JPS61130902A - 汚れのとれやすい反射防止膜付プラスチツクレンズ - Google Patents

汚れのとれやすい反射防止膜付プラスチツクレンズ

Info

Publication number
JPS61130902A
JPS61130902A JP59251734A JP25173484A JPS61130902A JP S61130902 A JPS61130902 A JP S61130902A JP 59251734 A JP59251734 A JP 59251734A JP 25173484 A JP25173484 A JP 25173484A JP S61130902 A JPS61130902 A JP S61130902A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lens
film
compd
ultra
thin film
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP59251734A
Other languages
English (en)
Inventor
Takao Hayashi
孝雄 林
Katsuaki Aikawa
相川 勝明
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
AGC Inc
Original Assignee
Asahi Glass Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Asahi Glass Co Ltd filed Critical Asahi Glass Co Ltd
Priority to JP59251734A priority Critical patent/JPS61130902A/ja
Publication of JPS61130902A publication Critical patent/JPS61130902A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11Anti-reflection coatings
    • G02B1/113Anti-reflection coatings using inorganic layer materials only
    • G02B1/115Multilayers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、表面に反射防止膜が形成されたプラスチック
レンズにおいて、レンズ表面に付着した汚れをとりやす
くしたレンズ表面の特性が改良された反射防止膜付プラ
スチックレンズに関するものである。
〔従来の技術゛〕
一般に、透明プラスチック材料、例えばポリ(ジエチレ
ングリコールビスアリルカーボネート)、ポリメチルメ
タクリレート、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ
塩化ビニルなどは、透明性に加えて、自身の有する軽量
、易加工性及び耐衝撃性などの利点を活かして各種光学
部品の分野で広く利用されている。光学部品において、
特にプラスチックレンズは例えば、メガネレンズ、カメ
ラレンズ、プロジェクタ−レンズ、7レネルレンズ、プ
リズム、自動車前照灯レンズなどにその用途が拡大して
いる。
プラスチックレンズにおいて、その素材としてのポリメ
チルメタクリレートは量産成形が容易なことからサング
ラスに、ポリカーボネートは耐衝撃性に優れていること
から産業用安全メガネなどに、ポリ(ジエチレングリコ
ールビスアリルカーボネート)は透明性と加工性が良い
ことから視力矯正用メガネレンズに主として用いられて
いる。しかしながら、上記透明プラスチック材料よりな
るプラスチックレンズはもとより、ガラスレンズにおい
ても、レンズ表面における光の反射があり、このため光
線透過率が低下して、レンズを通して見ると明るさが損
なわれ、しかも表面にはゴーストと呼ばれる反射偉が現
われる。このため、レンズ表面における光の反射を減ら
し、光線透過率を高めるために通常レンズ表面には反射
防止膜が形成されている。反射防止膜は例えば、MgF
s + Li1r+ ThF4 +氷晶石などの無機フ
ッ化物、あるいは810 。
81oz、 ZrO*、 0eOz、 AlxOsなど
に代表される金属酸化物を真空蒸着やスパッタリングな
