JPH0536047A - 磁気デイスク装置の製造方法 - Google Patents

磁気デイスク装置の製造方法

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JPH0536047A
JPH0536047A JP16787891A JP16787891A JPH0536047A JP H0536047 A JPH0536047 A JP H0536047A JP 16787891 A JP16787891 A JP 16787891A JP 16787891 A JP16787891 A JP 16787891A JP H0536047 A JPH0536047 A JP H0536047A
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JP
Japan
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magnetic disk
head
head slider
protective film
inorganic insulating
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Pending
Application number
JP16787891A
Other languages
English (en)
Inventor
Kazumasa Hosono
和眞 細野
Yoshio Koshikawa
誉生 越川
Junzo Toda
順三 戸田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
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Publication of JPH0536047A publication Critical patent/JPH0536047A/ja
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  • Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は磁気ディスク装置の製造方法に関
し、薄膜磁気ヘッド素子の樹脂材からなる層間絶縁層が
装置稼働時の温度上昇により熱膨張し、それに起因して
該薄膜磁気ヘッド素子上を覆った無機絶縁保護膜の記録
媒体対向面への露出面が突出する現象を解消し、ヘッド
クラッシュを防止することを目的とする。 【構成】 回転機構に装着された磁気ディスク4と気流
流出端面に無機絶縁保護膜で覆われた薄膜磁気ヘッド素
子を付設したヘッドスライダ5と該ヘッドスライダ5を
磁気ディスク4の所定位置に位置決めするヘッド位置決
め機構7とを収容した密閉容器1内を減圧すると共に、
恒温槽31中で装置稼働時の温度よりも高い温度環境とな
るように加熱した状態で回転する磁気ディスク4上の所
定摺動領域にヘッドスライダ5を摺動させて、該ヘッド
スライダ5の記録媒体対向面に露出する前記無機絶縁保
護膜の面を平坦面に研磨するように構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はコンピュータシステムの
外部記憶装置として用いられる磁気ディスク装置の製造
方法に係り、特にヘッドクラッシュの発生を低減した磁
気ディスク装置の製造方法に関するものである。
【0002】近年、磁気ディスク装置においては、小
型、大容量化に伴って磁気ディスクに対して浮動する磁
気ヘッドの低浮上化が進められているが、この磁気ヘッ
ドの低浮上化によってヘッドクラッシュが発生し易くな
る傾向にあり、そのようなヘッドクラッシュの発生を防
止した磁気ディスク装置が必要とされている。
【0003】
【従来の技術】従来の磁気ディスク装置は図2に示すよ
うに、ベース部1aとカバー体1bからなる密閉容器1内の
ベース部1a上に、駆動モータ3と連結されたスピンドル
2と、該スピンドル2に装着された複数枚の磁気ディス
ク4と、その磁気ディスク4に対して図3に示すように
浮上スライダ11の気流流出端面に非磁性絶縁層12を介し
て記録・再生用の薄膜磁気ヘッド素子13が付設され、か
つその表面をAl2O3 等からなる無機絶縁保護膜14により
被覆されたヘッドスライダ5がヘッド位置決め機構7の
ヘッドアーム6を介して支持された状態に配置され、該
ヘッドスライダ5を回転する磁気ディスク4上に浮上さ
せて情報の記録・再生を行っている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで前記薄膜磁気
ヘッド素子13は図4に示すように、例えば浮上スライダ
11の気流流出端面にAl2O3 からなる非磁性絶縁層12を介
して配設された Ni-Fe膜等からなる第1磁極21と第2磁
極25間にSiO2からなるギャップ層22と樹脂材から有機絶
縁層23により挟まれた渦巻き状のCu膜からなる導体コイ
ル24が介在されてなり、かかる薄膜磁気ヘッド素子13の
表面には前記したようにAl2O3 等からなる無機絶縁保護
膜14が被覆されている。
【0005】従って、前記回転する磁気ディスク4上に
ヘッドスライダ5を浮上させて情報を記録する際に、前
記薄膜磁気ヘッド素子13に内蔵する導体コイル24に信号
電流を通電すると該導体コイル24が発熱する。また、そ
の導体コイル24の発熱や磁気ディスク4の回転及びヘッ
ド位置決め機構7における図示しない駆動モータによる
発熱等によってこれらを収容している密閉容器1内の温
度が60〜80℃にも上昇する。
【0006】このような温度上昇下では前記薄膜磁気ヘ
ッド素子13に用いている有機絶縁層23の熱膨張率がAl2O
3 等からなる無機絶縁保護膜14よりも比較的大きいた
め、その有機絶縁層23の大きい熱膨張により図4に示す
ように前記浮上スライダ11の記録媒体対向面15に沿って
露出する該無機絶縁保護膜14の面が図中に鎖線で示すよ
うに押し出されて0.05〜0.10μm程度の突出部Aが発生
し、これに起因して磁気ディスク4とヘッドスライダ5
が接触し易くなり、ヘッドクラッシュを引き起こすとい
う問題があった。
【0007】本発明は上記した従来の問題点に鑑み、記
録時における温度上昇による樹脂材からなる有機絶縁層
の熱膨張に起因する無機絶縁保護膜の記録媒体対向面側
への突出を解消し、ヘッドクラッシュの発生を防止した
新規な磁気ディスク装置の製造方法を提供することを目
的とするものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は上記した目的を
達成するため、気流流出端面に無機絶縁保護膜により覆
われた薄膜磁気ヘッドを付設したヘッドスライダを装置
稼働時の温度よりも高い温度の加熱環境下で回転する磁
気ディスク上の所定摺動領域で摺動させて、該ヘッドス
ライダの媒体対向面に露出する前記無機絶縁保護膜の面
を平坦面に研磨する構成とする。
【0009】また、気流流出端面に無機絶縁保護膜によ
り覆われた薄膜磁気ヘッド素子を付設したヘッドスライ
ダと、回転機構に装着された磁気ディスクと、該ヘッド
スライダを磁気ディスクの所定位置に位置決めするヘッ
ド位置決め機構とを密閉容器に収容した後、該密閉容器
内を減圧すると共に、装置稼働時の温度よりも高い温度
環境となるように加熱した状態で前記ヘッドスライダを
回転する磁気ディスク上の所定摺動領域で摺動させて、
該ヘッドスライダの記録媒体対向面に露出する前記無機
絶縁保護膜の面を平坦面に研磨する構成とする。
【0010】更に、前記磁気ディスク上のヘッドスライ
ダの所定摺動領域をCSS(ContactStart Stop)動作領
域とした構成とする。
【0011】
【作用】本発明では、回転する磁気ディスク上にヘッド
スライダを浮上させて情報を記録する際のこれらを収容
する密閉容器内の温度を、通常の稼働時に上昇する60〜
80℃の温度よりも高い 100℃までの温度に加熱した状態
でヘッドスライダが浮上しないように減速回転させた磁
気ディスク上の所定摺動領域 (CSS動作領域等) にヘ
ッドスライダを摺動させるか、或いは該ヘッドスライダ
を浮上させないために減圧した環境条件下で前記ヘッド
スライダを回転する磁気ディスク上の所定摺動領域 (C
SS動作領域等) に摺動させて、前記ヘッドスライダに
おける薄膜磁気ヘッド素子の表面を被覆し、かつ記録媒
体対向面に露出する無機絶縁保護膜の突出面をあらかじ
め削り取って平坦面にしておくことにより、通常の記録
時に前記密閉容器内の温度が60〜80℃に上昇しても、前
記薄膜磁気ヘッド素子の表面を被覆した無機絶縁保護膜
の記録媒体対向面に露出する面が突出するといった恐れ
が解消され、温度上昇に起因するヘッドクラッシュの発
生を防止することができる。
【0012】
【実施例】以下図面を用いて本発明の実施例について詳
細に説明する。図1は本発明に係る磁気ディスク装置の
製造方法の一実施例を説明するための概略構成図であ
る。
【0013】本実施例では図示のようにベース部1aとカ
バー体1bからなる密閉容器1内のベース部1a上に、駆動
モータ3と連結されたスピンドル2と、該スピンドル2
に装着された複数枚の磁気ディスク4と、図3に示すよ
うに浮上スライダ11の気流流出端面に非磁性絶縁層12を
介して記録・再生用の薄膜磁気ヘッド素子13が付設さ
れ、かつその表面をAl2O3 等からなる無機絶縁保護膜14
により被覆されたヘッドスライダ5と、該ヘッドスライ
ダ5をヘッドアーム6を介して支持した状態で前記磁気
ディスク4の所定位置に対して位置決めするヘッド位置
決め機構7とを組み合わせて配置した後、かかる密閉容
器1を恒温槽31内に収容して通常の記録時に該密閉容器
1内の温度が上昇する40〜80℃の温度よりも高い50〜10
0 ℃の温度に加熱する。
【0014】そして、例えば前記磁気ディスク4を通常
の回転速度よりも大幅に減速してヘッドスライダ5が浮
上しない回転速度で回転させ、その回転する磁気ディス
ク4上の記録・再生に用いない外周領域、または内周領
域で前記ヘッドスライダ5を摺動させる。
【0015】或いは、真空排気装置32により排気して前
記ヘッドスライダ5が浮上しない例えば0.5torr 程度に
減圧した状態の密閉容器1内の装置構成を装置用電源33
により稼働して、前記磁気ディスク4を通常の回転速度
よりも低下させた1200〜1800rpm 程度の回転速度で回転
し、その回転する磁気ディスク4上の記録・再生に用い
ない外周領域、または内周領域、或いはCSS (Contac
t Start Stop) 動作領域で前記ヘッドスライダ5を摺動
させて、該ヘッドスライダ5における薄膜磁気ヘッド素
子13の表面を被覆し、かつ記録媒体対向面15に露出する
無機絶縁保護膜14の通常記録時に上昇する温度よりも高
い加熱温度で少なくとも0.05〜0.10μm以上突出した突
出面をあらかじめ削り取って平坦面にする。
【0016】かくすることにより、通常の記録時に該密
閉容器1内の温度が60〜80℃に上昇しても、前記ヘッド
スライダ5における薄膜磁気ヘッド素子13の表面を被覆
した無機絶縁保護膜14の記録媒体対向面15に露出する面
が突出することがなくなり、温度上昇に起因して発生す
るヘッドクラッシュを防止することが可能となる。
【0017】なお、上記操作中に生じる極く微量な無機
絶縁保護膜14の削り取り粉は、真空排気装置32により外
部へ排出されたり、図示しない内部雰囲気循環機構にお
けるフィルタ等に吸着されるので、その後の通常の記録
・再生操作に悪影響が及ぶようなことはない。
【0018】また、ヘッド摺動型の磁気ディスク装置の
場合には、前記該密閉容器1内を減圧させる必要はな
い。
【0019】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
に係る磁気ディスク装置の製造方法によれば、通常の記
録・再生時における装置内部の温度が80℃程度に上昇し
ても、前記ヘッドスライダにおける薄膜磁気ヘッド素子
の表面を被覆した無機絶縁保護膜の記録媒体対向面への
露出面の突出がなくなり、ヘッドクラッシュの発生を著
しく低減することができる等、実用上、信頼性の高い磁
気ディスク装置を得ることができる利点を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係る磁気ディスク装置の製造方法の
一実施例を説明するための概略構成図である。
【図2】 従来の磁気ディスク装置を説明するための概
略構成図である。
【図3】 ヘッドスライダを説明するための概略構成図
である。
【図4】 従来の磁気ディスク装置の問題点を説明する
ための要部断面図である。
【符号の説明】
1 密閉容器 1a ベース部 1b カバー体 2 スピンドル 3 駆動モータ 4 磁気ディスク 5 ヘッドスライダ 6 ヘッドアーム 7 ヘッド位置決め機構 11 浮上スライダ 12 非磁性絶縁層 13 薄膜磁気ヘッド素子 14 無機絶縁保護膜 15 記録媒体対向面 31 恒温槽 32 真空排気装置 33 装置用電源

