JPH0536131A - 光磁気記録媒体 - Google Patents
光磁気記録媒体Info
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- JPH0536131A JPH0536131A JP19203991A JP19203991A JPH0536131A JP H0536131 A JPH0536131 A JP H0536131A JP 19203991 A JP19203991 A JP 19203991A JP 19203991 A JP19203991 A JP 19203991A JP H0536131 A JPH0536131 A JP H0536131A
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- Japan
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- magneto
- optical recording
- protective layer
- recording medium
- magnetic head
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 保護層と磁気ヘッドスライダの摺動時に保護
層が摩耗することのない光磁気ディスクを提供すること
を目的とする。 【構成】 基板１と保護層６の間に光磁気記録層３を有
する光磁気記録媒体に於て、該保護層３中にビッカース
硬度が１３００乃至３０００Ｋｇ／ｍｍ2の粒子を含有
することを特徴とする。
層が摩耗することのない光磁気ディスクを提供すること
を目的とする。 【構成】 基板１と保護層６の間に光磁気記録層３を有
する光磁気記録媒体に於て、該保護層３中にビッカース
硬度が１３００乃至３０００Ｋｇ／ｍｍ2の粒子を含有
することを特徴とする。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、光ビームにより、記
録、再生、消去を行なうことが可能な光記録媒体に関
し、特に磁界変調方式によるオーバライト可能な光磁気
記録媒体に関する。
録、再生、消去を行なうことが可能な光記録媒体に関
し、特に磁界変調方式によるオーバライト可能な光磁気
記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、情報の消去、書き換えの可能な光
記録媒体として光磁気記録媒体が注目されている。
記録媒体として光磁気記録媒体が注目されている。
【０００３】そして、情報の書き換えに先立って旧情報
を消去する必要の無いオーバライト可能な、磁界変調方
式の光磁気記録媒体或いは光磁気記録再生装置が、例え
ば、特開昭５１−１０７１２１号、特開昭６３−２１７
５４８号、特開昭５９−２１５００８号、特公昭６０−
４８８０６号公報などに記載されている。
を消去する必要の無いオーバライト可能な、磁界変調方
式の光磁気記録媒体或いは光磁気記録再生装置が、例え
ば、特開昭５１−１０７１２１号、特開昭６３−２１７
５４８号、特開昭５９−２１５００８号、特公昭６０−
４８８０６号公報などに記載されている。
【０００４】ここでは、光磁気記録媒体に対してオーバ
ライトするために、磁気ヘッドスライダーに磁気コイル
およびコアを配設し、これを回転する上記光磁気記録媒
体の保護層に対向して配置し、両者の間に生じる空気流
で上記磁気ヘッドスライダーを上記光磁気記録媒体上で
浮上させている。このため、磁気ヘッドスライダーは光
磁気記録媒体が所定回転数においては、上記空気流の働
きで、上記光磁気記録媒体に直接接触しないから、上記
光磁気記録再生装置による記録、再生、消去などの過程
で摩耗損傷されることはない。
ライトするために、磁気ヘッドスライダーに磁気コイル
およびコアを配設し、これを回転する上記光磁気記録媒
体の保護層に対向して配置し、両者の間に生じる空気流
