JPH0535230B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0535230B2 JPH0535230B2 JP13662085A JP13662085A JPH0535230B2 JP H0535230 B2 JPH0535230 B2 JP H0535230B2 JP 13662085 A JP13662085 A JP 13662085A JP 13662085 A JP13662085 A JP 13662085A JP H0535230 B2 JPH0535230 B2 JP H0535230B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- high vacuum
- ultra
- accelerator
- electron beam
- vacuum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
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Landscapes
- Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、超高真空用材料、特に超高真空用容
器および部品として用いる材料を洗浄する方法に
関する。
器および部品として用いる材料を洗浄する方法に
関する。
［従来技術］
超高真空（例えば、10-8〜10-11トール）を必
要とする粒子加速器および半導体製造装置などの
超高真空にさらされる部分（例えば、真空用の容
器および種々の部品）の材料には通常、ステンレ
ス鋼およびアルミ合金鋼などが用いられている。
これら材料を、超高真空にさらされる部分として
用いた場合に、高真空度が保たれないという問題
が生じることがある。よつて、材料表面からのガ
ス放出による真空度の悪化を防止することが必要
であるので、材料の表面の吸着分子を除去するた
め、材料を化学洗浄または加熱処理などする洗浄
法を用いる。しかし、これら従来の洗浄法で処理
した材料を真空用の容器または部品として使用し
た装置において、高エネルギーの電磁波または粒
子ビームがこれら材料に照射される場合、吸着エ
ネルギーの大きい分子および材料内部の不純物分
子が高エネルギービームによつて真空空間に放出
され、真空度が悪化するという問題が生じること
が頻繁にある。
要とする粒子加速器および半導体製造装置などの
超高真空にさらされる部分（例えば、真空用の容
器および種々の部品）の材料には通常、ステンレ
ス鋼およびアルミ合金鋼などが用いられている。
これら材料を、超高真空にさらされる部分として
用いた場合に、高真空度が保たれないという問題
が生じることがある。よつて、材料表面からのガ
ス放出による真空度の悪化を防止することが必要
であるので、材料の表面の吸着分子を除去するた
め、材料を化学洗浄または加熱処理などする洗浄
法を用いる。しかし、これら従来の洗浄法で処理
した材料を真空用の容器または部品として使用し
た装置において、高エネルギーの電磁波または粒
子ビームがこれら材料に照射される場合、吸着エ
ネルギーの大きい分子および材料内部の不純物分
子が高エネルギービームによつて真空空間に放出
され、真空度が悪化するという問題が生じること
が頻繁にある。
［発明の目的］
本発明の目的は、電磁波または粒子ビームが照
射されるような条件においても超高真空を保つよ
うに、超高真空用材料を洗浄する方法を提供する
ことにある。
射されるような条件においても超高真空を保つよ
うに、超高真空用材料を洗浄する方法を提供する
ことにある。
［発明の構成］
本発明の要旨は、高真空に排気しながら、超高
真空用材料に、数十KeV〜数MeVの電子ビーム
を照射することを特徴とする超高真空用材料の洗
浄方法に存する。
真空用材料に、数十KeV〜数MeVの電子ビーム
を照射することを特徴とする超高真空用材料の洗
浄方法に存する。
本発明において、超高真空用材料は、通常の超
高用真空材料、例えば、ステンレス鋼、アルミ鋼
などである。
高用真空材料、例えば、ステンレス鋼、アルミ鋼
などである。
本発明において、材料は、数十KeV〜数MeV
のエネルギーの電子ビームを照射して洗浄する。
電子ビームの発生源としては、大電流静電型電子
加速器、即ち、大電流電子ビームを連続的に発生
できる静電加速器を用いることが好ましい。この
加速器として、コツククロフト−ウオルトン加速
器およびバンデグラーフ加速器が挙げられる。
のエネルギーの電子ビームを照射して洗浄する。
電子ビームの発生源としては、大電流静電型電子
加速器、即ち、大電流電子ビームを連続的に発生
できる静電加速器を用いることが好ましい。この
加速器として、コツククロフト−ウオルトン加速
器およびバンデグラーフ加速器が挙げられる。
本発明の方法は、超高真空用材料を一様に洗浄
できるように電子ビームに対する材料の位置を移
動させながら行うことが好ましい。
できるように電子ビームに対する材料の位置を移
動させながら行うことが好ましい。
第１図は、本発明の方法において用いるのに好
ましい装置の一部分の概略断面図を示す。尚、本
発明はこの態様に何等限定されるものではない。
真空容器１１は、バルブ１７を介して接続された
荒引系１２でだいたい減圧され、次いで高真空用
ポンプ１３で高真空に保たれる。真空容器１１
は、加速器からの電子ビームが真空容器に達する
ように、管１４によつて加速器（図示せず。）に
接続されている。洗浄すべき材料１は、加速器か
