JPH0536657A - Protective tape cutting device for semiconductor wafer - Google Patents

Protective tape cutting device for semiconductor wafer

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Publication number
JPH0536657A
JPH0536657A JP3212738A JP21273891A JPH0536657A JP H0536657 A JPH0536657 A JP H0536657A JP 3212738 A JP3212738 A JP 3212738A JP 21273891 A JP21273891 A JP 21273891A JP H0536657 A JPH0536657 A JP H0536657A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
cutting
cutter holder
cutting blade
protective tape
Prior art date
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Pending
Application number
JP3212738A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Akio Tsumura
昭雄 津村
Kazuo Morimoto
一男 森本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
ARUTETSUKU KK
Nitto Denko Corp
Original Assignee
ARUTETSUKU KK
Nitto Denko Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by ARUTETSUKU KK, Nitto Denko Corp filed Critical ARUTETSUKU KK
Priority to JP3212738A priority Critical patent/JPH0536657A/en
Publication of JPH0536657A publication Critical patent/JPH0536657A/en
Pending legal-status Critical Current

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  • Nonmetal Cutting Devices (AREA)
  • Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

PURPOSE:To prevent the periphery of an orientation flat from being damaged by a cutting blade piece when a protective tape attached to a semiconductor wafer is cut along the periphery of the orientation flat with the cutting blade piece. CONSTITUTION:The contact angle of a cutting blade piece 21 against the periphery of an orientation flat OF is prevented from becoming larger by constituting a cutter holder equipped with the cutting blade piece 21 so that the holder can swing around the vertical axis of the holder and guiding a roller 23 interlocked with the cutting blade piece 21 by means of a guiding member 27 on the orientation flat OF.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、パターン形成処理がな
された半導体ウエハの表面に貼付けた保護テープをウエ
ハ外周形状に沿って切り抜くための装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a device for cutting out a protective tape attached to the surface of a semiconductor wafer which has been subjected to a pattern forming process, along the outer peripheral shape of the wafer.

【0002】[0002]

【従来の技術】パターン形成処理の済んだ半導体ウエハ
の裏面を研摩(バックグラインド)する際には、予めウ
エハ表面に粘着性の弱い保護テープを貼付け、この保護
テープで保護されたウエハ表面を吸盤で吸着保持して研
摩処理を行う。
2. Description of the Related Art When a back surface of a semiconductor wafer on which a pattern has been formed is polished (back-ground), a protective tape having weak adhesiveness is attached to the front surface of the wafer in advance, and the wafer surface protected by the protective tape is sucked. Absorb and hold at to perform polishing treatment.

【0003】この保護テープを半導体ウエハの表面に貼
付ける際には、ウエハ径より広幅の保護テープをウエハ
表面に全体的に貼付けたのち、周囲にはみ出しが無いよ
うに保護テープをウエハ外周縁に沿って切抜くことが要
求される。
When this protective tape is attached to the surface of a semiconductor wafer, a protective tape wider than the diameter of the wafer is attached to the entire surface of the wafer, and then the protective tape is attached to the outer peripheral edge of the wafer so that there is no protrusion. It is required to cut along.

【0004】従来このような処理を行うには、図5に示
すように、保護テープTを貼付けた半導体ウエハWの上
方にウエハ中心周りに回転操作可能な切刃片を配設し、
この切刃片を1回転することで、保護テープをウエハ外
周縁に沿って切抜く手段がとられる。
Conventionally, in order to perform such processing, as shown in FIG. 5, a cutting blade piece which is rotatable around the center of the wafer is arranged above the semiconductor wafer W to which the protective tape T is attached.
By rotating this cutting blade piece once, a means for cutting out the protective tape along the outer peripheral edge of the wafer is taken.