で上記磁気ヘッドスライダーを上記光磁気記録媒体上で
浮上させている。このため、磁気ヘッドスライダーは光
磁気記録媒体が所定回転数においては、上記空気流の働
きで、上記光磁気記録媒体に直接接触しないから、上記
光磁気記録再生装置による記録、再生、消去などの過程
で摩耗損傷されることはない。
【０００５】しかしながら、光磁気記録媒体の駆動はじ
め、あるいは終了時には相対回転数の低下で磁気ヘッド
スライダーは浮上力を失い、上記磁気記録媒体に対して
上記磁気ヘッドスライダーが直接、摺接することとな
り、磁気ヘッドが摩耗損傷をうけ、あるいは上記記録媒
体側が摩耗して、光磁気記録層に損傷を与えるおそれが
ありまた、摩耗した保護層材料が磁気ヘッドに付着し磁
気ヘッドと保護層の間に蓄積して両者の吸着（ステッキ
ング）が生じてしまい、上記磁気ヘッドスライダー及び
光磁気記録媒体の駆動が不能となるという問題があっ
た。そこで例えば特開昭６４−６４１４８号公報には、
磁気ヘッド側の耐摺動保護膜中にアルミナなどのフィラ
ーを混入して、その機械強度を向上させた光磁気ディス
クが開示されている。
め、あるいは終了時には相対回転数の低下で磁気ヘッド
スライダーは浮上力を失い、上記磁気記録媒体に対して
上記磁気ヘッドスライダーが直接、摺接することとな
り、磁気ヘッドが摩耗損傷をうけ、あるいは上記記録媒
体側が摩耗して、光磁気記録層に損傷を与えるおそれが
ありまた、摩耗した保護層材料が磁気ヘッドに付着し磁
気ヘッドと保護層の間に蓄積して両者の吸着（ステッキ
ング）が生じてしまい、上記磁気ヘッドスライダー及び
光磁気記録媒体の駆動が不能となるという問題があっ
た。そこで例えば特開昭６４−６４１４８号公報には、
磁気ヘッド側の耐摺動保護膜中にアルミナなどのフィラ
ーを混入して、その機械強度を向上させた光磁気ディス
クが開示されている。
【０００６】しかしながら、磁気ヘッドと保護膜との摺
動時に保護膜の摩耗やキズを防止するには未だ不十分
で、長期的な信頼性に欠けるという問題がある。
動時に保護膜の摩耗やキズを防止するには未だ不十分
で、長期的な信頼性に欠けるという問題がある。
【０００７】
【発明が解決しようとしている課題】本発明は上記問題
点に鑑みなされたものであって、磁気ヘッドと保護膜の
摺動時の保護層の摩耗や保護層への傷付きを防止した光
磁気記録媒体を提供することを目的とするものである。
点に鑑みなされたものであって、磁気ヘッドと保護膜の
摺動時の保護層の摩耗や保護層への傷付きを防止した光
磁気記録媒体を提供することを目的とするものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の光磁気記録媒体
は、基板と保護層の間に光磁気記録層を有し、該保護層
中に、ビッカース硬度が１３００〜３０００Ｋｇ／ｍｍ
2である粒子を含有することを特徴とするものである。
は、基板と保護層の間に光磁気記録層を有し、該保護層
中に、ビッカース硬度が１３００〜３０００Ｋｇ／ｍｍ
2である粒子を含有することを特徴とするものである。
【０００９】即ち本発明によれば磁気ヘッドと対向する
保護層中にビッカース硬度１３００〜３０００Ｋｇ／ｍ
ｍ2の硬さの粒子を含有させることで保護層に、磁気ヘ
ッドとの接触によっても傷が生じたり、摩耗しない程度
の強度を保持させることができ、繰り返し記録及び／又
は再生時の耐久性に優れた光磁気記録媒体を得ることが
できるものである。
保護層中にビッカース硬度１３００〜３０００Ｋｇ／ｍ
ｍ2の硬さの粒子を含有させることで保護層に、磁気ヘ
ッドとの接触によっても傷が生じたり、摩耗しない程度
の強度を保持させることができ、繰り返し記録及び／又
は再生時の耐久性に優れた光磁気記録媒体を得ることが
できるものである。
【００１０】次に本発明を図面を用いて詳細に説明す
る。
る。
【００１１】図１は本発明に係る光磁気記録媒体の概略
断面図である。図１において１は基板、３は光磁気記録
