JPH05341107A - 無機コート膜を有する光学材料 - Google Patents
無機コート膜を有する光学材料Info
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- JPH05341107A JPH05341107A JP5007902A JP790293A JPH05341107A JP H05341107 A JPH05341107 A JP H05341107A JP 5007902 A JP5007902 A JP 5007902A JP 790293 A JP790293 A JP 790293A JP H05341107 A JPH05341107 A JP H05341107A
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- 239000011248 coating agent Substances 0.000 title claims abstract description 31
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 31
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 9
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 title claims description 7
- -1 silane compound Chemical class 0.000 claims abstract description 24
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims abstract description 22
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims abstract description 20
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 claims description 7
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 claims description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims 3
- 239000002356 single layer Substances 0.000 claims 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 13
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 6
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- PLMTWHZZBPGADP-UHFFFAOYSA-N chloro-ethenyl-diphenylsilane Chemical compound C=1C=CC=CC=1[Si](C=C)(Cl)C1=CC=CC=C1 PLMTWHZZBPGADP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- MAYIDWCWWMOISO-UHFFFAOYSA-N dichloro-bis(ethenyl)silane Chemical compound C=C[Si](Cl)(Cl)C=C MAYIDWCWWMOISO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JHQVCQDWGSXTFE-UHFFFAOYSA-N 2-(2-prop-2-enoxycarbonyloxyethoxy)ethyl prop-2-enyl carbonate Chemical compound C=CCOC(=O)OCCOCCOC(=O)OCC=C JHQVCQDWGSXTFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 2
- 238000007733 ion plating Methods 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 2
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- QXKMQBOTKLTKOE-UHFFFAOYSA-N 3-[dichloro(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCC[Si](C)(Cl)Cl QXKMQBOTKLTKOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OLBGECWYBGXCNV-UHFFFAOYSA-N 3-trichlorosilylpropanenitrile Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CCC#N OLBGECWYBGXCNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPIARXZSVWTOMD-UHFFFAOYSA-N 4-[chloro(dimethyl)silyl]butanenitrile Chemical