上記表３で反りの向き（方向）の判定
は、図８(a)に示される様にストリップＸ中央が上方の
電極1a側に反った場合を＋、又該中央が同図(b)に示さ
れる様に下方の電極1b側に反った場合を−とした。又反
りの程度の判定は、図９に示される様にストリップＸ中
央とエッジ部の最大離間距離Δtを基に、このΔtが3mm
未満の場合を二重丸、5mm未満の場合を一重丸、7mm未満
の場合を三角、7mm以上の場合をバツとした。
は、図８(a)に示される様にストリップＸ中央が上方の
電極1a側に反った場合を＋、又該中央が同図(b)に示さ
れる様に下方の電極1b側に反った場合を−とした。又反
りの程度の判定は、図９に示される様にストリップＸ中
央とエッジ部の最大離間距離Δtを基に、このΔtが3mm
未満の場合を二重丸、5mm未満の場合を一重丸、7mm未満
の場合を三角、7mm以上の場合をバツとした。
【００２９】同表から第２発明例となるNo.23〜No.26の
場合はストリップＸの反りの程度が軽微であり、ストリ
ップ形状が良好であるのに対し、従来例となるNo.28の
場合はストリップＸの反りの程度が大きくなり、その形
状が劣化することになった。
場合はストリップＸの反りの程度が軽微であり、ストリ
ップ形状が良好であるのに対し、従来例となるNo.28の
場合はストリップＸの反りの程度が大きくなり、その形
状が劣化することになった。
【００３０】
【発明の効果】以上詳述した本発明方法によれば、スト
リップの振動が抑止されて安定走行が実現されるため、
ストリップと電極との接触等を原因とするスパーク発生
が抑えられ、且つストリップと電極間の距離が短縮され
て電力ロスの低減も可能となる。又第２発明方法を実施
すれば、ストリップの形状矯正に効果がある。尚、前述
した様に同構成を電気鍍金ラインに適用し、ストリップ
幅方向の鍍金付着量分布の情報を同幅方向の噴出圧力・
噴出流量制御にフィードバックさせれば、鍍金付着量の
均一化を図ることも可能となる。
リップの振動が抑止されて安定走行が実現されるため、
ストリップと電極との接触等を原因とするスパーク発生
が抑えられ、且つストリップと電極間の距離が短縮され
て電力ロスの低減も可能となる。又第２発明方法を実施
すれば、ストリップの形状矯正に効果がある。尚、前述
した様に同構成を電気鍍金ラインに適用し、ストリップ
幅方向の鍍金付着量分布の情報を同幅方向の噴出圧力・
噴出流量制御にフィードバックさせれば、鍍金付着量の
均一化を図ることも可能となる。
【図１】本願発明によるストリップの振動抑止の原理を
説明する説明図である。
説明する説明図である。
【図２】上記本発明の一実施態様を示す説明図である。
【図３】本実施態様で突起によってストリップ表裏に差
圧を発生させる原理を示す説明図である。
圧を発生させる原理を示す説明図である。
【図４】本発明法が適用された電気亜鉛鍍金ラインの構
成を示す斜視図である。
成を示す斜視図である。
【図５】電極に穿設された液供給孔の千鳥配置状態を示
す平面図である。
す平面図である。
【図６】上下の電極からストリップに対して噴流を与え
る状態を示す断面図である。
る状態を示す断面図である。
【図７】第２発明法を実施するための装置構成を示す説
明図である。
明図である。
【図８】上記実施例構成に使用される噴流ヘッダの構成
を示す斜視図である。
を示す斜視図である。
【図９】ストリップ反りの発生の向きを説明する説明図
である。
である。
【図１０】ストリップ反り量の計測方法を示す説明図で
ある。
ある。
1a、1b 電極 2a、2b 噴流ヘッダ 3a、3b シェル 10a、10b 突起 20 液供給孔 21 ノズルスリット
Claims (3)
- 【請求項１】 電解処理ラインの電解処理槽内を通過す
るストリップの表面とその両面の電極との間に噴流を与
えた時に、該ストリップの両面で差圧を生じさせるよう
にしたことを特徴とする電解処理ラインにおけるストリ
ップ振動防止方法。 - 【請求項２】 請求項第１項記載の電解処理ラインにお
けるストリップ振動防止方法において、ストリップ側に
面する両電極の非対象な位置に突起を設け、且つ該スト
リップ両面に与える噴流を等流速とすることにより、ス
トリップ両面で局部的に差圧を生じさせることを特徴と
する請求項第１項記載の電解処理ラインにおけるストリ
ップ振動防止方法。 - 【請求項３】 電解処理ラインの電解処理槽内を通過す
るストリップの表面と電極との間に噴流を与えた時に、
該噴流の噴出圧力及び／又は噴出流量をストリップ幅方
向で各別に制御することを特徴とする電解処理ラインに
おけるストリップ形状矯正方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16553492A JP3243843B2 (ja) | 1992-06-02 | 1992-06-02 | 電解処理ラインにおけるストリップ振動防止方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP16553492A JP3243843B2 (ja) | 1992-06-02 | 1992-06-02 | 電解処理ラインにおけるストリップ振動防止方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05331685A true JPH05331685A (ja) | 1993-12-14 |
| JP3243843B2 JP3243843B2 (ja) | 2002-01-07 |
Family
ID=15814218
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP16553492A Expired - Fee Related JP3243843B2 (ja) | 1992-06-02 | 1992-06-02 | 電解処理ラインにおけるストリップ振動防止方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3243843B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2005272999A (ja) * | 2004-02-27 | 2005-10-06 | Jfe Steel Kk | 電気めっき鋼板の製造方法及び電気めっき装置 |
| JP2022548105A (ja) * | 2019-09-12 | 2022-11-16 | アトテック ドイチュラント ゲー・エム・ベー・ハー ウント コー． カー・ゲー | 平形のワークピースを湿式処理するための装置、装置のセル用のデバイスおよび装置を操作する方法 |
| WO2023203824A1 (ja) * | 2022-04-18 | 2023-10-26 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 溶融亜鉛めっき鋼板の製造方法および溶融亜鉛めっき鋼板の製造設備 |
-
1992
- 1992-06-02 JP JP16553492A patent/JP3243843B2/ja not_active Expired - Fee Related
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|---|---|---|---|---|
| JP2005272999A (ja) * | 2004-02-27 | 2005-10-06 | Jfe Steel Kk | 電気めっき鋼板の製造方法及び電気めっき装置 |
| JP2022548105A (ja) * | 2019-09-12 | 2022-11-16 | アトテック ドイチュラント ゲー・エム・ベー・ハー ウント コー． カー・ゲー | 平形のワークピースを湿式処理するための装置、装置のセル用のデバイスおよび装置を操作する方法 |
| WO2023203824A1 (ja) * | 2022-04-18 | 2023-10-26 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 溶融亜鉛めっき鋼板の製造方法および溶融亜鉛めっき鋼板の製造設備 |
| JP2023158573A (ja) * | 2022-04-18 | 2023-10-30 | Ｊｆｅスチール株式会社 | 溶融亜鉛めっき鋼板の製造方法および溶融亜鉛めっき鋼板の製造設備 |
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