【0005】図6は上記切抜きを行う従来装置の概略を
示す平面図である。ウエハWの中心と略同一の縦軸心X
周りに回転操作されるカッタユニット2に、カッタユニ
ット2の回転半径方向にスライド自在、かつ、縦軸心X
側に向けてスプリング17でスライド付勢されたカッタ
ホルダ3を支持させ、このカッタホルダ3に半径方向に
対して一定の傾斜角θをもって切刃片21を取付け、こ
の切刃片21をウエハWの外周縁に前記一定の傾斜角θ
を接触角として接触させながら周方向に移動させて保護
テープTを切抜くようにしていた。
FIG. 6 is a plan view showing the outline of a conventional device for performing the above-mentioned cutout. Vertical axis X approximately the same as the center of the wafer W
The cutter unit 2 which is rotated around is slidable in the radial direction of rotation of the cutter unit 2 and has a vertical axis X.
The cutter holder 3 which is biased by the spring 17 toward the side is supported, and the cutting blade piece 21 is attached to the cutter holder 3 at a constant inclination angle θ with respect to the radial direction. The constant inclination angle θ around the periphery
The protective tape T was cut out by moving it in the circumferential direction while making contact with the contact angle.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来装置には次のような問題点がある。上記従来装置
では、切刃片21がウエハWの円弧周縁に作用している
領域では常に一定の接触角θが維持されるのであるが、
切刃片21がオリエンテーションフラットOFに作用す
る領域では図6中に示すように切刃片21の進行に伴っ
てオリエンテーションフラットOFの直線周縁に対する
切刃片21の接触角が徐々に大きくなる。
However, the above-mentioned conventional device has the following problems. In the above conventional apparatus, a constant contact angle θ is always maintained in the region where the cutting blade piece 21 acts on the arc edge of the wafer W.
In the region where the cutting blade piece 21 acts on the orientation flat OF, as shown in FIG. 6, the contact angle of the cutting blade piece 21 with respect to the straight peripheral edge of the orientation flat OF gradually increases as the cutting blade piece 21 advances.

【0007】このため、オリエンテーションフラットの
後半部分において切刃片21のウエハ端縁への相当接触
角が大きくなるために、その部分に応力が集中し、ウエ
ハ端縁を損傷しやすいという問題点があった。特に、薄
いウエハWやガリウム・ヒ素ウエハのように脆いウエハ
では欠損の発生する確率が高くなるものであった。
Therefore, in the latter half of the orientation flat, the equivalent contact angle of the cutting blade 21 with the wafer edge increases, so that stress concentrates on that portion and the wafer edge is easily damaged. there were. In particular, in a brittle wafer such as a thin wafer W or a gallium arsenide wafer, the probability of occurrence of defects is high.

【0008】本発明は、このような事情に着目してなさ
れたものであって、オリエンテーションフラットでのウ
エハ欠損を生じることなく円滑良好な切抜きを行うこと
ができる半導体ウエハの保護テープ切抜き装置を提供す
ることを目的としている。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and provides a protective tape cutting device for a semiconductor wafer, which can cut smoothly and satisfactorily without causing a wafer defect in an orientation flat. The purpose is to do.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は次のような構成を採る。すなわち、本発明
は、半導体ウエハの表面に貼付けられた保護テープをウ
エハ外周形状に沿って切抜く装置であって、半導体ウエ
ハを一定姿勢に載置して保持するウエハ支持テーブル
と、前記ウエハ支持テーブル上において、これと略同心
の縦軸心回りに回転操作される切抜き用のカッタユニッ
トと、このカッタユニットの回転半径方向にスライド自
在で、かつ、前記縦軸心側に向けて付勢されてカッタユ
ニットに組付けられたカッタホルダと、このカッタホル
ダを縦軸心周りに回転揺動可能に構成するとともに、カ
ッタホルダに備えた切刃片が平面視でウエハの円弧外周
面に対して一定の角度をもって接触する一定姿勢となる
状態にカッタホルダを揺動付勢する付勢手段と、前記切
刃片がウエハのオリエンテーションフラットの一端に到
達した時点からカッタホルダを前記付勢手段の揺動付勢
力に抗して後退揺動させてオリエンテーションフラット
の端縁に対する切刃片の接触角を減少させるガイド手段
と、を備えたものである。
In order to achieve the above object, the present invention has the following constitution. That is, the present invention is a device for cutting out a protective tape attached to the surface of a semiconductor wafer along the outer peripheral shape of the wafer, and a wafer support table for mounting and holding the semiconductor wafer in a fixed posture, and the wafer support table. On the table, a cutter unit for cutting that is rotated around a vertical axis that is substantially concentric with the table, and a cutter unit that is slidable in the radial direction of rotation of the cutter unit and is biased toward the vertical axis side. The cutter holder assembled to the cutter unit and the cutter holder are configured to be rotatable and swingable around the vertical axis, and the cutting blade provided on the cutter holder has a constant angle with the outer circumferential surface of the arc of the wafer in plan view. Urging means for oscillating and urging the cutter holder so that the cutter holder comes into a fixed posture and the cutting edge piece reaches one end of the orientation flat of the wafer. A guide means for reducing the contact angle of the cutting edge pieces cutter holder from the point is retracted swung against the swing biasing force of the biasing means against the edge of the orientation flat was, but with the.