compound C[Si](C)(Cl)CCCC#N GPIARXZSVWTOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIFBMBZYGZSWQE-UHFFFAOYSA-N 4-[dichloro(methyl)silyl]butanenitrile Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CCCC#N UIFBMBZYGZSWQE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMFFOEBLYHLRQN-UHFFFAOYSA-N 4-trichlorosilylbutanenitrile Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CCCC#N HMFFOEBLYHLRQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005047 Allyltrichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 241000501754 Astronotus ocellatus Species 0.000 description 1
- 229920000298 Cellophane Polymers 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005856 abnormality Effects 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 1
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- YIGRKKJIRPDASV-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethoxymethyl)silane Chemical compound COC(OC)[SiH2]Cl YIGRKKJIRPDASV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMVZWUQHMJAWSY-UHFFFAOYSA-N chloro-dimethyl-prop-2-enylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)CC=C KMVZWUQHMJAWSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSDCTSITJJJDPY-UHFFFAOYSA-N chloro-ethenyl-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)C=C XSDCTSITJJJDPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIFXYFOVERKZLG-UHFFFAOYSA-N chloro-methyl-(2-phenylethenyl)silane Chemical compound C[SiH](Cl)C=CC1=CC=CC=C1 ZIFXYFOVERKZLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 230000008094 contradictory effect Effects 0.000 description 1
- 239000006059 cover glass Substances 0.000 description 1
- 238000007033 dehydrochlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- UFCXHBIETZKGHB-UHFFFAOYSA-N dichloro(diethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](Cl)(Cl)OCC UFCXHBIETZKGHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAZBEBARJSJLFQ-UHFFFAOYSA-N dichloro(ethoxymethyl)silane Chemical compound CCOC[SiH](Cl)Cl HAZBEBARJSJLFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VTEHVUWHCBXMPI-UHFFFAOYSA-N dichloro-bis(prop-2-enyl)silane Chemical compound C=CC[Si](Cl)(Cl)CC=C VTEHVUWHCBXMPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLJJAVFOBDSYAN-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethenyl-methylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)C=C YLJJAVFOBDSYAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QDASGLPLQWLMSJ-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethenyl-phenylsilane