層、２及び４は光磁気記録層３の保護層である誘電体
層、５は反射層で、６は保護層、７は磁気ヘッドスライ
ダ、８はレーザービームである。
断面図である。図１において１は基板、３は光磁気記録
層、２及び４は光磁気記録層３の保護層である誘電体
層、５は反射層で、６は保護層、７は磁気ヘッドスライ
ダ、８はレーザービームである。
【００１２】そして本発明の保護層６としては、ビッカ
ース硬度１３００〜３０００Ｋｇ／ｍｍ2の粒子を含有
する樹脂層が用いられる。そして保護層中の粒子の硬度
としてビッカース硬度が１３００〜３０００Ｋｇ／ｍｍ
2、好ましくは１５００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ2の範囲と
することにより、磁気ヘッドスライダーと保護層の摺動
時の保護層への傷付きや摩耗を防止でき、又逆に摺動時
の磁気ヘッドスライダーの摩耗や破損を生じることもな
い。
ース硬度１３００〜３０００Ｋｇ／ｍｍ2の粒子を含有
する樹脂層が用いられる。そして保護層中の粒子の硬度
としてビッカース硬度が１３００〜３０００Ｋｇ／ｍｍ
2、好ましくは１５００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ2の範囲と
することにより、磁気ヘッドスライダーと保護層の摺動
時の保護層への傷付きや摩耗を防止でき、又逆に摺動時
の磁気ヘッドスライダーの摩耗や破損を生じることもな
い。
【００１３】本発明に於て用いられる粒子としては、例
えばＳｉＣ、ムライト（３Ａｌ2Ｏ3・２ＳｉＯ2）、Ａ
ｌ2Ｏ3等の粒子で、そのビッカース硬度が１３００〜３
０００Ｋｇ／ｍｍ2、好ましくは１５００〜２０００Ｋ
ｇ／ｍｍ2の範囲にあるものを適宜選択して用いること
ができ、具体的には、Ａｌ2Ｏ3の場合、住友化学（株）
製ＡＫＰ−１０（ビッカース硬度１６００Ｋｇ／ｍ
ｍ2）やＡＫＰ−１．３（ビッカース硬度１７５０Ｋｇ
／ｍｍ2）等を好適に用いることができ、又ＳｉＣの場
合、住友セメント（株）製、Ｂグレード（ビッカース硬
度１９５０Ｋｇ／ｍｍ2）等を好適に用いることができ
る。
えばＳｉＣ、ムライト（３Ａｌ2Ｏ3・２ＳｉＯ2）、Ａ
ｌ2Ｏ3等の粒子で、そのビッカース硬度が１３００〜３
０００Ｋｇ／ｍｍ2、好ましくは１５００〜２０００Ｋ
ｇ／ｍｍ2の範囲にあるものを適宜選択して用いること
ができ、具体的には、Ａｌ2Ｏ3の場合、住友化学（株）
製ＡＫＰ−１０（ビッカース硬度１６００Ｋｇ／ｍ
ｍ2）やＡＫＰ−１．３（ビッカース硬度１７５０Ｋｇ
／ｍｍ2）等を好適に用いることができ、又ＳｉＣの場
合、住友セメント（株）製、Ｂグレード（ビッカース硬
度１９５０Ｋｇ／ｍｍ2）等を好適に用いることができ
る。
【００１４】次に上述の粒子を含有する樹脂としては光
硬化樹脂や熱硬化性樹脂を用いることができ、例えば、
紫外線硬化性のアクリル樹脂、エポキシ樹脂やポリエン
ポリオール樹脂や熱硬化性のフェノール樹脂、エポキシ
樹脂、アクリル樹脂やポリエステル樹脂などを使用する
ことができる。
硬化樹脂や熱硬化性樹脂を用いることができ、例えば、
紫外線硬化性のアクリル樹脂、エポキシ樹脂やポリエン
ポリオール樹脂や熱硬化性のフェノール樹脂、エポキシ
樹脂、アクリル樹脂やポリエステル樹脂などを使用する
ことができる。
【００１５】また、本発明の保護層の磁気ヘッドスライ
ダーと対向する表面の静止摩擦係数を０．０１〜０．３
Ｋｇ／ｍｍ2、特に０．１〜０．２Ｋｇ／ｍｍ2とするこ
とが好ましい。即ち、静止摩擦係数を上述の範囲内とす
ることで磁気ヘッドスライダーと光磁気記録媒体の吸着
現象（ステッキング）を防止し、磁気ヘッドスライダー
及び光磁気記録媒体の駆動が不能となるといった問題を
防止することができる。
ダーと対向する表面の静止摩擦係数を０．０１〜０．３
Ｋｇ／ｍｍ2、特に０．１〜０．２Ｋｇ／ｍｍ2とするこ
とが好ましい。即ち、静止摩擦係数を上述の範囲内とす
ることで磁気ヘッドスライダーと光磁気記録媒体の吸着
