JPH0535849U - マスキング材 - Google Patents
マスキング材Info
- Publication number
- JPH0535849U JPH0535849U JP8310891U JP8310891U JPH0535849U JP H0535849 U JPH0535849 U JP H0535849U JP 8310891 U JP8310891 U JP 8310891U JP 8310891 U JP8310891 U JP 8310891U JP H0535849 U JPH0535849 U JP H0535849U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- transparent substrate
- masking
- region
- separation layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 27
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 title claims abstract description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 20
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 15
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims abstract description 13
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 claims abstract description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 18
- 239000010408 film Substances 0.000 description 14
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- AZWHFTKIBIQKCA-UHFFFAOYSA-N [Sn+2]=O.[O-2].[In+3] Chemical compound [Sn+2]=O.[O-2].[In+3] AZWHFTKIBIQKCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 3
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVTSZOCINPYFDP-UHFFFAOYSA-N [O].[Ar] Chemical compound [O].[Ar] VVTSZOCINPYFDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】透明基材に無機薄膜を成膜する際に、予め非成
膜領域を被覆するマスキング材に関し、特に成膜領域と
非成膜領域との境界部に効果的にグラデーションを施
す。 【構成】透明基材所望領域に物理的蒸着法により無機薄
膜を成膜する際に、予め非成膜領域をマスキングする材
料であって、前記透明基材への密着層と、透明基材との
離隔層とを一体的に配し、該離隔層が前記密着層を覆う
ごとく稍大サイズとしたことからなる。
膜領域を被覆するマスキング材に関し、特に成膜領域と
非成膜領域との境界部に効果的にグラデーションを施
す。 【構成】透明基材所望領域に物理的蒸着法により無機薄
膜を成膜する際に、予め非成膜領域をマスキングする材
料であって、前記透明基材への密着層と、透明基材との
離隔層とを一体的に配し、該離隔層が前記密着層を覆う
ごとく稍大サイズとしたことからなる。
Description
【0001】
本考案はスパッタリング法、真空蒸着法等の物理的蒸着手段で透明基材に無機 薄膜を成膜する際に、予め非成膜領域を被覆するマスキング材に関し、特に成膜 領域と非成膜領域との境界部にグラデーションを施すためのマスキング材に関す るもので、例えば単板の窓ガラス、合せ窓ガラス等の成膜に適用するものである 。
【0002】
近年、窓ガラスに断熱性、防曇性あるいはアンテナ性能等を付与するために、 各種無機薄膜を設けることが多くなってきたが、これら無機薄膜は窓ガラス全面 に設けるケースが多いが、部分的に設けるケースも少なくない。
【0003】 これら無機薄膜は透明薄膜であっても、非成膜領域との境界部が透過率、屈折 率、あるいは色調等の相違により明瞭に視認され、美観上好ましいものではない 。
【0004】 この対策として、前記境界部にグラデーション、すなわち成膜領域から非成膜 領域に移行するに従い漸次透過率、屈折率、あるいは色調等を非成膜領域のそれ に接近させる手段を講ずることが知られており、例えば本出願人は本出願人の出 願にかかる実願昭63-138396 号において、透明基板の特定領域への無機薄膜の成 膜に際し、非成膜領域に密着するマスキング材として基板側を絞った構造の透孔 を設けること、該透孔が断面積の異なる複数の透孔であって、断面積の大なるも のから小なるものへ順次配設することにより、成膜後の透明基板は前記透孔に倣 った薄膜が形成され、境界部における見掛け上のグラデーション効果を発揮せし めることを提唱した。
【0005】 該技術手段によれば遠隔点から透明基板、すなわち窓ガラスを見れば境界部が 見掛け上グラデートし、目立ち難いが、近接点からは前記透孔に倣った無数の薄 膜の斑が目立ち易い。