Chemical compound C=C[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 QDASGLPLQWLMSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YCEQUKAYVABWTE-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-prop-2-enylsilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)CC=C YCEQUKAYVABWTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGFFTOVGRACDBL-UHFFFAOYSA-N dichloro-phenyl-prop-2-enylsilane Chemical compound C=CC[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 IGFFTOVGRACDBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 238000007602 hot air drying Methods 0.000 description 1
- 125000001165 hydrophobic group Chemical group 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000001788 irregular Effects 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 1
- 239000008399 tap water Substances 0.000 description 1
- 235000020679 tap water Nutrition 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 1
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKFSBKQQYCMCKO-UHFFFAOYSA-N trichloro(prop-2-enyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CC=C HKFSBKQQYCMCKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N trichloroethylene Natural products ClCC(Cl)Cl UBOXGVDOUJQMTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical group CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
- 239000005050 vinyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】無機コート膜の表面状態を改質して親水性を持
たせ、かつ電気電導度を上げる事により、防曇性能、帯
電防止などを無機コート膜に付与することを目的とす
る。 【要約】 無機コート膜に、後処理によって親水性の基に変換され
るような置換基あるいは不飽和結合のうち少なくともど
ちらか一方を持つシラン化合物を反応させのち、後処理
あるいは不飽和結合を持つ物質をグラフト重合する。
たせ、かつ電気電導度を上げる事により、防曇性能、帯
電防止などを無機コート膜に付与することを目的とす
る。 【要約】 無機コート膜に、後処理によって親水性の基に変換され
るような置換基あるいは不飽和結合のうち少なくともど
ちらか一方を持つシラン化合物を反応させのち、後処理
あるいは不飽和結合を持つ物質をグラフト重合する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、表面状態の改質された
無機コート膜を有する光学材料及びその製造方法に関す
る。
無機コート膜を有する光学材料及びその製造方法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】真空蒸着法、イオンプレーテイング法、
スパッタリング法等によって得られる無機コート膜は、
眼鏡、レンズ等光学材料の反射防止膜、ハードコート
膜、各種機能性膜等に広く用いられている。特にSiO
2膜は、その基板との付着力、硬度、取扱易さなどの点
で幅広く使用されている。
スパッタリング法等によって得られる無機コート膜は、
眼鏡、レンズ等光学材料の反射防止膜、ハードコート
膜、各種機能性膜等に広く用いられている。特にSiO
2膜は、その基板との付着力、硬度、取扱易さなどの点
で幅広く使用されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、SiO2等の
無機コート膜は、環境の温度差により光学材料上のコー
ト膜表面に水滴が細かく付着して生ずる曇りにより、材
料の透過率が低下するという問題があった。その他、表
面帯電によりホコリがつきやすいなど表面状態から生じ
る種々の問題がある。そこで本発明は、この様な問題点
