JPH05334609A - マルチ磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は、記録時に本ギャップで記録された
情報に悪影響を及ぼさないマルチ磁気ヘッド及びその製
造方法を提供する。 【構成】 ２個のＭＩＧヘッドが１つのヘッドベース１
２上に搭載されたマルチ磁気ヘッドにおいて、磁気記録
媒体が後から接触する方のＡヘッド１のギャップ深さ９
がＩコア側アペックス７と摺動面１０との距離で規定で
きる構造にする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ＶＴＲ，ＤＡＴ，ＦＤ
Ｄ，ＨＤＤ等に用いられる、高保磁力の磁気記録媒体に
高密度に情報を記録再生するのに適したマルチ磁気ヘッ
ド及びその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】高保磁力の記録媒体に情報を記録再生す
るため高飽和磁束密度の金属軟磁性材料を用いたメタル
ヘッドが盛んに検討されている。そのなかでも主コアが
フェライトでギャップ近傍に軟磁性材料を構成したメタ
ル・イン・ギャップヘッド（ＭＩＧヘッド）の利用が盛
んに行われている。また一つのシリンダ上にたくさんの
ヘッドを搭載するために、一つのベース上に２個もしく
はそれ以上のヘッドを搭載したマルチヘッドがＶＴＲの
システムで数多く見受けられるようになった。これらの
マルチヘッドにおいても最近ではＭＩＧヘッドが盛んに
用いられるようになっている。このようなマルチヘッド
の場合、各磁気ヘッドと磁気記録媒体のギャップ部分で
の接触状態を良好に保つために、ギャップ間距離を短く
することが必要となっている。

【０００３】図６に従来のマルチ磁気ヘッドの構成例を
示す。ギャップ間距離３１を短くするために、各ヘッド
は両ヘッドの内側に巻線溝を設けないコア、いわゆるＩ
型形状コア２３，２５（以下、Ｉコア）を配し、外側に
は巻線溝が形成されたＣ型形状コア２２，２６（以下、
Ｃコア）を配してギャップ間距離を短くしている。従っ
て、このマルチ磁気ヘッドに関してＢヘッドでは磁気記
録媒体と後から接触するのがＩコア２５となり、Ａヘッ
ドではＣコア２２となる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】従来、ＭＩＧヘッドを
マルチ磁気ヘッドに用いた場合、図６のＡヘッド２１、
つまり磁気記録媒体が後から接触する方のコア半体がＣ
コアである場合、記録時にＣコアのフェライトと高飽和
磁束密度軟磁性膜（以下、軟磁性膜）との境界で生じる
漏れ磁束が、本ギャップで記録された情報を、乱した
り、消したりするという問題があった。これは記録時に
起磁力を増していくと、Ｃコアの方が飽和しやすいため
にＩコアに比べフェライトと軟磁性膜の境界で発生する
漏れ磁束の量が多くなり、すでに本ギャップで記録した
情報を乱すことによるためである。

【０００５】本発明は上記の問題を解決するためのもの
で、本ギャップで記録した情報に、Ｃコア側から悪影響
を及ぼさないマルチ磁気ヘッドの提供を目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
本発明のマルチ磁気ヘッドは、Ｉコア側にギャップ深さ
規定溝を設けてギャップ深さをＩコア側のアペックスと
摺動面との距離で規定したものである。

【０００７】

【作用】Ｉコア側にギャップ深さ規定溝を形成すること
により、ギャップ深さがＩコア側アペックスと摺動面と
の距離で規定することができ、これによりＣコア側アペ
ックスと摺動面との距離を自由に設定することができ
る。この距離を大きく設定することにより、磁気飽和は
起こりにくく、漏れ磁束の量は小さくなる。

【０００８】

【実施例】以下本発明の実施例の磁気ヘッドについて図
面を参照しながら説明する。

【０００９】図１は本発明のマルチ磁気ヘッドの第１の
実施例である。図において、１つのヘッドベース１２上
に２つのＭＩＧヘッドの各Ｉコア３，５が内側になるよ
うにそれぞれ配置されている。磁気記録媒体に先に接触
するのがＢヘッド４であり、後に接触するのがＡヘッド
１である。このような配置にした場合、Ａヘッド１に関
しては、磁気記録媒体はギャップ面を通過後にＡヘッド
Ｃコア２と接触する。このＡヘッド１に関して、ギャッ
プ深さ９がＩコア側アペックス７と摺動面１０との距離
で規定されるようにＩコア側にギャップ深さ規定溝１３
が形成されている。このようにＡヘッドのギャップ深さ
９がＩコア側アペックス７と摺動面１０との距離で規定
できるので、Ｃコア側アペックス８と摺動面１０との距
離は大きくすることができ、Ｃコア側で磁気飽和が起こ
りにくいような構造にすることが可能となる。Ｃコア側
アペックス８と摺動面１０との距離は、Ｉコア側アペッ
クス７と摺動面１０との距離であるギャップ深さ９に対
して１５μｍ程度以上大きく、またギャップ深さ規定溝
は、ギャップ面から２０μｍ程度以上の深さがあること
が望ましい。