【0010】[0010]

【作用】本発明によれば、切刃片がウエハの円弧外周縁
に作用する領域では従来装置と同様に一定の接触角を支
持するが、オリエンテーションフラットの領域に入る
と、ガイド手段の働きでカッタホルダが後退揺動され
て、切刃片はオリエンテーションフラットの周縁に対し
て小さな接触角で移動し、オリエンテーションフラット
を通過するとガイド手段から解除されたカッタホルダは
再び元の姿勢に復帰揺動し、切刃片はウエハ円弧周縁に
一定の接触角で作用して切抜きを続ける。
According to the present invention, a constant contact angle is supported in the area where the cutting blade acts on the outer peripheral edge of the arc of the wafer as in the conventional apparatus, but when it enters the area of the orientation flat, the guide means acts. When the cutter holder is swung backwards, the cutting blade moves with a small contact angle to the edge of the orientation flat, and when it passes the orientation flat, the cutter holder released from the guide means swings back to its original posture and swings. The blade piece acts on the peripheral edge of the wafer arc with a constant contact angle to continue cutting.

【0011】[0011]

【実施例】以下、図面を参照して本発明の一実施例を説
明する。図1は本発明に係る保護テープ切抜き装置の一
実施例の縦断面図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a vertical sectional view of an embodiment of a protective tape cutting device according to the present invention.

【0012】この装置は、基本的には従来例と同様に、
半導体ウエハWを載置して吸着保持するウエハ支持テー
ブル1と、このウエハ支持テーブル1と略同心の縦軸心
X周りに回転操作される保護テープ切抜き用のカッタユ
ニット2と、このカッタユニット2の回転半径方向にス
ライド自在、かつ、前記縦軸心X側に向けてスライド付
勢されてカッタユニット2に組付けられたカッタホルダ
3とを備えている。
This device is basically similar to the conventional example,
A wafer support table 1 on which a semiconductor wafer W is mounted and suction-held, a cutter unit 2 for cutting out a protective tape which is rotated about a vertical axis X substantially concentric with the wafer support table 1, and this cutter unit 2. And a cutter holder 3 assembled to the cutter unit 2 by being slidable in the rotation radius direction and being biased toward the vertical axis X side.

【0013】ウエハ支持テーブル1の上面にはカッタ通
過用の環状溝4が同心状に形成されるとともに、これら
の中心部には吸着用溝5が形成されている。
An annular groove 4 for passing a cutter is concentrically formed on the upper surface of the wafer support table 1, and a suction groove 5 is formed at the center of these grooves.

【0014】切抜き用のカッタユニット2は、上下に開
閉自在なケース6に支持プレート7及び、軸受ブラケッ
ト8を介して縦軸心X周りに回転自在に軸支された回転
軸9の下端に連結され、ケース6の上面から突出した回
転軸9の上端に取り付けられた図示しないハンドルを操
作することで、カバーケース6の外側から回転操作され
るようになっている。
The cutter unit 2 for cutting is connected to a lower end of a rotary shaft 9 which is rotatably supported around a vertical axis X through a support plate 7 and a bearing bracket 8 in a case 6 which can be opened and closed vertically. By operating a handle (not shown) attached to the upper end of the rotating shaft 9 protruding from the upper surface of the case 6, the cover case 6 is rotated from the outside.