らの電子ビームが管１４を通過して材料１に照射
されるように配置されている。この容器１１には
位置移動機構１５およびベロー１６が設けられて
おり、加速器からの電子ビームを材料１のあらゆ
る場所に照射することが可能である。この装置に
おいて、高真空を保ちながら、電子ビームを材料
１に照射することによつて、材料１を脱ガスで
き、洗浄できる。
ましい装置の一部分の概略断面図を示す。尚、本
発明はこの態様に何等限定されるものではない。
真空容器１１は、バルブ１７を介して接続された
荒引系１２でだいたい減圧され、次いで高真空用
ポンプ１３で高真空に保たれる。真空容器１１
は、加速器からの電子ビームが真空容器に達する
ように、管１４によつて加速器（図示せず。）に
接続されている。洗浄すべき材料１は、加速器か
らの電子ビームが管１４を通過して材料１に照射
されるように配置されている。この容器１１には
位置移動機構１５およびベロー１６が設けられて
おり、加速器からの電子ビームを材料１のあらゆ
る場所に照射することが可能である。この装置に
おいて、高真空を保ちながら、電子ビームを材料
１に照射することによつて、材料１を脱ガスで
き、洗浄できる。
［発明の効果］
本発明の利点は、本発明の洗浄方法によつて洗
浄した超高真空用材料を用いた場合に、通常の化
学洗浄および熱処理などで処理した材料では得ら
れないような超高真空が得られることにある。数
十KeV〜数MeVの高エネルギー電子ビームによ
つて、通常の化学洗浄および熱処理によつては除
けないような大きい吸着エネルギーの分子および
材料内部に捕捉された分子をも解離させることが
できるからである。加えて、従来方法に比較して
単時間で洗浄できる。本発明の方法は、超高真空
（例えば、10-8〜10-11トール）用の容器および部
品の材料を洗浄する場合に特に有益であるが、そ
の材料自体からの分子放出の問題を解決する必要
がある他の用途の材料を洗浄する場合にも有益で
ある。
浄した超高真空用材料を用いた場合に、通常の化
学洗浄および熱処理などで処理した材料では得ら
れないような超高真空が得られることにある。数
十KeV〜数MeVの高エネルギー電子ビームによ
つて、通常の化学洗浄および熱処理によつては除
けないような大きい吸着エネルギーの分子および
材料内部に捕捉された分子をも解離させることが
できるからである。加えて、従来方法に比較して
単時間で洗浄できる。本発明の方法は、超高真空
（例えば、10-8〜10-11トール）用の容器および部
品の材料を洗浄する場合に特に有益であるが、そ
の材料自体からの分子放出の問題を解決する必要
がある他の用途の材料を洗浄する場合にも有益で
ある。
第１図は、本発明の方法において用いるのに好
ましい装置の一部分の概略断面図である。 １……材料、１１……真空容器、１２……荒引
系、１３……高真空ポンプ、１４……管、１５…
…位置移動機構、１６……ベロー、１７……バル
ブ。
ましい装置の一部分の概略断面図である。 １……材料、１１……真空容器、１２……荒引
系、１３……高真空ポンプ、１４……管、１５…
…位置移動機構、１６……ベロー、１７……バル
ブ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 高真空に排気しながら、超高真空用材料に、
数十KeV〜数MeVの電子ビームを照射すること
を特徴とする超高真空用材料の洗浄方法。 ２ 電子ビームは大電流静電型電子加速器から得
る特許請求の範囲第１項記載の方法。 ３ 大電流静電型電子加速器はコツククロフト−
ウオルトン加速器またはバンデグラーフ加速器で
ある特許請求の範囲第２項に記載の方法。 ４ 超高真空用材料を一様に洗浄できるように電
子ビームに対する材料の位置を移動させる特許請
求の範囲第１〜３項のいずれかに記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13662085A JPS61295384A (ja) | 1985-06-21 | 1985-06-21 | 超高真空用材料の洗浄方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13662085A JPS61295384A (ja) | 1985-06-21 | 1985-06-21 | 超高真空用材料の洗浄方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61295384A JPS61295384A (ja) | 1986-12-26 |
| JPH0535230B2 true JPH0535230B2 (ja) | 1993-05-26 |
Family
ID=15179560
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13662085A Granted JPS61295384A (ja) | 1985-06-21 | 1985-06-21 | 超高真空用材料の洗浄方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61295384A (ja) |
-
1985
- 1985-06-21 JP JP13662085A patent/JPS61295384A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61295384A (ja) | 1986-12-26 |
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