JPH0536011A - 磁気ヘツドの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 磁気回路を構成する軟磁性薄膜１８とその軟
磁性薄膜１８を支持する基板１２とからなる磁気ヘッド
の製造方法において、軟磁性薄膜１８形成するため基板
１２に溝１６を形成する際、３種類の異なった形状のダ
イシングブレード１３，１４，１５を使用するものであ
る。 【効果】 目づまりに起因する切削抵抗が低減され、仕
上げ加工における溝壁面や溝底部でのクラックやワレ等
の加工歪みの発生が減少し、加工歪みによる磁気ヘッド
の磁気特性劣化が抑制される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、ビデオテープレコーダ
等の磁気記録再生装置において、情報の記録再生等に用
いられる磁気ヘッドに関し、特に磁気回路を構成する軟
磁性薄膜とこの軟磁性薄膜を支持する基板からなる磁気
ヘッドの製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録技術の高密度化にともない、例
えば、メタルテープ等の高保磁力媒体が主流になってき
た現在、磁気ヘッドに使用されるコア材料は高い飽和磁
束密度を有するものが要求されている。

【０００３】このような状況の下で図１１に示すように
高い飽和磁束密度を有する軟磁性薄膜をコア材料とし、
その軟磁性薄膜をほぼトラックに相当する膜厚で基板３
に形成し、その上から低融点ガラス４で基板３及び、軟
磁性薄膜５をモールドすることによって軟磁性薄膜５を
基板３と低融点ガラス４層とで挟持するようにしたヘッ
ドチップを使用した磁気ヘッドがある。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図１１
に示すようなヘッドチップを使用した磁気ヘッドにおい
ては、前記基板３が結晶化ガラスやセラミックス等から
なる硬い材質によりできているため、ダイシング加工に
使用するブレードが図１２に示すように粗加工６，中加
工７，仕上げ加工８と３種の粒度の異なった同じ形状の
ブレードを使用していた。粗加工６に使用する低番手ブ
レードは、摩耗による形状の変化が著しく、その形状を
整形するため中加工７を入れ、更に仕上げ加工８は、高
番手ブレードを用い、溝斜面の粗さを抑え（Ｒｍａｘ〜
５００オングストローム程度）ている。しかしながら、
高番手（仕上げ加工８）の場合、図１３に示すように目
づまりを生じやすく切削抵抗が増加し、形成された溝壁
面や溝底部にワレやクラックを生じることになり溝壁面
に軟磁性薄膜を設けてなる磁気ヘッドでは、磁気特性の
劣化を招来し磁気ヘッドの歩留まりが低下するという問
題を生じてくる。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明に係わる磁気ヘッ
ドの製造方法は、上記課題を解決するために、ブレード
を用いるダイシング加工によって基板に溝を形成し、こ
の溝壁面に沿わせて軟磁性薄膜を設けてなる磁気ヘッド
の製造方法において、粗加工に使用する低番手（約＃３
２０）ブレードはストレートブレードを使用し、中加工
に使用する中番手（約＃６００）ブレードは舟形ブレー
ドを使用し、仕上げ加工に使用する高番手（約＃３００
０）ブレードはＶ型ブレードを使用し片側だけを研削し
ていくものである。

【０００６】

【作用】上記の磁気ヘッドの製造方法によれば、一番切
り込み深さを必要とする粗加工において、形状がＶ型よ
りも、ストレート型の方が磨耗に強く元の形状にて長時
間加工することができ、そして、中番手ブレードにおい
ては、舟形の斜面の方だけを加工することにより、ブレ
ードにかかる負荷が全面を当てて加工するよりも軽く、
スピードを上げて加工することも可能になり、また、高
番手ブレードにおいても、片側斜面だけを当てて加工す
ることにより、基板に溝を入れる工程の際ブレードの負
荷が軽減され目づまりも減少する、したがって、目づま
りに起因する切削抵抗も低減されることから、仕上げ加
工における溝壁面や溝底部でのクラックやワレ等の加工
歪みの発生は減少する。これにより、加工歪みによる磁
気ヘッドの磁気特性劣化が抑制される。

【０００７】

【実施例】以下本発明の磁気ヘッドの製造方法の一実施
例を図１から図１０に基づいて説明する。

【０００８】本発明による磁気ヘッドは、図１に示すよ
うに、高飽和磁束密度を有するヘッドチップ１１が用い
られている。このヘッドチップ１１は例えば感光性結晶
化ガラス，結晶化ガラスあるいは、セラミック等の非磁
性材料や、軟磁性フェライト等の酸化物磁性材料により
形成された一対の基板１２を有している。