【0015】前記回転軸9の下部には角ブロック10が
連結されており、この角ブロック10に縦軸心Xをはさ
むように左右一対のスライド軸11が前後スライド可能
に水平に貫通されるとともに、両スライド軸11の前後
両端は軸押え部材12、13で連結されて一体化されて
いる。そして両スライド軸11にわたって連結固定した
支持ブロック14に前記カッタホルダ3が縦軸心P周り
に揺動可能に装着されている。
A square block 10 is connected to a lower portion of the rotary shaft 9, and a pair of left and right slide shafts 11 are horizontally penetrated through the square block 10 so as to sandwich a vertical axis X. The front and rear ends of both slide shafts 11 are connected and integrated by shaft pressing members 12 and 13. The cutter holder 3 is mounted on a support block 14 connected and fixed across both slide shafts 11 so as to be swingable around a vertical axis P.

【0016】また、前記角ブロック10に備えたバネ受
け15と、スライド軸11の中間に取付けたバネ受け1
6とにわたって引張りスプリング17が張設されてスラ
イド軸11およびカッタホルダ3が全体的に後方、つま
り、回転中心である縦軸心X側にスライド付勢されてい
る。
Further, the spring bearing 15 provided in the square block 10 and the spring bearing 1 mounted in the middle of the slide shaft 11
6, a tension spring 17 is stretched and the slide shaft 11 and the cutter holder 3 are entirely biased rearward, that is, toward the vertical axis X, which is the center of rotation.

【0017】次に、図2および図3を参照してカッタホ
ルダ3およびその支持構造について詳しく説明する。図
2はカッタホルダ装着部の平面図、図3はその正面図で
ある。
Next, the cutter holder 3 and its supporting structure will be described in detail with reference to FIGS. 2 and 3. 2 is a plan view of the cutter holder mounting portion, and FIG. 3 is a front view thereof.

【0018】前記スライド軸11に連結した支持ブロッ
ク14の中央には支軸18が縦軸心P周りに回動自在に
軸受支承され、この支軸18の下端にカッタホルダ3が
ボルト19によって高さ調節可能に取付けられている。
そして、カッタホルダ3の前面側に支持ピース20に保
持された切刃片21が、その下端作用部が前記縦軸心P
上に位置するとともに、カッタ移動方向に対してやや前
傾姿勢となるよう取付けられ、かつ、下端作用部を中心
とする長孔22を介してその前傾斜角、つまり切れ角が
調節可能となっている。
At the center of the support block 14 connected to the slide shaft 11, a support shaft 18 is rotatably supported around a vertical axis P, and at the lower end of the support shaft 18, the cutter holder 3 is raised by a bolt 19 to a height. Adjustably installed.
The cutting blade piece 21 held by the support piece 20 on the front side of the cutter holder 3 has a lower end acting portion at the vertical axis P.
It is located on the upper side and is attached so as to be slightly tilted forward with respect to the cutter moving direction, and its front tilt angle, that is, the cutting angle can be adjusted through the long hole 22 centered on the lower end working portion. ing.

【0019】前記支軸18の上端には、遊端にローラ2
3を備えた操作アーム24が連結固定されるとともに、
この操作アーム24と支持ブロック14とにわたってス
プリング25が張設されて、操作アーム24が図2にお
いて時計周りに揺動付勢されている。揺動付勢された操
作アーム24は支持ブロック14側に備えたストッパー
26に当接支持されて一定の姿勢に受止め保持されてい
る。そして、この受止め状態において前記切刃片21が
平面視でカッタ移動方向に対して所定の傾斜角θとなる
ように前記ストッパー26が進退調節されている。
At the upper end of the support shaft 18, the roller 2 is provided at the free end.
The operation arm 24 provided with 3 is connected and fixed, and
A spring 25 is stretched between the operation arm 24 and the support block 14, and the operation arm 24 is urged to swing clockwise in FIG. The oscillatingly biased operation arm 24 is supported by abutting against a stopper 26 provided on the support block 14 side, and is received and held in a fixed posture. Then, in this receiving state, the stopper 26 is adjusted so that the cutting blade piece 21 has a predetermined inclination angle θ with respect to the cutter moving direction in plan view.