どの方法によりレンズ表面に単層あるいは複層の被膜と
して形成されている。
而して、レンズ類は使用の間に、大気中に浮遊する塵埃
、水滴、油滴などがその表面に付着して汚損し、光線透
過率を低下せしめ、特にメガネレンズにおいては着用者
の汗、皮膚の油脂、化粧品なども付着し【視野を舜らせ
不快感を増大させる。そのため、レンズ表面を拭うため
の特殊なシリコーン加工されたクロスぞペーパーが市販
され、更に、洗浄剤を充填した洗浄槽中で超音波による
洗浄を行なう超音波洗浄器も実用化されている。
一般にルンズ類の表面清浄方法、洗浄方法 ・あるいは
洗浄剤に関しては、レンズ類の製造時におけるそれらの
手段についての提案が多く、   □例えば洗浄方法に
ついては特開昭57−137118号公報に、また、メ
ガネレンズ用洗浄剤としては特開昭58−10019号
公報に開示されている。しかしながら、レンズ類の耐汚
染性を向上する手段、あるいは表面に付着した汚れをと
りやすくしたレンズ、#に反射防止膜の形成されたプラ
スチックレンズの表面改良による汚れをとりやす(する
手段に関する提案はなされていない。
〔発明の解決しようとする問題点〕
表面に反射防止膜が形成されたプラスチックレンズは反
射防止膜材料の特性上から、膜には微視的な空孔が存在
することから、付着した汚れを取り除くのは特に困歎で
ある。しかも油脂類は前記のシリコーン加工されたクロ
スやペーパーを用いて拭うことによっても完全に取り除
くことは容易ではない。特に、かかるクロ艮やペーパー
によって反射防止膜Iを強く拭うことから、膜面に傷を
誘発し、長期間の使用による変型なる払拭から、発生し
た傷の部分から膜が剥離してしまうという問題がある。
勿論、超音波による洗浄は、かかる洗浄装置が高価であ
り、個人が携行して汚れの都度洗浄をなし得るというも
のではない。
〔問題を解決するための手段〕
不発明は、上記問題点のg識に基づき、表面に反射防止
膜の形成されたプラスチックレンズにおいて、表面に付
着した取り除くことが難しい汚れを容易に除去すること
ができる、表面の特性が改良されたプラスチックレンズ
に関し、反射防止膜上に該反射防止膜り形成処理直後に
、処理することに主って汚れをとりゃすくする処理剤及
び処理方法を検討した。
反射防止膜はプラスチックレンズ表面に直接あるいはハ
ードコート膜上に反射防止膜材料が真空蒸着やスパッタ
リング法によって単層あるいは一層の光の波長単位の薄
膜として形成されるが、かかる反射防止膜は超做視的に
は多数の空孔を含んでなるものである。このため、空孔
内に汚染物が入り込み、しかも反射防止膜は摩擦係数が
大きく、そのため汚染物を除去し難くしているとの判断
に基づき、撥水、撥油性を有し、摩擦係数の小さい物質
を反射防止膜上に処理して、空孔内に吸着させ、固定化
することによって、汚染物が容易に除去される処理材料
として、特定の有機ケイ素化合物が好適であるという事
実を見い出し本発明を完成するに至ったものである。
即ち、本発明は、表面に反射防止膜が形成されたプラス
チックレンズにおいて、該反射防止膜上に有機ケイ素化
合物からなる1ooX以下の超薄膜が形成されてなるこ
とを特徴とする汚れのとりやすい反射防止膜付プラスチ
ックレンズを提供するものである。
本発明において、反射防止膜上に超薄膜を形成する有機
ケイ素化合物は側鎖にアルキル基。
フェニル基、ポリフルオロアルキル基を有する二次元お
よび/または三次元構造のポリオルガノシロキサンであ
るのが好ましい。而して、反射防止膜上に形成される上
記ポリオルガノシロキサンにおいて、アルキル基、フェ
ニル基、ポリフルオロアルキル基をRで示すと二次元構
造は下記式(■)、三次元構造は下記式(I[)で表わ
される繰り返し単位からなる。Rは同一でも異なってい
てもよい。
Rがポリフルオロアルキル基であるポリフルオロアルキ
ル基含有ポリオルガノシロキサンにおいて、ポリフルオ
ロアルキル基は炭素数1〜20のパーフルオロアルキル
基であるのが特に好ましい。            
          )ここで、パーフルオロアルキル
基含有ポリオルガノシロキサンを反射防止膜上に形成せ
しめるには、反射防止膜上にパーフルオロアルキル基含
有シラン化合物が処理される。処理されたシラン化合物
は加熱することにより脱水、縮合反応が進行して、シロ
キサン構造の超薄膜が形成される。使用されるパーフル
オロアルキル基含有シラン化合物とし【は、パーフルオ