【０００９】上述の非磁性材料又は酸化物磁性材料から
なる基板１２上の表面に３種類のダイシングブレードに
より、最初の粗加工として図２に示すようにストレート
ブレード１３を使用し、次いで、中加工として図３に示
すように舟形ブレード１４を使用し、最後に仕上げ加工
として図４に示すようにＶ型ブレード１５を使用し、図
５に示すように、所定のピッチ寸法Ｘで溝１６を形成す
る。

【００１０】その後、図６に示すように、上記溝１６の
仕上げ加工された溝壁面１７に真空蒸着あるいはスパッ
タリング法により所定の膜厚でＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ系合金
からなる軟磁性薄膜１８を形成する。

【００１１】次に、図７に示すように溝１６に低融点ガ
ラス１９を充填した後、図８に示すように溝１６と低融
点ガラス１９の頂点が一致するように、なおかつヘッド
習動面にはみ出した低融点ガラス１９を取り除くよう低
融点ガラス１９を平面状に研磨する。

【００１２】次いで、図９に示すように基板１２の両側
面に内部巻線溝２０と外部巻線溝２１とを形成し、更に
ガラス充填用溝が形成された側の面であるギャップ面２
２に所定のギャップとなるようＳｉＯ₂ 等(図示せず)の
非磁性ギャップ材を真空蒸着あるいはスパッタリング法
により形成して基板ブロック２４とする。

【００１３】この後、図１０に示すように上記の一対の
基板ブロックのギャップ面２２同士を互いに対向するよ
うに位置を合わせ加圧固定を行って接合しコアブロック
２５を形成する。次いで、上記コアブロック２５を線２
６に沿って所定のピッチ寸法Ｙで切断して図１に示すヘ
ッドチップとする。

【００１４】そして、このヘッドチップを図示しないベ
ース板に接着固定した後コイル巻線及び、テープ研磨を
施して磁気ヘッドを形成する。

【００１５】

【発明の効果】本発明による磁気ヘッドの製造方法は、
基板上に溝を形成させる際、一番切り込み深さを必要と
する粗加工において、形状がＶ型よりも、ストレート型
の方が磨耗に強く元の形状にて長時間加工することがで
き、そして、中番手ブレードにおいては、船形の斜面の
方だけで加工することにより、ブレードにかかる負荷が
全面を当てて加工するよりも軽く、スピードを上げて加
工することも可能になり、また、高番手ブレードにおい
ても、片側斜面だけを当てて加工することにより、基板
に溝を入れる工程の際ブレードの負荷が軽減され目づま
りも減少する。したがって、目づまりに起因する切削抵
抗も低減されることから、仕上げ加工における溝壁面の
溝底部でのクラックやワレ等の加工歪みの発生は減少す
る。これにより、加工歪みによる磁気ヘッドの磁気特性
劣化が抑制される。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気ヘッドの製造方法に基づいて製造
されたヘッドチップの斜視図である。

【図２】本発明の磁気ヘッドの製造方法の製造工程を示
すものであり、粗加工により基板に溝を形成する工程を
示す説明図である。

【図３】図２の粗加工により形成された基板の溝を中加
工する工程を示す説明図である。

【図４】図３の中加工により形成された基板の溝を仕上
げ加工する工程を示す説明図である。

【図５】図４の仕上げ加工により形成された基板の溝を
示す説明図である。

【図６】図５の溝壁面に軟磁性薄膜を形成する工程を示
す説明図である。

【図７】図６の軟磁性薄膜上に低融点ガラスを充填する
工程を示す説明図である。

【図８】図７の低融点ガラスを平面状に研磨する工程を
示す説明図である。

【図９】図８の基板の両側面に各々巻線溝を形成して基
板ブロックを作製する工程を示す斜視図である。

【図１０】図９の基板ブロックを一対合わせてコアブロ
ックを形成する工程を示す斜視図である。

【図１１】従来の磁気ヘッドの製造方法に基づいて製造
されたヘッドチップの斜視図である。

【図１２】従来の磁気ヘッドの製造方法の製造工程を示
すものであり、基板に溝を形成する工程を示す説明図で
ある。

【図１３】図１２の仕上げ加工する工程を示す説明図で
ある。

【符号の説明】

１２ 基板 １３ ストレートブレード １４ 舟形ブレード １５ Ｖ形ブレード １６ 溝 １８ 軟磁性薄膜

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】 磁気回路を構成する軟磁性薄膜とその軟
   磁性薄膜を支持する基板からなる磁気ヘッドの製造方法
   において、軟磁性薄膜を形成させるため基板に溝を形成
   させる際、３種類の異なった形状のダイシングブレード
   を使用することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。