【0020】前記ローラ23は、図1に示したケース6
の支持プレート7の下面に備えられた直線板材からなる
ガイド部材27に接触作用する高さに設けられ、後述す
るように、カッタホルダ3の姿勢制御に用いられる。
The roller 23 is the case 6 shown in FIG.
It is provided at a height at which it comes into contact with a guide member 27 made of a straight plate material provided on the lower surface of the support plate 7, and is used for controlling the attitude of the cutter holder 3 as described later.

【0021】尚、図3における符号28はカッタホルダ
3に取付けた支持プレート29に左右一対の支軸30を
介して上下動可能に支持されたテープ押さえであって、
常態ではスプリング31によって下方に変位して切刃片
21を保護し、ウエハWの上面に載せられることで相対
的に上方に弾性後退して中央の開口32より切刃片21
の下端作用部を露出させるようになっている。
Reference numeral 28 in FIG. 3 is a tape retainer supported by a support plate 29 attached to the cutter holder 3 via a pair of left and right support shafts 30 so as to be vertically movable.
In the normal state, the spring 31 displaces downward to protect the cutting blade 21, and when it is placed on the upper surface of the wafer W, it is elastically retracted relatively upward so that the cutting blade 21 comes out of the central opening 32.
The lower end working part of is exposed.

【0022】また、図1に示すように、ホルダ本体3内
には切刃片21を適度に加熱するためのヒータ33と温
度制御用のセンサとしての熱電対34とが埋設されてい
る。そして、これらヒータ33および熱電対34が、前
記回転軸9に連結したベークライト製の回転胴35上に
同心状に取付けたスリップリング36に配線接続されて
いる。また、前記支持プレート7上には、前記スリップ
リング36にそれぞれ摺接する摺接端子37が配線ホル
ダー38を介して取付けられており、これにより、図外
の温度制御器と回転系に備えられたヒータ33および熱
電対34とが電気的に接続されている。
Further, as shown in FIG. 1, a heater 33 for appropriately heating the cutting blade 21 and a thermocouple 34 as a temperature control sensor are embedded in the holder body 3. The heater 33 and the thermocouple 34 are wire-connected to a slip ring 36 concentrically mounted on a Bakelite rotary drum 35 connected to the rotary shaft 9. Sliding contact terminals 37, which slidably contact the slip rings 36, are mounted on the support plate 7 via wiring holders 38, thereby providing a temperature controller (not shown) and a rotary system. The heater 33 and the thermocouple 34 are electrically connected.

【0023】次にこの装置を用いた保護テープの切抜き
処理について説明する。 (1) 処理に際しては先ずカバーケース6を上方に開放し
てウエハ支持テーブル1上に半導体ウエハWを手作業で
同心状に位置合わせして載置し、半導体ウエハWを吸着
保持する。この際カバーケース6側に備えた切抜き用カ
ッタユニット2が前面に露出するが、自由状態のテープ
押え28が切刃片21を外側から隠蔽するために誤って
切刃片21の作用部に触れるおそれはない。 (2) 保護テープTをウエハ表面に貼付ける。 (3) 次に、カバーケース6を降ろしてカッタユニット2
を半導体ウエハWの外周部の特定位置にセットし、切刃
片21の作用部を保護テープTに接触させる。この際、
先にテープ押え28が保護テープTに接触し、その反力
でテープ押え28が上方に押し上げられ、切刃片21の
作用部が保護テープTに突刺さる。 (4) 次に、カバーケース6上から回転軸9を回転操作し
てカッタユニット2を半導体ウエハWの周りを一周させ
ることで、保護テープTをウエハ外周に沿って切抜く。
Next, the cutting process of the protective tape using this device will be described. (1) At the time of processing, first, the cover case 6 is opened upward, the semiconductor wafer W is manually aligned and placed on the wafer support table 1 concentrically, and the semiconductor wafer W is suction-held. At this time, the cutting cutter unit 2 provided on the cover case 6 side is exposed to the front surface, but the tape holder 28 in the free state erroneously touches the working portion of the cutting blade piece 21 to conceal the cutting blade piece 21 from the outside. There is no fear. (2) Attach the protective tape T to the wafer surface. (3) Next, lower the cover case 6 to remove the cutter unit 2.
Is set at a specific position on the outer peripheral portion of the semiconductor wafer W, and the working portion of the cutting blade piece 21 is brought into contact with the protective tape T. On this occasion,
First, the tape retainer 28 comes into contact with the protective tape T, and the tape retainer 28 is pushed up by the reaction force thereof, and the working portion of the cutting blade piece 21 pierces the protective tape T. (4) Next, the rotary shaft 9 is rotated on the cover case 6 so that the cutter unit 2 makes one round around the semiconductor wafer W, so that the protective tape T is cut out along the outer circumference of the wafer.