ロアルキル基をRfで表わすと、Rf(OHs)asi
Xm 。
R′ Rf(OHs)a日1(OR’)、  、  Rf(O
H4)asiXm。
R′ Rf(OHs)a81 (OR’)、  (ここでXは
ハロゲン、R′、は低級アルキル基、aは2〜4の整数
)などが好ましく、かかる化合物は種々の方法あるいは
経路で入手できる。例えば、RfCH−OHxとH81
01,xとの反応を含む工程によってRf(CMり18
1C1gが合成される。この反応は触媒の存在下、反応
温度O〜150℃、反応時間1〜50時間で行なわれる
。更にRf(onり)2日lC1mにアルコール類を添
加して脱ノ10ゲン化水素反応を行なうことによりRt
 (OH”)t(OR’)mが合成される。
本発明において、反射防止膜上に処理されるパーフルオ
ロアルキル基含有シラン化合物ノ代表的なものを例示す
ると、 OFI (CIFり、 OFH481(OOFIm)、
01m ((Jt)40zHa81(OCHm)、  
OFi (cF* )s C5Ha 81 (00シ)
、。
ays (0?り102H4B1(oaas)、 1a
ys (cカ)1・CrH481(QClll)m +
ays (OFり110!H4ai(OCHI)m 。
ays (a7重)110翼H481(0(Flm)s
 。
OX” (OFm)ua*a4s1(ocis)、 。
Cam (ON’s)s  CrH481(oCsHm
)、  。
CI’l (0’Fx)、0zH481(0011’)
1  +(!71(OFり、O2H4B101M。
OFI (CF、)、02m4日1011 。
CFFl (OFz)、 0jH1131(ocas)
、 。
OFI (OFF)、 OIH@81 (OOHI)、
 。
’  OFm (CFt鵞)、Qx[gθ1(OOOH
s)、 。
CFm ((!IFり、 0IHs81 (oczai
)、 ICJs (01Px)60sHsBLcLs 
OFs (OFり101H’日to1m。
0IFs (CFt)604Hs81(001M)3 
OFi(OFり、a4mas1(ocax)、  。
011 (C!F2)、 C4H1lSi (OC2H
&)、 。
OFI (CFz )a C*HaSi (○CzHs
)s。
などを挙げることができる。また、パーフルオロアルキ
ル基は分岐していてもよく、例えばOH1 c、>0F(OFF)、 C!2H481(OCHa)
、 。
(Vs        ?Hz CF、>C!F (CFり、 02H4BL (oca
s)t 、    ナトが挙げられる。更に、例えば上
記例示のパーフルオロアルキル基含有シラン化合物の2
種以上の混合物であってもよい。パー7/L/オロアル
キル基含有シ2ン化倉物において、前記式、例えばRf
(cシ)a−Blxm 、その他における式中のaは2
〜4であるのが好ましく、それ以外の化合物は不安定と
なる。
パーフルオロアルキル基含有シラン化合物に’おいて、
パーフルオロアルキル基の臨界表面張力は7〜15 d
yn15!と低く、水はもとより油類のそれよりも低い
ことから、パーフルオロアルキル基が表面を覆うと撥水
撥油性が付与され、しかも摩擦係数も小さくなり、付着
した汚れはとれやすくなる。
本発明の反射防止膜上に超薄膜を形成する有機ケイ素化
合物の二次元および/または三次元構造のポリオルガノ
シロキサンにおいて、アルキル基あるいはフェニル基を
有するポリオルガノシロキサンも汚れをとりやすくする
という表面の改良に有用である。反射防止膜上(処理す
る有機ケイ素化合物として、上記ポリオルガノシロキサ
ンを直接処理することができる。かかるポリオルガノシ
ロキサンを例示すると、ポリジメチルシロキサン、ポリ
ジエチルシロキサン。
ポリジプロピルシロキサン、ポリメチルシロキサン、ポ
リエチルシロキサン、ポリブチルシロキサン、ポリフェ
ニルシロキサン、ポリメチルフェニルシロキサンなどが
挙げられる。かかるポリオルガノシロキサンにおいて、
ポリジアルキルシロキサンを主成分としたコーティング
剤が市販されていて容易に入手することができる。
また、上記のポリオルガノシロキサンは会知の方法によ
って合成することができる。例えばポリジアルキルシロ
キサンは下記の反応式の如く、ジクロルジアルキルシラ
ンを加水分解し、生成されるシラノールを直゛ちに脱水
、縮合させることによって合成される。。
R’、 8401m + 2T1xD   R’l E
l(OR)! +2HO1゜nR’、 81(OH)1