を解決するもので、その目的とするところは、無機コー
ト膜の表面状態を改質し、上記に挙げたような種々の問
題を1つまたは2つ以上解消できうる機能を表面に持た
せるところにある。
無機コート膜は、環境の温度差により光学材料上のコー
ト膜表面に水滴が細かく付着して生ずる曇りにより、材
料の透過率が低下するという問題があった。その他、表
面帯電によりホコリがつきやすいなど表面状態から生じ
る種々の問題がある。そこで本発明は、この様な問題点
を解決するもので、その目的とするところは、無機コー
ト膜の表面状態を改質し、上記に挙げたような種々の問
題を1つまたは2つ以上解消できうる機能を表面に持た
せるところにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明の無機コート膜の
表面改質法は、無機コート膜に、後処理によって親水性
の基に変換されるような置換基あるいは、不飽和結合の
うち少なくともどちらか一方を持つシラン化合物を反応
させのち、後処理あるいは不飽和結合を持つ物質をグラ
フト重合したことを特徴とする。
表面改質法は、無機コート膜に、後処理によって親水性
の基に変換されるような置換基あるいは、不飽和結合の
うち少なくともどちらか一方を持つシラン化合物を反応
させのち、後処理あるいは不飽和結合を持つ物質をグラ
フト重合したことを特徴とする。
【0005】無機コート膜に処理を行うには、すでに基
材上に存在しているコート膜の性質、密着性、耐久性を
低下させずに処理を行なう必要がある。その為には、密
着性、耐久性を低下させない温度及び環境で、かつ反射
防止膜等の分光特性に影響を与えないなど、膜全体に影
響を与えない程度の表面付近で反応を行う処理が望まし
い。本発明で用いるシラン化合物は、水酸基の存在下
で、膜表面と反応する基を有する物質を用いることが出
来る。例えば、ハロゲン化シラン化合物が挙げられる。
ハロゲン化シラン化合物は、水酸基の存在下で、SiO
2膜表面に対して下式に示すような脱塩酸反応が起こ
り、水酸基の存在する表面の反応に非常に有効である。
材上に存在しているコート膜の性質、密着性、耐久性を
低下させずに処理を行なう必要がある。その為には、密
着性、耐久性を低下させない温度及び環境で、かつ反射
防止膜等の分光特性に影響を与えないなど、膜全体に影
響を与えない程度の表面付近で反応を行う処理が望まし
い。本発明で用いるシラン化合物は、水酸基の存在下
で、膜表面と反応する基を有する物質を用いることが出
来る。例えば、ハロゲン化シラン化合物が挙げられる。
ハロゲン化シラン化合物は、水酸基の存在下で、SiO
2膜表面に対して下式に示すような脱塩酸反応が起こ
り、水酸基の存在する表面の反応に非常に有効である。
【0006】
【化1】
【0007】本発明で用いるシラン化合物としては、ビ
ニルトリクロロシラン、2−シアノエチルトリクロロシ
ラン、アリルトリクロロシラン、メチルビニルジクロロ
シラン、エトキシメチルジクロロシラン、ジメトキシメ
チルクロロシラン、ジビニルジクロロシラン、3−シア
ノプロピルトリクロロシラン、アリルメチルジクロロシ
ラン、ジメチルビニルクロロシラン、ジエトキシジクロ
ロシラン、3−シアノプロピルメチルジクロロシラン、
アリルジメチルクロロシラン、ジアリルジクロロシラ
ン、3−シアノプロピルジメチルクロロシラン、フェニ
ルビニルジクロロシラン、3−メタクリルオキシプロピ
ルメチルジクロロシラン、アリルフェニルジクロロシラ
ン、メチルフェニルビニルクロロシラン、ジフェニルビ
ニルクロロシラン、などが挙げられる。
ニルトリクロロシラン、2−シアノエチルトリクロロシ
ラン、アリルトリクロロシラン、メチルビニルジクロロ
シラン、エトキシメチルジクロロシラン、ジメトキシメ
チルクロロシラン、ジビニルジクロロシラン、3−シア
ノプロピルトリクロロシラン、アリルメチルジクロロシ
ラン、ジメチルビニルクロロシラン、ジエトキシジクロ
ロシラン、3−シアノプロピルメチルジクロロシラン、
アリルジメチルクロロシラン、ジアリルジクロロシラ
ン、3−シアノプロピルジメチルクロロシラン、フェニ
ルビニルジクロロシラン、3−メタクリルオキシプロピ
ルメチルジクロロシラン、アリルフェニルジクロロシラ
ン、メチルフェニルビニルクロロシラン、ジフェニルビ
ニルクロロシラン、などが挙げられる。
【0008】後処理によって親水性の基に変換されるよ
うな置換基を持つシラン化合物、あるいは後処理によっ
て親水性の基に変換されるような置換基と疎水性を合わ
せ持ったシラン化合物を無機コート膜に反応させたの
ち、後処理である親水性処理を行えば、コート膜表面に
親水性、あるいは親水性と疎水性を合わせ持つような機
能をもたせることも可能である。後処理として、親水性
基を持つ別の物質をコート膜と反応したシラン化合物に
反応させてもよい。後処理により親水性を最表面にもた
せ、疎水性の基がコート膜と親水性の基の間に配置して
いれば、濡れ性は良くても水分子を透過させないなどの
複合機能をコート膜に持たせることが出来る。この様に
後処理により相反する機能を同時にコート膜に持たせる
ことが可能である。
うな置換基を持つシラン化合物、あるいは後処理によっ
て親水性の基に変換されるような置換基と疎水性を合わ
せ持ったシラン化合物を無機コート膜に反応させたの
ち、後処理である親水性処理を行えば、コート膜表面に
親水性、あるいは親水性と疎水性を合わせ持つような機
能をもたせることも可能である。後処理として、親水性
基を持つ別の物質をコート膜と反応したシラン化合物に
反応させてもよい。後処理により親水性を最表面にもた