【0024】この場合、図4に示すように切刃片21が
ウエハWの円弧外周縁に沿って走行する間は、切刃片2
1がウエハ外周縁に対して所定の接触角θで接触してゆ
く。そして、切刃片21がオリエンテーションフラット
OFの前端に至ったところで、切刃片21はオリエンテ
ーションフラットOFの周縁と略平行となる。かつ、こ
こで操作アーム24のローラ23が固定のガイド部材2
7の内面に接触開始する。
In this case, as shown in FIG. 4, while the cutting blade piece 21 travels along the arc outer peripheral edge of the wafer W, the cutting blade piece 2
1 contacts the outer peripheral edge of the wafer at a predetermined contact angle θ. Then, when the cutting blade piece 21 reaches the front end of the orientation flat OF, the cutting blade piece 21 becomes substantially parallel to the peripheral edge of the orientation flat OF. Moreover, here, the roller 23 of the operation arm 24 is fixed to the guide member 2
The inner surface of 7 starts contacting.

【0025】カッタユニット2が更に回動するにつれ
て、ガイド部材27による案内によって操作アーム24
はスプリング25に抗して後退揺動され、これと一体に
カッタホルダ3が揺動することによって切刃片21はオ
リエンテーションフラットOFの周縁に略沿った姿勢、
つまり接触角がほとんど無い状態で前進してオリエンテ
ーションフラットOFに沿ったテープ切抜きを行う。
As the cutter unit 2 further rotates, the operation arm 24 is guided by the guide member 27.
Is reciprocally rocked against the spring 25, and the cutter holder 3 rocks integrally with the spring 25 so that the cutting edge piece 21 has a posture substantially along the peripheral edge of the orientation flat OF.
That is, the tape is cut out along the orientation flat OF while moving forward with almost no contact angle.

【0026】そして、切刃片21がオリエンテーション
フラットOFの終端に至ったところで、ガイド部材27
に対してローラ23が自由になり、操作アーム24がス
プリング25によって元の姿勢に復帰し、再び元の接触
角θをもって切刃片21はウエハWの円弧外周縁に沿っ
て移動してゆく。
Then, when the cutting edge piece 21 reaches the end of the orientation flat OF, the guide member 27 is formed.
On the other hand, the roller 23 becomes free, the operating arm 24 is returned to the original posture by the spring 25, and the cutting blade piece 21 moves along the arc outer peripheral edge of the wafer W again with the original contact angle θ.

【0027】尚、径の大きいウエハWaに対しては、外
側のガイド部材27を用いることになる。また、前記ガ
イド部材としては上記のように板材を用いる他、ガイド
溝を用いることもできる。さらに、カッタユニットは手
回し操作するのみならず、自動的に駆動される型式のも
のとするもよい。
The outer guide member 27 is used for the wafer Wa having a large diameter. Further, as the guide member, besides the plate material as described above, a guide groove can be used. Further, the cutter unit may be of a type that is not only manually operated but also automatically driven.