 □ (R’、 5iO)n+nHi。
ここでR′は低級アルキル基を表わす。
したがって、反、射防止膜の形成されたレンズの該反射
防止膜上に、例えば、ハロゲノアルキルシラン、ハロゲ
ノフェニルシラン、ジハロゲノジアルキルシランなどの
ハロゲン化シラン化合物を処理して加水分解し、次いで
脱水、縮合反応を行なうことによってポリオルガノシロ
キサンからなる超薄膜を形成させることができる。
かかるポリオルガノシロキサンにおいて、アルキル基、
フェニル基が含まれるポリオルガノシロキサンは活性エ
ネルギーが小さく、界面配向を起こしやすいことから、
超薄膜、特に分子単位の極めて薄い皮膜を形成せしめる
と強い撥水性が付与される。。
反射防止膜上への有機ケイ素化合物の処理に際し、有機
ケイ素化合物、即ち、パーフルオロアルキル基含有シラ
ン化−金物、ポリオルガノシロキサンあるいはハロゲン
化シラン化合物などに所望によりシランカップリング剤
、例えば、cmx−cHcFLzo (cHt)、 s
l(OCRm)、。
ゝ♂ ca2−casl(ocaa)、、  ca2−aas
tclx。
J−csu4si(oca3)。
などを添加してもよい。
本発明において、反射防止膜の形成されたプラスチック
レンズの該反射防止膜上に有機ケイ素化合物を処理して
超薄膜を形成する方法は、反射防止膜に存在する微視的
な空孔内に吸着、固化させることからして、有機ケイ素
化合物、即ち、パーフルオロアル−?ル基含有シラン化
合物、ポリオルガノシランあるいはハロゲン化シラン化
合物などは溶媒、例えば、水、アルコール類、ケトン類
、エーテル類、ノ・ロダン化炭化水素系溶媒などの少な
くとも1種によって0.01〜1%の濃度の溶液となる
ように調製する。上記有機ケイ素化合物のうち、ポリオ
ルガノシロキサンはジメチルシロキサンを生成分として
アルコール類を溶媒とした市販のコーチインク剤が好適
に用いられる。
調製された溶液は公知の方法により反射防止膜の形成さ
れたレンズの該反射防止膜上に塗布するか、または該溶
液中にレンズを・浸漬し、引上げることによって処理す
る。この場合、反射防止膜の形成直後に行なうのが好ま
しく、反射防止膜面が空気中の浮遊物、水滴、油滴など
により汚染されない状態で行なうことが、有機ケ4素化
合物0処理に1″形成されゝ超薄膜0    )形成性
、密着性などにおいて重要な点である。
また、反射防止膜面を有機ケイ素化合物の処理前に高度
な純水で十分洗浄し、清浄状態で乾燥することも超薄膜
の形成性、密着性などを向上させることに有用である。
反射防止膜上に処理された有機ケイ素化合物は固定化処
理が行なわれる。有機ケイ素化合物がポリオルガノシロ
キサンである場合は30℃乃至50℃の比較的低温でよ
く、また、有機ケイ素化合物がオルガノシラン化合物で
ある場合は、加水分解、脱水、縮重合反応と固定化を同
時に進めることから40℃乃至60℃に加熱することに
よって行なわれる。かかる固定化処理は2時間乃至24
時間で完結し、反射防止膜と有機ケイ素化合物からなる
超薄膜との接着が密となり、しかも形成された超薄膜の
耐久性が向上する。
反射防止膜上に有機ケイ素化合物が処理されて形成され
る超薄膜の膜厚は100X以下であるのが好ましく、特
に好ましくは分子単位の膜厚である。反射防止膜に存在
する超微視的な空孔は有機ケイ素化合物が充填され超薄
膜が形成されろ。超薄膜の膜厚が100Xより厚く形成
されると干渉色あるいは反射色などが発生し、透視性を
損うなどの前書が現われるので不適当である。
本発明における反射防止膜の形成されたプラスチックレ
ンズにおい【、レンズ基材のプラスチックとしては、例
えば、ポリ(ジエチレングリコールビスアリルカーボネ
ート)、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート
、ポリスチレン、ポリアミドなどであるか、またはそれ
らを含む共重合体からなる。しかしながら、他の透明プ
ラスチックあるいはガラス製のレンズを対象外とするも
のではない。
レンズ表面に形成される反射防止膜の材料は、フッ化物
、金属酸化物などいずれであってもよく、かかる材料中
に金、銀、銅、クロム、アルミニウムなどが少量加えら
れて着色されたものであってもよい。かかる材料からな
る反射防止膜において、該反射防止膜上に形成される有
機ケイ素化合物の超薄膜形成性および耐久性などの点に
おいて金属酸化物からなるのが好ましく、更に好ましい
のは810xである。例えば、レンズ表面に蒸着法によ