せ、疎水性の基がコート膜と親水性の基の間に配置して
いれば、濡れ性は良くても水分子を透過させないなどの
複合機能をコート膜に持たせることが出来る。この様に
後処理により相反する機能を同時にコート膜に持たせる
ことが可能である。
【0009】シラン化合物を無機コート膜に反応させる
には、Dip法、スピンナー法、スプレー法等により表
面にシラン化合物を塗布反応させる方法、または、真空
雰囲気中あるいは大気中でシラン化合物ガスを無機コー
ト膜と反応させる方法など用いることが出来る。前者の
場合、塗布中の雰囲気、例えば湿度、温度を最適にコン
トロールすることにより、より反応が促進されるし、浸
漬時間も反応が十分終了する時間がのぞましい。また、
塗布後コート膜の特性に影響を与えない程度の熱を加え
ることにより反応を促進すればより効果的である。後者
の場合、真空槽内で無機コート膜を形成後、シラン化合
物ガスを導入し反応させてもよい。また、無機コート膜
形成後、Arガス等のプラズマ雰囲気中にシラン化合物
ガスを導入し、反応性蒸着、反応性イオンプレーティン
グ等を行うことも可能である。
には、Dip法、スピンナー法、スプレー法等により表
面にシラン化合物を塗布反応させる方法、または、真空
雰囲気中あるいは大気中でシラン化合物ガスを無機コー
ト膜と反応させる方法など用いることが出来る。前者の
場合、塗布中の雰囲気、例えば湿度、温度を最適にコン
トロールすることにより、より反応が促進されるし、浸
漬時間も反応が十分終了する時間がのぞましい。また、
塗布後コート膜の特性に影響を与えない程度の熱を加え
ることにより反応を促進すればより効果的である。後者
の場合、真空槽内で無機コート膜を形成後、シラン化合
物ガスを導入し反応させてもよい。また、無機コート膜
形成後、Arガス等のプラズマ雰囲気中にシラン化合物
ガスを導入し、反応性蒸着、反応性イオンプレーティン
グ等を行うことも可能である。
【0010】シラン化合物との反応性を高めるために前
処理として、無機コート膜表面に、洗浄、薬品処理、プ
ラズマ処理を行うとより効果的である。反応に用いるシ
ラン化合物は、単体で用いても良いし、溶媒で希釈して
用いることも可能であるが、この場合、水酸基を有しな
い溶媒を用いることが、液寿命の点で好ましい。例え
ば、溶媒として、トルエン、塩化メチレン、1,3,3
−トリフロロトリクロロエタン、トリクロロエチレン、
テトラヒドロフラン等を用いることが出来る。
処理として、無機コート膜表面に、洗浄、薬品処理、プ
ラズマ処理を行うとより効果的である。反応に用いるシ
ラン化合物は、単体で用いても良いし、溶媒で希釈して
用いることも可能であるが、この場合、水酸基を有しな
い溶媒を用いることが、液寿命の点で好ましい。例え
ば、溶媒として、トルエン、塩化メチレン、1,3,3
−トリフロロトリクロロエタン、トリクロロエチレン、
テトラヒドロフラン等を用いることが出来る。
【0011】反応が終了後、大気中の水分子と反応した
シラン化合物、コート膜表面との反応に寄与できなかっ
たシラン化合物を洗浄により洗い流すことにより、処理
前と反射防止特性などの外観が変わらない処理を行うこ
とが出来る。
シラン化合物、コート膜表面との反応に寄与できなかっ
たシラン化合物を洗浄により洗い流すことにより、処理
前と反射防止特性などの外観が変わらない処理を行うこ
とが出来る。
【0012】洗浄方法としては、反応終了後、純水など
で洗浄して反応に寄与できなかったシラン化合物を処理
し、その後、トルエン、塩化メチレン、1,3,3−ト
リフロロトリクロロエタン、トリクロロエチレン、テト
ラヒドロフラン等の溶媒で洗浄するとより効果的であ
る。
で洗浄して反応に寄与できなかったシラン化合物を処理
し、その後、トルエン、塩化メチレン、1,3,3−ト
リフロロトリクロロエタン、トリクロロエチレン、テト
ラヒドロフラン等の溶媒で洗浄するとより効果的であ
る。
【0013】今まで述べた処理は、SiO2を主として
含む無機コート膜表面に可能である。
含む無機コート膜表面に可能である。
【0014】
【作用】無機コート膜に目的に応じた機能をもつシラン
化合物を反応させたことにより、無機コート膜表面の物
性が変化し、コート膜の特性を著しく変化させることが
出来る。
化合物を反応させたことにより、無機コート膜表面の物
性が変化し、コート膜の特性を著しく変化させることが
出来る。
【0015】また、親水性を表面にもたせた場合、水の
接触角が低下することにより、細かい水滴が発生しにく
くなり光の乱反射による曇りの現象が防げ、表面の電気
伝導度が上がることにより、表面の帯電防止となり、コ
ート膜表面にホコリ等がつきにくくなる。
接触角が低下することにより、細かい水滴が発生しにく
くなり光の乱反射による曇りの現象が防げ、表面の電気
伝導度が上がることにより、表面の帯電防止となり、コ
ート膜表面にホコリ等がつきにくくなる。
【0016】以下、実施例に基づき本発明を詳細に説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0017】
(実施例1)ジエチレングリコールビス(アリルカーボ
ネート)製樹脂からなる合成樹脂製レンズをアセトンで
洗浄し、その後真空蒸着法により基板温度50℃で合成
樹脂製レンズ表面に反射防止処理を行った。膜構成は、
レンズ側からSiO2がλ0/4,ZrO2層とSiO2層
の合計膜厚がλ0/4,ZrO2層がλ0/4,最上層の
SiO2層がλ0/4とした。得られた反射防止膜付きレ
ンズを塩化メチレンで洗浄し、ジビニルジクロロシラン
99.9%溶液に2分間浸漬した。浸漬後、湿度60