現象（ステッキング）を防止し、磁気ヘッドスライダー
及び光磁気記録媒体の駆動が不能となるといった問題を
防止することができる。
【００１６】そして本発明の保護層中に含有させる粒子
の粒径としては、平均粒子径が１〜３μｍ及び配合量と
しては、５〜５０重量％、好ましくは１０〜３０重量％
とした場合、静止摩擦係数を上記の範囲内とできると共
に、保護層の機械強度を向上させることができる。
の粒径としては、平均粒子径が１〜３μｍ及び配合量と
しては、５〜５０重量％、好ましくは１０〜３０重量％
とした場合、静止摩擦係数を上記の範囲内とできると共
に、保護層の機械強度を向上させることができる。
【００１７】本発明の保護層の厚さは２〜３０μｍ、特
に５〜１０μｍに設定される。これにより保護層の硬化
時の収縮による剥離を防止できる。
に５〜１０μｍに設定される。これにより保護層の硬化
時の収縮による剥離を防止できる。
【００１８】次に本発明の光磁気記録媒体の製造方法に
ついて説明する。
ついて説明する。
【００１９】まず基板１上に誘電体層２を蒸着やスパッ
タリングによって形成する。基板１としては、特に限定
されず例えばガラス、ポリカーボネート樹脂、アクリル
樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリオレフィン樹脂よりなる
ものが用いられる。
タリングによって形成する。基板１としては、特に限定
されず例えばガラス、ポリカーボネート樹脂、アクリル
樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリオレフィン樹脂よりなる
ものが用いられる。
【００２０】又、これらの基板の表面にはトラッキング
グループやプレピット等のプリフォーマットを形成して
も良い。
グループやプレピット等のプリフォーマットを形成して
も良い。
【００２１】次いで誘電体層２上に光磁気記録層３、誘
電体層４及び反射層５を誘電体層２と同様に蒸着やスパ
ッタリングで形成する。
電体層４及び反射層５を誘電体層２と同様に蒸着やスパ
ッタリングで形成する。
【００２２】光磁気記録層としては、特に制限は無く、
例えばＧｄＴｂ、ＴｂＦｅ、ＧｄＴｂＦｅ、ＴｂＦｅＣ
ｏ、ＧｄＴｂＦｅＣｏ、ＴｂＦｅＣｏＣｒ、ＧｄＴｅＦ
ｅＣｒ等の非晶質、垂直磁気記録層やこれらの積層膜が
挙げられる。
例えばＧｄＴｂ、ＴｂＦｅ、ＧｄＴｂＦｅ、ＴｂＦｅＣ
ｏ、ＧｄＴｂＦｅＣｏ、ＴｂＦｅＣｏＣｒ、ＧｄＴｅＦ
ｅＣｒ等の非晶質、垂直磁気記録層やこれらの積層膜が
挙げられる。
【００２３】また、誘電体層としては、光磁気記録層を
機械的、化学的に保護する機能を有するものが好まし
く、例えばＳｉＯ2、ＳｉＯ、Ｓｉ3Ｎ4等が挙げられ
る。更に反射層としては、例えばＡｌ、Ａｇ、Ａｕ等が
挙げられる。
機械的、化学的に保護する機能を有するものが好まし
く、例えばＳｉＯ2、ＳｉＯ、Ｓｉ3Ｎ4等が挙げられ
る。更に反射層としては、例えばＡｌ、Ａｇ、Ａｕ等が
挙げられる。
【００２４】次に保護膜５は、前記した熱硬化性樹脂や
紫外線硬化樹脂のモノマー及び／又はプレポリマーに前
記のビッカース硬度１３００〜３０００Ｋｇ／ｍｍ2の
粒子を所定量、分散させたものをバーコーター、ロール
コーター、スピンコーター、ヤグラビアコーター等で塗
布し、次いで加熱或いは光照射して該樹脂層を硬化せし
めて本発明の光磁気記録媒体を作製する。
紫外線硬化樹脂のモノマー及び／又はプレポリマーに前
記のビッカース硬度１３００〜３０００Ｋｇ／ｍｍ2の
粒子を所定量、分散させたものをバーコーター、ロール
コーター、スピンコーター、ヤグラビアコーター等で塗
布し、次いで加熱或いは光照射して該樹脂層を硬化せし
めて本発明の光磁気記録媒体を作製する。
【００２５】
【実施例】次に本発明を実施例に従って更に具体的に説
明する。
明する。
【００２６】（実施例１）厚さ１．２ｍｍ、内径１５ｍ
ｍ、外径８６ｍｍで一方の表面に幅０．５μｍ、ピッチ