りレンズ側より5i(h、 ZrO,zを交互に特定膜
厚となるよ、うに形成し、表面が5102よりなる反射
防止膜上に、有機シラン化合物が処理されて超薄膜が形
成されてなるプラスチックレンズはその表面に付着した
汚れを容易に取り除くことができる。しかも強制環境試
験後においても汚れのとれやすさは劣化することなく、
更に反射防止特性の変化も全く認められない。
〔実施例〕
以下に、本発明を実施例により更に具体的に説明するが
、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない
合成例 0nF2B410H−OH鵞(但し、nは6.8.10
.12の混合物で平均値9.0) 99.2P(0,2
モル)、H81C!Is 32.5 ? (0,24モ
ル) 、HxPtO1@・シ00.0521Fを四ツロ
フラスコに秤取し、窒素気流下でゆっくり攪拌しながら
80℃で20時間反応させた。反応終了後、生成物を蒸
留することによって0n72H+1 (C!11i*)
、 8101sを得た。次いで、CnF2n41 (c
Ht)t 81℃1m 63.2 t (0,1モ/L
/)にメタノール200fを混合し、窒素ガスをバブリ
ングして生成するHOIを除去しながら反応させた。
この反応の終了は生成したHOlを定量して確認した。
反応終了後、過剰のメタノールを留去してOnl’2n
41 (OIIs)181 (0(Ha)、を得た。
実施例1 ポリ(ジエ°チレングリコールビスアリルカーボネート
)からなるジオプター0.00.中心部の厚さ約2.4
 m、視感透過率測定器(朝叱分光社製MODEL D
!Itl、 D81’−G工)Kより測定した視感透過
率92−のグラスチックレンズを超音波洗浄器にて洗浄
、乾燥後、真空炉内に挿入し、I X 10−’ To
rr、基板温度60〜100℃で、金属酸化物の膜厚が
レンズ表面側から5iOz O,045。
ZrOx O,032、5ins O,01,Zr(h
 O,086,5iOiO,089(各μm)からなる
設計値になるように真空蒸着処理を行ない反射防止膜を
形成させて、表面に反射防止膜の形成されたプラスチッ
クレンズを得た。
別に、合成例のCnF2n41 (OHz)、Si○1
sをt−ブタノールに溶解してo、oil溶液を調製し
た。
この調製溶液中に、上記の反射防止膜の形成されたグラ
スチックレンズを1分間浸漬し、静かに引上げた後、5
0℃に3時間保持して、ポリフルオロアルキル基含有シ
ロキサンどしての超薄膜を固定させた。
このように反射防止膜上にポリフルオロアルキル基含有
シロキサンからなる超薄膜の形成されたレンズ表面の該
超薄膜の膜厚測定、干渉色の測定及びレンズ表面の汚れ
のとれやすさの評価試験を次の方法により行なった。
■超薄膜の膜厚測定: z、s、a、A(表面分析法)
による。
■干渉色の測定二分光光度計によりピーク波長を測定、
干渉色があると長波長側に 移行する。
汚れのとれやすさ評価試験 ■水郷の除去性:レンズ表面に上水を滴下上て、乾燥後
、表面に残存する水防をテ ィッシュペーパーで拭うことによる水 防の除去性。
■水性ペンのインク除去性:レンズ表面を市販水性ペン
で塗りつぶした後、布で擦 ることによるインクの除去性。
■粉塵の除去性;レンズ表面に白色チョーク粉を散布し
て全面に付着させた後、テ ィッシュペーパーで拭うことによるチ ョーク粉の除去性。
上記、■〜■の結果を第1表に示す。。
更に、撥油性(防汚性)として、レンズ表面に表面張力
の異なる試験液(n−ドデカン、n−テトラデカン、n
−ヘキサデカン)を滴下して、ティッシュペーパーで拭
うことによる油性汚れのとれやすさを第2表に示す強制
試験の前後において確認した。
その結果を第2表に示す。
実施例2 実施例1における合成例1の0nFzH+t ((31
”)t(14011を合成例のOnF B1千I(OH
z )1 Bi (OCH3)3 K代えた他は、実施
例!と同様に反射防止膜上にポリフルオロアルキル基含
有シロキサンからなる超薄膜の形成されたレンズを得て
、実施例1の方法で膜厚測定、干渉色測定、汚れのとれ
やすさの評価試験及び撥油性測定を行なった。その結果
を第1表及びtJJZ表に示す。
実施例3 実施例1と同様に反射防止膜の形成されたプラスチック
レンズを、市販品のポリジメチルシロキサンを主成分と
するコーテイング液(商品名:シリコナイズFKt03
1.富士システムズ株式会社製品)をエタノールで0.