【0006】 本考案は上記弊害を排除し、遠隔点においては勿論、近接点から見ても成膜領 域と非成膜領域が漸次変化した境界部を形成するための特異な構造のマスキング 材を提供するものである。
【0007】
本考案は透明基材所望領域に物理的蒸着法により無機薄膜を成膜する際に、予 め非成膜領域をマスキングする材料であって、前記透明基材への密着層と、透明 基材との離隔層とを一体的に配し、該離隔層が前記密着層を覆うごとく稍大サイ ズとしたマスキング材からなる。
【0008】 図1は本考案の作用を示した正断面図で、 6は透明基材、例えばガラス板であ り、 8は透明基材に密着したマスキング層 (密着層) 8b、および透明基材から離 隔したマスキング層 (離隔層) 8aよりなるマスキング材である。上方より物理的 蒸着法により、一例として酸化インヂウム- 酸化錫からなる無機物質5'をスパッ タリングした場合、成膜領域x においてはそれにより成膜され、非成膜領域y に おいてはマスキングされ、境界域z においては成膜領域x から非成膜領域y に至 る間、無機物質5'はマスキング層8aの影響により矢印v 、w で示すように漸次少 量の無機物質が蒸着される。
【0009】 このようにして境界域z にはグラデートした膜が形成されるものである。
【0010】
以下実施例を基に本考案を説明する。 図2は本マスキング材を使用したマグネトロンスパッタリング装置の概略正断 面図、図3はスパッタリングにより得られる透明基材の部分平面図である。
【0011】 真空チャンバー 1内には永久磁石2 、2 を内蔵するマグネトロンカソード3 と アノード4 を配設し、その下に例えば酸化インジウム- 酸化錫よりなる焼結体を ターゲット5 として配置する。
【0012】 一方ターゲット5 に対して平行となるように板ガラス等の透明基材6 を保持台 7 に保持し、透明基材6 上には厚さ 2mmの密着層8bと、厚さ 1mmで稍大サイズの 離隔層8aを一体化したマスキング材8 を載置する。なお図1に示すように離隔層 8aの密着層8bに対する食出量l は 1mmないし数十mmとする。
【0013】 前記マグネトロンスパッタリング装置において、排気系 9により真空チャンバ ーを10-6torr程度の真空とした後ガス導入バルブ10によりアルゴン- 酸素混合ガ スを導入し、マグネトロンカソード3 とアノード4 の電極間に高電圧を印加する と、永久磁石2 、2 の磁界によってマグネトロン放電が生じ、ターゲット5 より 透明基材6 に酸化インジウム- 酸化錫5'よりなる膜が形成される。
【0014】 このようにして得られる薄膜は図3に示す透明基材6 の成膜領域x 、非成膜領 域y に対し、境界にグラデーション域z が形成されて成膜領域x と非成膜領域y の境界が目立たなくなる。
【0015】 図4A〜Dはマスキング材の各種形態を示した平面図および側面図で、うち8a が離隔層、8b (破線で示す) が密着層である。離隔層8aは、図4Aに示す通常の タイプ以外にも、図4Bに示すように縁部に波形を施したもの、図4Cに示すよ うに金属等の細かいメッシュよりなるもの、図4Dに示すように側面からみて縁 部ほど薄く傾斜したもの等多様な態様があり、またグラデーション域の形状を種 々に換える等いずれも本考案の範疇である。
【0016】 勿論密着層8bの厚み、離隔層8aの食出量l を任意に選択、組合せることによっ てグラデーションの幅や濃淡勾配を自由に設定できる。マスキング材の材質もフ ッ素系ゴムや樹脂、ステンレス、アルミニウム等の金属その他高温真空中で耐熱 、耐食性のあるものであればよい。透明基材も無機ガラス以外に樹脂ガラスも適 用できる。
【0017】 本考案の応用例を自動車窓ガラスについて例示すれば、透明導電膜をアンテナ として使用する場合、FMラジオ放送波、TV(VHF) 放送波を好適に受信できるが、 さらにTV(UHF) 放送波まで受信するには、窓ガラス上部あるいは下部に若干の余 白部を残して透明導電膜を形成し、余白部にTV(UHF) 放送波を受信する線状のプ リントアンテナを設ければ、全体として広帯域受信アンテナとなる。前記透明導 電膜と余白部の間に本考案の技術手段によりグラデーション域を設ける。
【0018】 あるいは自動車前部窓ガラスの一部にヘッドアップディスプレイ用の薄膜を設 け、さらに断熱性多層膜を窓ガラスほぼ全面に設ける場合、ヘッドアップディス プレイ用薄膜と重なる部分は可視光透過率を70% 以上に保つために、該部および それより若干広い領域に断熱性多層膜の非成膜領域を配する必要がある。前記成 膜、非成膜領域間に本考案の技術手段によりグラデーション域を設けることがで きる。
【0019】
本考案によれば簡単容易な技術手段で効果的にグラデーション域を設けること ができるという実用上多大な効果を奏する。
【図1】本考案の作用を示す側断面図である。
【図2】マグネトロンスパッタリング装置の概略正断面
図である。
図である。
【図3】所定領域に成膜した透明基板の部分平面図であ
る。
る。
【図4】図4A〜Dは各種態様のマスキング材の平面図
および側面図である。 6 ------透明基材8 ------マスキング材 8a------離隔層 8b------密着層
および側面図である。 6 ------透明基材8 ------マスキング材 8a------離隔層 8b------密着層
Claims (1)
- 【請求項1】透明基材所望領域に物理的蒸着法により無
機薄膜を成膜する際に、予め非成膜領域をマスキングす
る材料であって、前記透明基材への密着層と、透明基材
との離隔層とを一体的に配し、該離隔層が前記密着層を