１．６μｍのトラック溝が同心円状に形成されたポリカ
ーボネート樹脂製のディスク基板上の半径、Ｒ２２〜Ｒ
４２ｍｍの領域に誘電体層としてＳｉ3Ｎ4を厚さ１１０
０Åに成膜し次いで磁気記録層としてＧｄ−Ｆｅ−Ｃｏ
−Ｃｒの非晶質膜及びＴｂ−Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒの非晶質
膜を合わせて３００Å、次に、その上に誘電体層として
Ｓｉ3Ｎ4を厚さ３００Åに成膜し更に反射層５としてＡ
ｌを厚さ６００Åに成膜した。なお成膜はスパッタ法で
行なった。
ｍ、外径８６ｍｍで一方の表面に幅０．５μｍ、ピッチ
１．６μｍのトラック溝が同心円状に形成されたポリカ
ーボネート樹脂製のディスク基板上の半径、Ｒ２２〜Ｒ
４２ｍｍの領域に誘電体層としてＳｉ3Ｎ4を厚さ１１０
０Åに成膜し次いで磁気記録層としてＧｄ−Ｆｅ−Ｃｏ
−Ｃｒの非晶質膜及びＴｂ−Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒの非晶質
膜を合わせて３００Å、次に、その上に誘電体層として
Ｓｉ3Ｎ4を厚さ３００Åに成膜し更に反射層５としてＡ
ｌを厚さ６００Åに成膜した。なお成膜はスパッタ法で
行なった。
【００２７】次に紫外線硬化型樹脂組成物中に平均粒径
１．０μｍ、ビッカース硬度１６００Ｋｇ／ｍｍ2であ
るＡｌ2Ｏ3（商品名：ＡＫＰ−１０、住友化学（株）
製）を２０ｗ％分散させたものを反射層５上及び基板の
内外周部で基板に直接接する様に厚さ約１０μｍにスピ
ンコート法で塗布しＵＶランプ（照射面上２３３ｍＷ／
ｃｍ2、波長３６５ｎｍ）を７秒間照射して樹脂を硬化
させ樹脂保護層を得た。
１．０μｍ、ビッカース硬度１６００Ｋｇ／ｍｍ2であ
るＡｌ2Ｏ3（商品名：ＡＫＰ−１０、住友化学（株）
製）を２０ｗ％分散させたものを反射層５上及び基板の
内外周部で基板に直接接する様に厚さ約１０μｍにスピ
ンコート法で塗布しＵＶランプ（照射面上２３３ｍＷ／
ｃｍ2、波長３６５ｎｍ）を７秒間照射して樹脂を硬化
させ樹脂保護層を得た。
【００２８】なお、紫外線硬化型樹脂組成物としては、
下記の組成のものを用いた。
下記の組成のものを用いた。
【００２９】
エポキシアクリレート２０ｗｔ％
ジメチロールプロパンジアクリレート６５ｗｔ％
トリメチロールプロパントリアクリレート１０ｗｔ％
イルガキュア１８４ ５ｗｔ％
【００３０】次に、こうして得た光磁気ディスクの保護
層の静止摩擦係数をフリクションスティクションテスタ
（ＦＳＴシリーズ；ミネベア（株）製）を用い測定方法
及び測定条件はＡＮＳＩ Ｘ３Ｂ７／８７で定められた
磁気ヘッドとディスク間の摩擦係数を測定する方法に従
って測定した結果０．１５であった。
層の静止摩擦係数をフリクションスティクションテスタ
（ＦＳＴシリーズ；ミネベア（株）製）を用い測定方法
及び測定条件はＡＮＳＩ Ｘ３Ｂ７／８７で定められた
磁気ヘッドとディスク間の摩擦係数を測定する方法に従
って測定した結果０．１５であった。
【００３１】また、この光磁気ディスクを３０００ｒｐ
ｍで回転させた時に、光磁気ディスク記録、再生装置の
磁気ヘッドスライダと保護層の間隔が１．６μｍとなる
様に調整した光磁気記録、再生装置を用いて光磁気ディ
スクを３０００ｒｐｍで、３秒間回転させ、次いで３秒
間停止という一連の動作をくり返すＣＳＳ試験を行なっ
た。その結果１０万回でも光磁気ディスク及び磁気ヘッ
ドスライダには全く変化が無かった。
ｍで回転させた時に、光磁気ディスク記録、再生装置の
磁気ヘッドスライダと保護層の間隔が１．６μｍとなる
様に調整した光磁気記録、再生装置を用いて光磁気ディ
スクを３０００ｒｐｍで、３秒間回転させ、次いで３秒
間停止という一連の動作をくり返すＣＳＳ試験を行なっ
た。その結果１０万回でも光磁気ディスク及び磁気ヘッ
ドスライダには全く変化が無かった。
【００３２】（実施例２）実施例１で用いたＡｌ2Ｏ3の