1%に稀釈した溶液中に20秒間浸漬し、引上げた後、
直ちに水で洗浄し、更に蒸留水で濯いで40℃にて24
時間乾燥して、ポリジメチルシロキサンからなる超薄膜
を固定させた。
このように反射防止膜上に、ボリジメ、fルシロキサン
からなる超薄膜の形成されたレンズについて、実施例1
の方法で膜厚測定、干渉色測定、汚れのとれやすさ評価
試験及び撥油性測定を行なった。その結果を第1表及び
第2表に示した。
比較例1 実施例2と同様に反射防止膜の形成されたプラスチック
レンズの反射防止膜上にポリフルオロアルキル基含有シ
ロキサンからなる超薄膜の形成処理を繰返すことによっ
て200にの薄膜が形成されたレンズを得た。得られた
レンズについて実施例1の方法モ膜厚測定、干渉色測定
、汚れのとれやすさの評価試験を行なった。その結果を
第1表に示す。
比較例2 実施例1と同様に反射防止膜の形成されたプラスチック
レンズについて(超薄膜は形成されない)実施例1の方
法で汚れのとれやすさの評価試験を行なった。その結果
を81表に示す。
〔発明の効果〕
本発明の反射防止膜付きプラスチックレンズは、反射防
止膜上に撥水、撥油性を有する超薄膜が形成されてなり
、その結果、レンズ表面に撥水、撥油性が付与され、し
かも表面の摩擦−数が小さくなることから、表面に付着
した水滴による水防や油性汚れなどを容易にとり除くこ
とができる。更に、レンズ表面の滑りがよいことから付
着したホコリなども極めてとりfす〜ご。
したかつ【、レンズ表面の汚れを除去するために強く払
拭する必要がなく、反射防止膜を傷つけることも少ない
汚れのとれやすさは、強制環境試験においても劣化する
ことなく、耐久性にも優れているという効果を有するも
のである。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)表面に反射防止膜が形成されたプラスチックレン
    ズにおいて、該反射防止膜上に有機ケイ素化合物からな
    る100Å以下の超薄膜が形成されてなることを特徴と
    する汚れをとれやすい反射防止膜付プラスチックレンズ
  2. (2)超薄膜を形成する有機ケイ素化合物が側鎖にアル
    キル基、フェニル基、ポリフルオロアルキル基を有する
    二次元および/または三次元構造のポリオルガノシロキ
    サンであることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載
    のプラスチックレンズ。
  3. (3)ポリフルオロアルキル基が炭素数1〜20のパー
    フルオロアルキル基であることを特徴とする特許請求の
    範囲第2項記載のプラスチックレンズ。
JP59251734A 1984-11-30 1984-11-30 汚れのとれやすい反射防止膜付プラスチツクレンズ Pending JPS61130902A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59251734A JPS61130902A (ja) 1984-11-30 1984-11-30 汚れのとれやすい反射防止膜付プラスチツクレンズ

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP59251734A JPS61130902A (ja) 1984-11-30 1984-11-30 汚れのとれやすい反射防止膜付プラスチツクレンズ

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS61130902A true JPS61130902A (ja) 1986-06-18

Family

ID=17227155

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP59251734A Pending JPS61130902A (ja) 1984-11-30 1984-11-30 汚れのとれやすい反射防止膜付プラスチツクレンズ

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS61130902A (ja)

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62169102A (ja) * 1986-01-21 1987-07-25 Seiko Epson Corp 無機コ−ト膜の表面改質法
JPS62178903A (ja) * 1986-02-03 1987-08-06 Seiko Epson Corp 無機コ−ト膜の表面改質法
JPS62247302A (ja) * 1986-04-21 1987-10-28 Seiko Epson Corp 光学物品の製造方法
JPS6486101A (en) * 1987-06-18 1989-03-30 Toray Industries Production of antireflecting article
JPH01130101A (ja) * 1987-11-16 1989-05-23 Nikon Corp 水ヤケが防止された反射防止膜
JPH02138286A (ja) * 1988-02-09 1990-05-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 末端パーフルオロアルキルシラン化合物とその製造方法、およびその化合物を使用したコーティング剤
JPH04218538A (ja) * 1990-07-31 1992-08-10 Kurasawa Opt Ind Co Ltd 防汚性物質およびその製造方法
JPH04256710A (ja) * 1991-02-06 1992-09-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd 調理器具およびその製造方法