【００１０】図２は本発明のマルチ磁気ヘッドの第２の
実施例であり、図１で示したマルチ磁気ヘッドが２組、
全部で４個のＭＩＧタイプの磁気ヘッド１８が一つのヘ
ッドベース１９に搭載されているものである。ここで
は、各々の磁気ヘッドのギャップ深さ１６が各ヘッドの
磁気記録媒体と先に接触する方のコア半体のアペックス
部と摺動面との距離で規定できるような構造となってい
る。図からわかるようにＣコアが後から磁気記録媒体に
接触するヘッドに関しては、Ｉコア側にギャップ深さ規
定溝１５を設けている。

【００１１】なお、ここでは４個の例を示したが、ヘッ
ドの数が幾つの場合でもこのように各々の磁気ヘッドの
ギャップ深さが各ヘッドの磁気記録媒体と先に接触する
コア半体のアペックス部と摺動面との距離で規定できる
ようなマルチ磁気ヘッドであれば本実施例と同様の効果
があることは容易に類推することができる。

【００１２】図３に図１のＡヘッド１のようにＩコア側
にギャップ深さ規定溝を設けたＭＩＧヘッドと、図６
（従来例）のＡヘッド２１のように溝を設けない通常タ
イプのＭＩＧヘッドとのヘッド特性を測定した方法を示
す。ここでは図に示すように、磁気記録媒体がギャップ
面を通過後に接触するコア半体がＣコアとなる条件で測
定を行った。各ＭＩＧヘッドはフェライト材料が単結晶
ＭｎＺｎフェライトで、軟磁性膜がＣｏＮｂＺｒとその
窒化物を交互に積層したＣｏＮｂＺｒ超構造窒化合金膜
（膜厚が４μｍ）で構成されている。両方のヘッドのギ
ャップ長は０．３μｍ、ギャップ深さは２５μｍであ
る。本発明品に関してはＣコア側アペックス部と摺動面
との距離は４０μｍとなっており、Ｉコア側のギャップ
深さ規制溝のギャップ面からの深さは５０μｍとなって
いる。測定はＳ−ＶＨＳテープを用い、相対速度５．８
ｍ／ｓｅｃで行った。それぞれの形状のヘッドを各１０
個ずつ測定した。

【００１３】図４に図３の方法で測定した結果を示す。
図では従来品の特性の平均を０ｄＢとした時の、第１の
実施例の特性の平均を示している。この結果から自己録
再においては従来に比べ、０．５ＭHzで約２ｄＢ特性が
向上している。この要因を調べるために記録特性と再生
特性を分離して測定を行った。その結果自己録再での２
ｄＢの特性向上は記録によるものであることがわかっ
た。

【００１４】磁気記録媒体が後から接触するコアがＩコ
アの場合の特性は、同様の測定をした場合本発明品の特
性とほぼ同じであった。このことから従来品の場合は記
録時に本ギャップで記録された情報が乱されていること
がわかる。この原因は次のように考えられる。起磁力を
加えていった場合、ＩコアよりもＣコアの方が飽和しや
すい。そのためＭＩＧヘッドの場合、フェライトと軟磁
性膜の境界で発生する漏れ磁束の大きさは、Ｉコアより
もＣコアでの方が大きくなることがシミュレーションか
らわかっており、この漏れ磁束が本ギャップで記録した
情報に悪影響を与えているものと考えられる。

【００１５】図５に本発明のマルチ磁気ヘッドの製造方
法の一実施例を示す。ここでは図１でのＡヘッド、磁気
記録媒体がギャップより先にＩコアと接触する磁気ヘッ
ドの製造方法について以下図面の各ステップを追って説
明する。

【００１６】（ａ）酸化物磁性体５７基板のギャップ対
向面に研磨を施し、Ｃコア５２には巻線溝５６を形成
し、Ｉコア５１にはこのコアのアペックス部がギャップ
深さを規定できるような位置にギャップ深さ規定溝５３
を機械加工で設ける。

【００１７】（ｂ）所望のトラック幅が得られるように
トラック加工を施し、両コアのギャップ対向面に軟磁性
膜６０をスパッタ法で形成する。軟磁性膜としてはアモ
ルファス膜、センダスト膜、Ｃｏ系超構造窒化合金膜、
Ｆｅ系超構造窒化膜、Ｆｅ系窒化膜等、高飽和磁束密度
を示す材料が挙げられる。