覆うごとく稍大サイズとしたことを特徴とするマスキン
グ材。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8310891U JPH0535849U (ja) | 1991-10-14 | 1991-10-14 | マスキング材 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8310891U JPH0535849U (ja) | 1991-10-14 | 1991-10-14 | マスキング材 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0535849U true JPH0535849U (ja) | 1993-05-14 |
Family
ID=13793009
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8310891U Pending JPH0535849U (ja) | 1991-10-14 | 1991-10-14 | マスキング材 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0535849U (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6164873A (ja) * | 1984-09-05 | 1986-04-03 | Toshiba Corp | 薄膜形成方法 |
-
1991
- 1991-10-14 JP JP8310891U patent/JPH0535849U/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6164873A (ja) * | 1984-09-05 | 1986-04-03 | Toshiba Corp | 薄膜形成方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2651203B2 (ja) | 透明体およびその製造方法 | |
| US5548186A (en) | Bus electrode for use in a plasma display panel | |
| JPH0322390A (ja) | 薄膜elパネルの製造方法 | |
| KR20100057032A (ko) | 도전성 적층체 | |
| US20030203219A1 (en) | Plastic article with a film sputter deposited thereon | |
| US9769922B2 (en) | White color coating layer-formed touch screen panel and white color coating layer vacuum coating method of touch screen panel | |
| US6903503B2 (en) | Flat neon sign device using flat electrode and lower plate structure | |
| US20030146699A1 (en) | AC driven plasma device for flat lamps and method of manufacture | |
| JPH0535849U (ja) | マスキング材 | |
| IE880425L (en) | Substrates for supporting electrical components | |
| US5838398A (en) | Cathode structure for a plasma addressed liquid crystal display panel | |
| US20050134169A1 (en) | Flat panel display and method of manufacturing the same | |
| JPH0647010Y2 (ja) | マスキング部材 | |
| US5431851A (en) | Composite electroluminescent phosphor | |
| KR20010108121A (ko) | Crt용 패널유리와 그 제조방법 및 crt | |
| JPH0231474B2 (ja) | ||
| US20050184645A1 (en) | Electron emission device and method of manufacturing the same | |
| US20050248268A1 (en) | Cloth textured EL lamp | |
| JP2953907B2 (ja) | グラデーション付ガラスの製法およびその治具 | |
| KR20020076848A (ko) | 이온빔 보조전자빔을 갖는 진공증착기로 완성한 수지계평판표시소자 및 그 제조방법 | |
| JP3192249B2 (ja) | ガス及び湿気バリアー膜及びその製造方法 | |
| CA2281265A1 (en) | Method for manufacturing a nonlinear optical thin film | |
| JPS61241925A (ja) | 電極の形成方法 | |
| KR20040079609A (ko) | Pdp 전면 필터 및 그의 제조방법 | |
| JPS6414891A (en) | Thin film el element |