JPH05341108A (ja) * 1993-01-20 1993-12-24 Seiko Epson Corp 無機コート膜の表面改質方法
JPH05341107A (ja) * 1986-01-21 1993-12-24 Seiko Epson Corp 無機コート膜を有する光学材料
JPH0682603A (ja) * 1993-02-03 1994-03-25 Seiko Epson Corp 反射防止性を有する光学物品及びその表面改質方法
JPH0682605A (ja) * 1993-04-08 1994-03-25 Seiko Epson Corp 無機コート膜を有する光学物品及びその表面改質法
JPH0688902A (ja) * 1993-02-03 1994-03-29 Seiko Epson Corp 無機コート膜を有する光学物品及びその表面改質方法
JPH08169729A (ja) * 1995-08-25 1996-07-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd 撥水撥油性ガラス
US5622784A (en) * 1986-01-21 1997-04-22 Seiko Epson Corporation Synthetic resin ophthalmic lens having an inorganic coating
EP0842711A1 (en) * 1996-11-14 1998-05-20 Canon Kabushiki Kaisha Thin-film forming material and method for forming thin-film
US5759643A (en) * 1987-01-16 1998-06-02 Seiko Epson Corporation Polarizing plate and method of production
US5783299A (en) * 1986-01-21 1998-07-21 Seiko Epson Corporation Polarizer plate with anti-stain layer
US6939613B2 (en) 2002-03-18 2005-09-06 Hoya Corporation Optical member, process of producing optical member, and process of producing thin film
US6942924B2 (en) 2001-10-31 2005-09-13 Chemat Technology, Inc. Radiation-curable anti-reflective coating system
US7150917B2 (en) 2002-08-02 2006-12-19 Hoya Corporation Optical member
TWI415961B (zh) * 2011-04-21 2013-11-21 Creating Nano Technologies Inc 抗汙薄膜之常壓蒸鍍方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS511387A (ja) * 1974-05-23 1976-01-08 Canon Kk
JPS5852601A (ja) * 1981-09-24 1983-03-28 Seiko Epson Corp 合成樹脂製レンズ

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS511387A (ja) * 1974-05-23 1976-01-08 Canon Kk
JPS5852601A (ja) * 1981-09-24 1983-03-28 Seiko Epson Corp 合成樹脂製レンズ

Cited By (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05341107A (ja) * 1986-01-21 1993-12-24 Seiko Epson Corp 無機コート膜を有する光学材料
US5622784A (en) * 1986-01-21 1997-04-22 Seiko Epson Corporation Synthetic resin ophthalmic lens having an inorganic coating
US5783299A (en) * 1986-01-21 1998-07-21 Seiko Epson Corporation Polarizer plate with anti-stain layer
JPS62169102A (ja) * 1986-01-21 1987-07-25 Seiko Epson Corp 無機コ−ト膜の表面改質法
JPS62178903A (ja) * 1986-02-03 1987-08-06 Seiko Epson Corp 無機コ−ト膜の表面改質法
JPS62247302A (ja) * 1986-04-21 1987-10-28 Seiko Epson Corp 光学物品の製造方法
US5759643A (en) * 1987-01-16 1998-06-02 Seiko Epson Corporation Polarizing plate and method of production
JPS6486101A (en) * 1987-06-18 1989-03-30 Toray Industries Production of antireflecting article