【００１８】（ｃ）ギャップ材料、ここではＳｉＯ₂及
びガラスを所望量形成（図では省略）し、両コアを突き
合わせて巻線溝５６にガラス６１を設置して、所定温度
でギャップ融着を行う。

【００１９】この後所定の幅にチップを切断することに
より図１のＡヘッド１を得ることができる。

【００２０】マルチ磁気ヘッドのもう一つの磁気ヘッ
ド、図１のＢヘッド、は（ａ）の工程でＩコアにギャッ
プ深さ規定溝を設けない、つまり通常の磁気ヘッドの製
造方法で得ることができる。

【００２１】このようにして図１のＡヘッド１とＢヘッ
ド４が得られたら、これらを所定のギャップ間距離が得
られるように一つのベース上に設置することにより、図
１に示したようなマルチ磁気ヘッドを得ることができ
る。

【００２２】本実施例では工程（ａ）でギャップ深さ規
定溝を機械加工で設けた例を示したが、これ以外にもエ
ッチング法等を用いて設けたりすることができる。

【００２３】

【発明の効果】以上詳述したように本発明によれば、た
とえばＶＴＲ，ＤＡＴ，ＦＤＤ等のシステムに特性の優
れたＭＩＧヘッドを用いたマルチ磁気ヘッドを用いるこ
とが可能となり、信頼性に優れた磁気記録再生システム
の実現が可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のマルチ磁気ヘッドの第１の実施例の側
面図

【図２】本発明のマルチ磁気ヘッドの第２の実施例の側
面図

【図３】磁気ヘッドの特性の測定方法を示す側面図

【図４】本発明の磁気ヘッドと従来例とのヘッド特性を
比較した特性図

【図５】本発明のマルチ磁気ヘッドの製造方法の一実施
例を示す工程図

【図６】従来のマルチ磁気ヘッドの実施例の側面図

【符号の説明】

１ Ａヘッド ２ ＡヘッドＣコア ３ ＡヘッドＩコア ４ Ｂヘッド ５ ＢヘッドＩコア ６ ＢヘッドＣコア ７ Ｉコア側アペックス ８ Ｃコア側アペックス ９ ギャップ深さ １０ 摺動面 １１ 磁気記録媒体走行方向 １２ ヘッドベース １３ ギャップ深さ規定溝

Claims (4)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】主コアがフェライトでギャップ近傍が高飽
   和磁束密度軟磁性材料で構成されたヘッドを少なくとも
   １つ以上含む複数の磁気ヘッドが一つのベースに搭載さ
   れたマルチ磁気ヘッドにおいて、 前記マルチ磁気ヘッドを構成する全てのヘッドの各ギャ
   ップ深さが、磁気記録媒体に先に接触する側のコアのア
   ペックス部と摺動面の距離とで規定されていることを特
   徴とするマルチ磁気ヘッド。
2. 【請求項２】Ｉ型形状コアを内側に、Ｃ型形状コアを外
   側にして、２個のヘッドを１つのベース上に搭載したマ
   ルチ磁気ヘッドにおいて、 前記ヘッドの各ギャップ深さが、磁気記録媒体に先に接
   触する側のコアのアペックス部と摺動面の距離とで規定
   されていることを特徴とする請求項１記載のマルチ磁気
   ヘッド。
3. 【請求項３】Ｉ型形状コアを内側に、Ｃ型形状コアを外
   側にして、２個のヘッドを１つのベース上に搭載したマ
   ルチ磁気ヘッドにおいて、 磁気記録媒体が後から接触する方の磁気ヘッドの一対の
   コアに、ギャップより先に磁気記録媒体と接触するＩ型
   形状コアの方にギャップ深さを規定する溝が形成されて
   いることを特徴とする請求項１あるいは請求項２記載の
   マルチ磁気ヘッド。
4. 【請求項４】マルチ磁気ヘッドこ構成する２個の磁気ヘ
   ッドのうち、磁気記録媒体がギャップより先にＩ型形状
   コアと接触する磁気ヘッドの製造方法であって、一対の
   酸化物磁性材料コアのギャップ面に研磨を施し、Ｃ型形
   状コアとなる方のコアに巻線溝を形成するとともに、他
   方のＩ型形状コアには前記磁気ヘッドのギャップ深さが
   前記Ｉ型形状コアのアペックス部と摺動面の距離で規定
   できる位置に溝を形成し、トラック加工を施したのち、
   前記Ｃ型、およびＩ型の各コアに高飽和磁束密度軟磁性
   材料およびギャップ材料を形成し、所望の温度で両コア
   をガラス融着したのち、所定の幅に切断してヘッドチッ
   プを得、得られたヘッドチップを前記磁気記録媒体が後
   に接触するコアに前記Ｃ型形状コアがくるように配置す
   ることを特徴とするマルチ磁気ヘッドの製造方法。