代りに、平均粒径１．３μｍ、ビッカース硬度１７５０
Ｋｇ／ｍｍ2であるＡｌ2Ｏ3（商品名：ＡＫＰ−１．３
住友化学（株）製）を２５ｗｔ％含有させた以外は実施
例１と同様にして光磁気ディスクを作製した。
代りに、平均粒径１．３μｍ、ビッカース硬度１７５０
Ｋｇ／ｍｍ2であるＡｌ2Ｏ3（商品名：ＡＫＰ−１．３
住友化学（株）製）を２５ｗｔ％含有させた以外は実施
例１と同様にして光磁気ディスクを作製した。
【００３３】この光磁気ディスクの保護層の静止摩擦係
数を実施例１と同様にして測定したところ０．１であっ
た。
数を実施例１と同様にして測定したところ０．１であっ
た。
【００３４】又実施例１と同様にして、ＣＳＳ試験を行
なった結果１０万回でもディスク及び磁気ヘッドスライ
ダには全く異常は認められなかった。
なった結果１０万回でもディスク及び磁気ヘッドスライ
ダには全く異常は認められなかった。
【００３５】（実施例３）実施例１で用いたＡｌ2Ｏ3の
代りに平均粒径１．０μｍ、ビッカース硬度１９５０Ｋ
ｇ／ｍｍ2であるＳｉＣ（住友セメント（株）製：Ｂグ
レード）を２０ｗｔ％含有させた以外は実施例１と同様
にして、光磁気ディスクを作製した。この光磁気ディス
クの静止摩擦係数は０．１２であった。
代りに平均粒径１．０μｍ、ビッカース硬度１９５０Ｋ
ｇ／ｍｍ2であるＳｉＣ（住友セメント（株）製：Ｂグ
レード）を２０ｗｔ％含有させた以外は実施例１と同様
にして、光磁気ディスクを作製した。この光磁気ディス
クの静止摩擦係数は０．１２であった。
【００３６】又実施例１と同様にしてＣＳＳ試験を行な
った結果１０万回でもディスク及び磁気ヘッドスライダ
には全く異常は認められなかった。
った結果１０万回でもディスク及び磁気ヘッドスライダ
には全く異常は認められなかった。
【００３７】（比較例１）実施例１で用いたＡｌ2Ｏ3の
代りに平均粒径０．６μｍ、ビッカース硬度１０００Ｋ
ｇ／ｍｍ2のＴｉＯ2（商品名：Ｒ−８７０、東邦チタニ
ウム（株）製）を２０ｗｔ％含有させた以外は実施例１
と同様にして光磁気ディスクを作製した。この光磁気デ
ィスクの保護層の静止摩擦係数は０．３５であった。
代りに平均粒径０．６μｍ、ビッカース硬度１０００Ｋ
ｇ／ｍｍ2のＴｉＯ2（商品名：Ｒ−８７０、東邦チタニ
ウム（株）製）を２０ｗｔ％含有させた以外は実施例１
と同様にして光磁気ディスクを作製した。この光磁気デ
ィスクの保護層の静止摩擦係数は０．３５であった。
【００３８】次に実施例１と同様にしてＣＳＳ試験を行
なったところ、２万回でヘッドクラッシュが発生した。
なったところ、２万回でヘッドクラッシュが発生した。
【００３９】（比較例２）実施例１で用いたＡｌ2Ｏ3の
代りに平均粒径０．８μｍ、ビッカース硬度７００Ｋｇ
／ｍｍ2のＳｉＯ2（商品名ＨＳ−３０日産化学（株）
製）を２５ｗｔ％含有させた以外は実施例１と同様にし
て光磁気ディスクを作製した。この光磁気ディスクの保
護層の静止摩擦係数は（０．４）であった。
代りに平均粒径０．８μｍ、ビッカース硬度７００Ｋｇ
／ｍｍ2のＳｉＯ2（商品名ＨＳ−３０日産化学（株）
製）を２５ｗｔ％含有させた以外は実施例１と同様にし
て光磁気ディスクを作製した。この光磁気ディスクの保
護層の静止摩擦係数は（０．４）であった。
【００４０】そして、この光磁気ディスクを実施例１と
同様にしてＣＳＳ試験を行なったところ、保護層と磁気
ヘッドスライダの間に吸着（ステッキング）が発生し、
ディスク及び磁気ヘッドスライダの駆動が不可能であっ
た。
同様にしてＣＳＳ試験を行なったところ、保護層と磁気
ヘッドスライダの間に吸着（ステッキング）が発生し、
ディスク及び磁気ヘッドスライダの駆動が不可能であっ
た。
【００４１】なお、本実施例に於て平均粒径の測定は光
散乱光度計（商品名：Ｍｏｄｅｌ６０００；東洋測器
（株）製）で行なった。
散乱光度計（商品名：Ｍｏｄｅｌ６０００；東洋測器
（株）製）で行なった。
【００４２】又、保護層中の粒子のビッカース硬度の測