【0028】[0028]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、ウエハの円弧状外周に沿って保護テープの切
り抜きを行うときには、ウエハの外周縁に対して一定の
接触角をもって切刃片を作用させ、切刃片がオリエンテ
ーションフラットの端部に至ったときは、ガイド手段の
作用で切刃片の接触角を減少させているので、オリエン
テーションフラットでの切刃片の接触角増大による欠損
を回避して円滑良好な保護テープの切抜きを行うことが
できる。
As is apparent from the above description, according to the present invention, when the protective tape is cut out along the arcuate outer periphery of the wafer, the cutting blade has a constant contact angle with the outer peripheral edge of the wafer. When the cutting edge piece reaches the end of the orientation flat by operating the blade, the contact angle of the cutting edge piece is reduced by the action of the guide means, so the contact angle of the cutting edge piece in the orientation flat increases. It is possible to smoothly cut out the protective tape while avoiding chipping.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明に係る半導体ウエハの保護テープ切抜き
装置の一実施例の縦断側面図である。
FIG. 1 is a vertical cross-sectional side view of an embodiment of a semiconductor wafer protective tape cutting device according to the present invention.

【図2】カッタホルダ取付部分の平面図である。FIG. 2 is a plan view of a cutter holder mounting portion.

【図3】カッタホルダ部の一部切欠き正面図である。FIG. 3 is a partially cutaway front view of a cutter holder portion.

【図4】テープ切抜き作動を示す平面図である。FIG. 4 is a plan view showing a tape cutting operation.

【図5】保護テープ切抜き処理形態を示す斜視図であ
る。
FIG. 5 is a perspective view showing a protective tape cutting processing mode.

【図6】従来手段によるテープ切抜き作動を示す平面図
である。
FIG. 6 is a plan view showing a tape cutting operation by conventional means.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…ウエハ支持テーブル 2…カッタユニット 3…カッタホルダ 21…切刃片 23…ローラ 24…操作アーム 25…スプリング 27…ガイド部材 X…縦軸心 W…半導体ウエハ OF…オリエンテーションフラット 1 ... Wafer support table 2 ... Cutter unit 3 ... Cutter holder 21 ... Cutting blade piece 23 ... Roller 24 ... Operation arm 25 ... Spring 27 ... Guide member X ... Vertical axis W ... Semiconductor wafer OF ... Orientation flat

Claims (1)

【特許請求の範囲】 【請求項1】 半導体ウエハの表面に貼付けられた保護
テープをウエハ外周形状に沿って切抜く装置であって、 半導体ウエハを一定姿勢に載置して保持するウエハ支持
テーブルと、 前記ウエハ支持テーブル上において、これと略同心の縦
軸心回りに回転操作される切抜き用のカッタユニット
と、 このカッタユニットの回転半径方向にスライド自在で、
かつ、前記縦軸心側に向けて付勢されてカッタユニット
に組付けられたカッタホルダと、 このカッタホルダを縦軸心周りに回転揺動可能に構成す
るとともに、カッタホルダに備えた切刃片が平面視でウ
エハの円弧外周面に対して一定の角度をもって接触する
一定姿勢となる状態にカッタホルダを揺動付勢する付勢
手段と、 前記切刃片がウエハのオリエンテーションフラットの一
端に到達した時点からカッタホルダを前記付勢手段の揺
動付勢力に抗して後退揺動させてオリエンテーションフ
ラットの端縁に対する切刃片の接触角を減少させるガイ
ド手段と、 を備えたことを特徴とする半導体ウエハの保護テープ切
抜き装置。
Claim: What is claimed is: 1. A wafer support table for cutting out a protective tape attached to the surface of a semiconductor wafer along the outer peripheral shape of the wafer, the wafer supporting table holding and holding the semiconductor wafer in a fixed posture. A cutter unit for cutting that is rotated on the wafer support table about a vertical axis substantially concentric with the wafer support table; and a cutter unit that is slidable in a rotation radius direction of the cutter unit.
Further, a cutter holder that is biased toward the vertical axis side and is assembled to the cutter unit, and the cutter holder is configured to be rotatable and swingable around the vertical axis, and the cutting blade provided on the cutter holder is a flat surface. Urging means for oscillating and urging the cutter holder in a state in which the cutter holder is in contact with the outer peripheral surface of the wafer at a constant angle, and from the time when the cutting edge piece reaches one end of the orientation flat of the wafer. Guide means for reducing the contact angle of the cutting edge piece with respect to the edge of the orientation flat by swinging the cutter holder backward against the swing biasing force of the biasing means. Protective tape cutting device.
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