%、温度15℃中で5cm/分の割合でレンズを引き上
げ、塩化メチレン99.9%溶液により洗浄した。次に
洗浄されたレンズを2N H2SO4中で60℃、1時間
加熱処理し、ビニル基をヒドロキシエチル基に変化させ
た。処理後外観に変化はみられなかった。
ネート)製樹脂からなる合成樹脂製レンズをアセトンで
洗浄し、その後真空蒸着法により基板温度50℃で合成
樹脂製レンズ表面に反射防止処理を行った。膜構成は、
レンズ側からSiO2がλ0/4,ZrO2層とSiO2層
の合計膜厚がλ0/4,ZrO2層がλ0/4,最上層の
SiO2層がλ0/4とした。得られた反射防止膜付きレ
ンズを塩化メチレンで洗浄し、ジビニルジクロロシラン
99.9%溶液に2分間浸漬した。浸漬後、湿度60
%、温度15℃中で5cm/分の割合でレンズを引き上
げ、塩化メチレン99.9%溶液により洗浄した。次に
洗浄されたレンズを2N H2SO4中で60℃、1時間
加熱処理し、ビニル基をヒドロキシエチル基に変化させ
た。処理後外観に変化はみられなかった。
【0018】得られたコート膜の評価方法は、以下に示
す方法を用いた。
す方法を用いた。
【0019】 ヤケ性:水道水をコート膜表面にたら
し乾燥させた後、布で残留物を拭き取った。残留物が残
ればC、完全に拭き取れればA、一部残ればBと評価し
た。
し乾燥させた後、布で残留物を拭き取った。残留物が残
ればC、完全に拭き取れればA、一部残ればBと評価し
た。
【0020】 耐摩耗性:コート膜表面を布で1kg
の荷重をかけ1000回摩擦した。傷のついた度合を以
下の3段階に分けて評価した。
の荷重をかけ1000回摩擦した。傷のついた度合を以
下の3段階に分けて評価した。
【0021】A: 全く傷がつかない。
【0022】B: 1〜10本、細かい傷がつく。
【0023】C: 細かく無数に傷がつく。
【0024】 密着性:30℃の純水に1週間浸漬し
た後、コート膜の密着性を調べた。コート膜の密着性
は、JISD−0202に準じてクロスカットテープ試
験によって行った。即ち、ナイフを用い、レンズ表面に
1mm間隔に切れ目をいれ、1mm2のマス目を100
個形成させる。次に、その上にセロファン粘着テープ
(日東化学(株)製”セロテープ”)を強く押し付けた
後、表面から90゜方向へ、急に引っ張り剥離した後、
コート膜被膜の残っているマス目を持って密着性指標と
した。
た後、コート膜の密着性を調べた。コート膜の密着性
は、JISD−0202に準じてクロスカットテープ試
験によって行った。即ち、ナイフを用い、レンズ表面に
1mm間隔に切れ目をいれ、1mm2のマス目を100
個形成させる。次に、その上にセロファン粘着テープ
(日東化学(株)製”セロテープ”)を強く押し付けた
後、表面から90゜方向へ、急に引っ張り剥離した後、
コート膜被膜の残っているマス目を持って密着性指標と
した。
【0025】 接触角:接触角計(協和科学株式会社
製CA−D型)を用いて液適法により測定した。
製CA−D型)を用いて液適法により測定した。
【0026】 防曇性:試料を湿度20%、温度5℃
の雰囲気中に30分間放置後、湿度80%、温度30℃
の雰囲気に取り出し、曇りの消失する時間を測定した。
の雰囲気中に30分間放置後、湿度80%、温度30℃
の雰囲気に取り出し、曇りの消失する時間を測定した。
【0027】 防塵性:スタチイックオネストメータ
ー(宍戸商会製)による帯電圧の半減期を測定した。
(測定条件:温度25℃、相対湿度60%) (実施例2)イソプロピルアルコールで洗浄されたジエ
チレングリコールビス(アリルカーボネート)製レンズ
を室温で5分間、5%水酸化ナトリウム水溶液で処理を
行い、以下に述べるコーティング液を、ディッピング法
により、液温5℃、引き上げ速度40cm/minの条
件で塗布した。次に熱風乾燥炉中で80℃で30分、1
30℃で2時間加熱硬化させた。
ー(宍戸商会製)による帯電圧の半減期を測定した。
(測定条件:温度25℃、相対湿度60%) (実施例2)イソプロピルアルコールで洗浄されたジエ
チレングリコールビス(アリルカーボネート)製レンズ
を室温で5分間、5%水酸化ナトリウム水溶液で処理を
行い、以下に述べるコーティング液を、ディッピング法
により、液温5℃、引き上げ速度40cm/minの条
件で塗布した。次に熱風乾燥炉中で80℃で30分、1
30℃で2時間加熱硬化させた。
【0028】コーティング液は次の様にして作製した。
【0029】攪拌装置を備えた反応容器中にエタノール
206部、エタノール分散コロイダルシリカ396部
(触媒化成工業株式会社製”オスカル1232”固形分
30%)、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ンの部分加水分解物 312部、フローコントロール剤
0.2部(日本ユニカー(株)製”L−7604”)及
び0.05N酢酸水溶液86部を加え、室温で3時間攪
拌をし、コーティング液とした。
206部、エタノール分散コロイダルシリカ396部
(触媒化成工業株式会社製”オスカル1232”固形分
30%)、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ンの部分加水分解物 312部、フローコントロール剤
0.2部(日本ユニカー(株)製”L−7604”)及
び0.05N酢酸水溶液86部を加え、室温で3時間攪
拌をし、コーティング液とした。
【0030】上記の様にして得られたレンズに実施例1
と同様に反射防止処理を行った。次にこのレンズをアセ
トンで洗浄して真空槽内にセットし、真空度0.1To