定は島津ダイナミック超微小硬度計（商品名；ＤＵＨ−
２００；島津製作所（株）製）で行なった。
定は島津ダイナミック超微小硬度計（商品名；ＤＵＨ−
２００；島津製作所（株）製）で行なった。
【００４３】
【発明の効果】以上説明した様に本発明の光磁気記録媒
体によれば保護層の機械強度を適度に補強することがで
き、光磁気記録媒体と磁気ヘッドスライダの摺動時の保
護層の摩耗を防ぐと共に磁気ヘッドスライダの破損も防
止でき、信頼性、耐久性に優れた磁界変調方式によるオ
ーバライト可能な光磁気記録媒体を得る事ができる。
体によれば保護層の機械強度を適度に補強することがで
き、光磁気記録媒体と磁気ヘッドスライダの摺動時の保
護層の摩耗を防ぐと共に磁気ヘッドスライダの破損も防
止でき、信頼性、耐久性に優れた磁界変調方式によるオ
ーバライト可能な光磁気記録媒体を得る事ができる。
【図１】本発明に係る光磁気記録媒体の一実施態様を示
す概略断面図。
す概略断面図。
１ 基板
２、４ 誘電体層
３ 光磁気記録層
５ 反射層
６ 保護層
７ 磁気ヘッドスライダ
８ レーザービーム
Claims (6)
- 【請求項１】 基板と保護層の間に光磁気記録層を有す
る光磁気記録媒体に於て、該保護層中にビッカース硬度
が１３００〜３０００Ｋｇ／ｍｍ2の粒子を含有するこ
とを特徴とする光記録媒体。 - 【請求項２】 該保護層の、該光磁気記録層に対向しな
い側の表面の静止摩擦係数が０．０１以上０．３以下で
ある請求項１の光磁気記録媒体。 - 【請求項３】 前記、静止摩擦係数が０．１以上０．２
以下である請求項２の光磁気記録媒体。 - 【請求項４】 該粒子の平均粒径が１乃至３μｍである
請求項１の光磁気記録媒体。 - 【請求項５】 該保護層中に該粒子を１０〜３０ｗｔ％
含有する請求項１の光磁気記録媒体。 - 【請求項６】 該粒子がアルミナまたは、ＳｉＣの少な
くとも一方である請求項１の光磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19203991A JPH0536131A (ja) | 1991-07-31 | 1991-07-31 | 光磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19203991A JPH0536131A (ja) | 1991-07-31 | 1991-07-31 | 光磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0536131A true JPH0536131A (ja) | 1993-02-12 |
Family
ID=16284592
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19203991A Pending JPH0536131A (ja) | 1991-07-31 | 1991-07-31 | 光磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0536131A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5568466A (en) * | 1994-08-10 | 1996-10-22 | Tdk Corporation | Magneto-optical disc |
-
1991
- 1991-07-31 JP JP19203991A patent/JPH0536131A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5568466A (en) * | 1994-08-10 | 1996-10-22 | Tdk Corporation | Magneto-optical disc |
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