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 浮上スライダの気流流出端面に無機絶縁
    保護膜により覆われた薄膜磁気ヘッドを付設したヘッド
    スライダ(5)を装置稼働時の温度よりも高い温度の環
    境下で回転する磁気ディスク(4)上の所定摺動領域で
    摺動させて、前記ヘッドスライダ(5)の記録媒体対向
    面に露出する前記無機絶縁保護膜の面を平坦面に研磨す
    る工程を含むことを特徴とする磁気ディスク装置の製造
    方法。
  2. 【請求項2】 気流流出端面に無機絶縁保護膜により覆
    われた薄膜磁気ヘッド素子を付設したヘッドスライダ
    (5)と、回転機構に装着された磁気ディスク(4)
    と、該ヘッドスライダ(5)を磁気ディスク(4)の所
    定位置に位置決めするヘッド位置決め機構(7)とを密
    閉容器(1)内に収容した後、該密閉容器(1)内を減
    圧すると共に、装置稼働時の温度よりも高い温度環境と
    なるように加熱した状態で前記ヘッドスライダ(5)を
    回転する磁気ディスク(4)上の所定摺動領域で摺動さ
    せて、該ヘッドスライダ(5)の記録媒体対向面に露出
    する前記無機絶縁保護膜の面を平坦面に研磨することを
    特徴とする磁気ディスク装置の製造方法。
  3. 【請求項3】 前記磁気ディスク(4)上の所定摺動領
    域がCSS動作領域からなることを特徴とする請求項
    1、または請求項2の磁気ディスク装置の製造方法。
JP16787891A 1991-07-09 1991-07-09 磁気デイスク装置の製造方法 Pending JPH0536047A (ja)

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JP (1) JPH0536047A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7362533B2 (en) 2004-07-30 2008-04-22 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Disk drive with slider burnishing-on-demand
US8286334B2 (en) 2006-07-14 2012-10-16 Hitachi Global Storage Technologies, Netherlands B.V. Method of manufacturing pre-sliders for read write heads by annealing to saturation

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7362533B2 (en) 2004-07-30 2008-04-22 Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. Disk drive with slider burnishing-on-demand
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Legal Events

Date Code Title Description
A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20001212