rr、基板温度50℃となるよう排気、加熱した。その
後真空槽内にジフェニルビニルクロロシランを、10c
c/分の割合で真空槽内へ1分間導入した。その後レン
ズを大気中に取り出し、テトラヒドロフランにより洗浄
を行った。洗浄後のレンズを2N H2SO4中で50
℃、30分間加熱処理をし、ビニル基をヒドロキシエチ
ル基に変化させた。処理後のレンズの外観に特別な異常
は見られなかった。
と同様に反射防止処理を行った。次にこのレンズをアセ
トンで洗浄して真空槽内にセットし、真空度0.1To
rr、基板温度50℃となるよう排気、加熱した。その
後真空槽内にジフェニルビニルクロロシランを、10c
c/分の割合で真空槽内へ1分間導入した。その後レン
ズを大気中に取り出し、テトラヒドロフランにより洗浄
を行った。洗浄後のレンズを2N H2SO4中で50
℃、30分間加熱処理をし、ビニル基をヒドロキシエチ
ル基に変化させた。処理後のレンズの外観に特別な異常
は見られなかった。
【0031】(比較例1)実施例1で得られたジビニル
ジクロロシラン処理前の反射防止付き合成樹脂製レンズ
を比較例1とした。
ジクロロシラン処理前の反射防止付き合成樹脂製レンズ
を比較例1とした。
【0032】(比較例2)実施例2で得られたジフェニ
ルビニルクロロシラン処理を行う前の反射防止膜付き合
成樹脂製レンズを比較例2とした。
ルビニルクロロシラン処理を行う前の反射防止膜付き合
成樹脂製レンズを比較例2とした。
【0033】実施例と比較例の評価結果はまとめて表1
に示した。
に示した。
【0034】
【表1】
【0035】
【発明の効果】無機コート膜に、親水性を持つことが出
来るシラン化合物を反応させたために、無機コート膜及
び表面の特性が変化し、曇りの防止などの特性が著しく
向上するという効果が得られた。
来るシラン化合物を反応させたために、無機コート膜及
び表面の特性が変化し、曇りの防止などの特性が著しく
向上するという効果が得られた。
【0036】本発明は、合成樹脂製眼鏡レンズ、カメラ
レンズ、表示用パネル、時計用カバーガラス、窓ガラス
等無機コート膜を使用した製品に適用できる。
レンズ、表示用パネル、時計用カバーガラス、窓ガラス
等無機コート膜を使用した製品に適用できる。
Claims (3)
- 【請求項1】 無機コート膜に、後処理によって親水性
の基に変換されるような置換基あるいは不飽和結合のう
ち少なくともどちらか一方を持つシラン化合物を反応さ
せたのち、後処理あるいは不飽和結合を持つ物質をグラ
フト重合したことを特徴とする無機コート膜を有する光
学材料。 - 【請求項2】 請求項1の無機コート膜が主としてSi
O2を含む層を最表層として持つ単層膜あるいは多層膜
であることを特徴とする請求項1記載の無機コート膜を
有する光学材料。 - 【請求項3】 請求項1の無機コート膜が合成樹脂製レ
ンズまたは、ハードコート層を有する合成樹脂製レンズ
上に形成された反射防止膜であることを特徴とする請求
項1記載の無機コート膜を有する光学材料。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61010468A JP2622541B2 (ja) | 1986-01-21 | 1986-01-21 | 光学物品の製造方法 |
| FR8700257A FR2598520B1 (fr) | 1986-01-21 | 1987-01-13 | Pellicule protectrice minerale |
| DE19873701654 DE3701654A1 (de) | 1986-01-21 | 1987-01-21 | Verfahren zur behandlung anorganischer ueberzuege |
| JP5007902A JP2812121B2 (ja) | 1986-01-21 | 1993-01-20 | 光学物品の製造方法 |
| US08/183,105 US5622784A (en) | 1986-01-21 | 1994-01-18 | Synthetic resin ophthalmic lens having an inorganic coating |
| US08/324,066 US5783299A (en) | 1986-01-21 | 1994-10-14 | Polarizer plate with anti-stain layer |
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61010468A JP2622541B2 (ja) | 1986-01-21 | 1986-01-21 | 光学物品の製造方法 |
| JP5007902A JP2812121B2 (ja) | 1986-01-21 | 1993-01-20 | 光学物品の製造方法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61010468A Division JP2622541B2 (ja) | 1986-01-21 | 1986-01-21 | 光学物品の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05341107A true JPH05341107A (ja) | 1993-12-24 |
| JP2812121B2 JP2812121B2 (ja) | 1998-10-22 |
Family
ID=26342290