JPH01130101A (ja) * 1987-11-16 1989-05-23 Nikon Corp 水ヤケが防止された反射防止膜
JPH02138286A (ja) * 1988-02-09 1990-05-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd 末端パーフルオロアルキルシラン化合物とその製造方法、およびその化合物を使用したコーティング剤
JPH04218538A (ja) * 1990-07-31 1992-08-10 Kurasawa Opt Ind Co Ltd 防汚性物質およびその製造方法
JPH04256710A (ja) * 1991-02-06 1992-09-11 Matsushita Electric Ind Co Ltd 調理器具およびその製造方法
JPH05341108A (ja) * 1993-01-20 1993-12-24 Seiko Epson Corp 無機コート膜の表面改質方法
JPH0682603A (ja) * 1993-02-03 1994-03-25 Seiko Epson Corp 反射防止性を有する光学物品及びその表面改質方法
JPH0688902A (ja) * 1993-02-03 1994-03-29 Seiko Epson Corp 無機コート膜を有する光学物品及びその表面改質方法
JPH0682605A (ja) * 1993-04-08 1994-03-25 Seiko Epson Corp 無機コート膜を有する光学物品及びその表面改質法
JPH08169729A (ja) * 1995-08-25 1996-07-02 Matsushita Electric Ind Co Ltd 撥水撥油性ガラス
EP0842711A1 (en) * 1996-11-14 1998-05-20 Canon Kabushiki Kaisha Thin-film forming material and method for forming thin-film
US6119626A (en) * 1996-11-14 2000-09-19 Canon Kabushiki Kaisha Vacuum apparatus for forming a thin-film and method for forming thin-film
US6942924B2 (en) 2001-10-31 2005-09-13 Chemat Technology, Inc. Radiation-curable anti-reflective coating system
US6939613B2 (en) 2002-03-18 2005-09-06 Hoya Corporation Optical member, process of producing optical member, and process of producing thin film
US7150917B2 (en) 2002-08-02 2006-12-19 Hoya Corporation Optical member
TWI415961B (zh) * 2011-04-21 2013-11-21 Creating Nano Technologies Inc 抗汙薄膜之常壓蒸鍍方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPS61130902A (ja) 汚れのとれやすい反射防止膜付プラスチツクレンズ
JP4412450B2 (ja) 反射防止フィルター
TWI667306B (zh) 氟化學表面處理劑及以該處理劑處理過的物件
KR100724135B1 (ko) 퍼플루오로폴리에테르-변성 실란, 표면처리제, 및반사방지 필터
KR100505914B1 (ko) 얼룩 방지 코팅을 포함하는 반사 방지 물품 및 반사 방지 표면을 갖는 기재에 얼룩 방지 코팅을 도포하는 방법
KR102569079B1 (ko) 반사방지 부재 및 그 제조 방법
KR100209838B1 (ko) 자체반발성 발수성 표면 처리
JP6445455B2 (ja) 防汚性の改良された光学物品の製造方法
JPWO2008038782A1 (ja) 蒸着材料、それを用いた光学部材及び眼鏡用プラスチックレンズの製造方法並びに眼鏡用プラスチックレンズ
TW202336023A (zh) 表面處理劑
TW202225259A (zh) 含有含氟聚醚基之化合物
WO2021010105A1 (ja) 表面処理剤
JP3876961B2 (ja) 表面処理剤及び撥水・撥油性物品
JPH04338901A (ja) Crt用フィルター
KR102587594B1 (ko) 플루오로옥시알킬렌기 함유 중합체 변성 포스폰산 유도체, 해당 유도체를 포함하는 표면 처리제, 해당 표면 처리제로 처리된 물품 및 광학 물품
JPH0236921B2 (ja)
JPH01110588A (ja) プラスチツクレンズの防汚性処理方法
JP3874513B2 (ja) 反射防止膜及び光学素材
JP7260811B2 (ja) 表面処理剤
JP7613288B2 (ja) フルオロポリエーテル変性アミドシラン化合物及び表面処理剤組成物並びに物品、フルオロポリエーテル変性アミドシラン化合物の合成方法
TW202543950A (zh) 具有表面處理層之物品
JP3709632B2 (ja) 反射防止フィルタおよびその製造方法ならびにこの反射防止フィルタを用いた表示装置
JPH09111223A (ja) 汚れ防止処理方法
JP2017002094A (ja) フルオロオキシアルキレン基含有ポリマー変性ホスホン酸誘導体及び該誘導体を含む表面処理剤、該表面処理剤で処理された物品及び光学物品
JP2005199572A (ja) 汚染防止型反射防止膜及び表示装置