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5007902A Expired - Lifetime JP2812121B2 (ja) | 1986-01-21 | 1993-01-20 | 光学物品の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2812121B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007126662A (ja) * | 1994-12-12 | 2007-05-24 | 3M Co | 反射防止特性および防曇特性を有するコーティング組成物 |
| JP2007126672A (ja) * | 1994-12-12 | 2007-05-24 | 3M Co | 反射防止特性および防曇特性を有するコーティング組成物 |
| WO2009116612A1 (ja) | 2008-03-21 | 2009-09-24 | 三井化学株式会社 | 親水膜 |
Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5226382A (en) * | 1975-08-22 | 1977-02-26 | Bosch Gmbh Robert | Process for forming protective layer on surface of optical reflector |
| JPS58172245A (ja) * | 1982-04-02 | 1983-10-11 | Asahi Glass Co Ltd | ガラスの表面処理剤 |
| JPS5939714A (ja) * | 1982-08-31 | 1984-03-05 | Matsumoto Seiyaku Kogyo Kk | 珪素酸化物被覆形成法 |
| JPS60220420A (ja) * | 1984-04-16 | 1985-11-05 | Fuji Xerox Co Ltd | I/0インタ−フエイス制御装置 |
| JPS61130902A (ja) * | 1984-11-30 | 1986-06-18 | Asahi Glass Co Ltd | 汚れのとれやすい反射防止膜付プラスチツクレンズ |
| JPS6280603A (ja) * | 1985-10-04 | 1987-04-14 | Toray Ind Inc | 反射防止性を有する光学物品及びその製造方法 |
| JPS62169102A (ja) * | 1986-01-21 | 1987-07-25 | Seiko Epson Corp | 無機コ−ト膜の表面改質法 |
-
1993
- 1993-01-20 JP JP5007902A patent/JP2812121B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5226382A (en) * | 1975-08-22 | 1977-02-26 | Bosch Gmbh Robert | Process for forming protective layer on surface of optical reflector |
| JPS58172245A (ja) * | 1982-04-02 | 1983-10-11 | Asahi Glass Co Ltd | ガラスの表面処理剤 |
| JPS5939714A (ja) * | 1982-08-31 | 1984-03-05 | Matsumoto Seiyaku Kogyo Kk | 珪素酸化物被覆形成法 |
| JPS60220420A (ja) * | 1984-04-16 | 1985-11-05 | Fuji Xerox Co Ltd | I/0インタ−フエイス制御装置 |
| JPS61130902A (ja) * | 1984-11-30 | 1986-06-18 | Asahi Glass Co Ltd | 汚れのとれやすい反射防止膜付プラスチツクレンズ |
| JPS6280603A (ja) * | 1985-10-04 | 1987-04-14 | Toray Ind Inc | 反射防止性を有する光学物品及びその製造方法 |
| JPS62169102A (ja) * | 1986-01-21 | 1987-07-25 | Seiko Epson Corp | 無機コ−ト膜の表面改質法 |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007126662A (ja) * | 1994-12-12 | 2007-05-24 | 3M Co | 反射防止特性および防曇特性を有するコーティング組成物 |
| JP2007126672A (ja) * | 1994-12-12 | 2007-05-24 | 3M Co | 反射防止特性および防曇特性を有するコーティング組成物 |
| WO2009116612A1 (ja) | 2008-03-21 | 2009-09-24 | 三井化学株式会社 | 親水膜 |
| US9512034B2 (en) | 2008-03-21 | 2016-12-06 | Mitsui Chemicals, Inc. | Hydrophilic film |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2812121B2 (ja) | 1998-10-22 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |