JPH0537944Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本考案は、複数の処理液による各々任意時間の
浸漬処理を自動的に行なうための浸漬処理装置に
関するものである。

（従来の技術） 例えばメツキ等を行なうに際しては、複数の処
理液により所定の順序でかつ各々所定の時間にわ
たつて浸漬処理を行なう必要がある。このような
浸漬処理を自動的に行なう浸漬処理装置として、
複数の処理槽を１列に配列し、これら処理槽の側
部にて隣接処理槽間に各々コンベヤを配置し、こ
れらコンベヤにより被処理物を隣接処理槽に移送
するものがあつた。

このような浸漬処理装置のコンベヤとして、従
来は、例えば第６図および第７図に示すようなも
のが用いられていた。すなわち第６図および第７
図において、６１は処理槽６２の側部にて隣接処
理槽６２間に各々配置された上下方向に沿う支柱
であり、この支柱６１の内面には、相対向する１
対のレール６３が上下方向に沿つて固着されてい
る。このレール６３は、板状の昇降移動体６４に
回動自在に取付けられた複数の車輪６５を案内し
ており、昇降移動体６４はレール６３に沿つて空
圧あるいは液圧のシリンダ装置６６により昇降駆
動される。昇降移動体６４には処理槽６２の配列
方向と直交する水平方向に沿う支軸６７が軸芯回
りに回動自在に取付けられており、支軸６７の一
端部は昇降移動体６４に固着されたブラケツト６
８により支持されている。支軸６７には、処理槽
６２内の被処理物（図示せず）に係合離脱可能な
ほぼＬ字状の係合体６９が一端部および他端部付
近に固着されていると共に、半径方向外向きに突
出するレバー７０が他端に固着されている。レバ
ー７０の先端部には、ローラ７１が支軸６７と平
行な軸芯回りに回動自在に取付けられており、こ
のローラ７１は、上下方向両端部がほぼ90度の円
弧状のカム板７２の外周縁に当接している。この
カム板７２は、支柱６１から突設されたピン７３
により回動自在に下端部付近を支持され、またば
ね７４によりピン７３を中心として第７図の時計
回りの方向に付勢されている。

このコンベヤは、昇降移動体６４がシリンダ装
置６６により下降限の位置かから上昇させられる
ことによつて、係合体６９が被処理物に係合した
状態で昇降移動体６４と一体に上昇し、第７図の
右側の処理槽６２から被処理物を引き上げる。こ
のとき、レバー７０には被処理物の重量により第
７図の時計回りの方向に力が作用しているので、
カム板７２は第７図のようにばね７４の付勢力に
抗して上端が支柱６１から離れている。昇降移動
体６４が上昇限に達すると、ローラ７１がカム板
７２の上端から離れるので、レバー７０は被処理
物の重量により上下方向に沿う姿勢になる。また
これと同時に、カム板７２はばね７４の付勢力に
より第７図の時計回りの方向に回動して上端が支
柱６１に当接する。昇降移動体６４が下降する
と、ローラ７１はカム板７２の上端部の円弧面に
当接し、この円弧面に沿つて移動するので、レバ
ー７０は第７図の時計回りの方向に回動する。こ
れにより支軸６７が回動し、被処理物は第７図の
右側の処理槽６２の上方の位置から左側の処理槽
６２の上方に位置に移動する。さらに昇降移動体
６４が下降することにより、被処理物は左側の処
理槽６２の内部に挿入される。昇降移動体６４が
下降限に達する直前で、被処理物の上端部が処理
槽６２の側壁上に乗り、被処理物が係合体６９か
ら離脱する。昇降移動体６４が下降限に達する
と、ローラ７１がカム板７２の下端から離れ、レ
バー７０が上下方向に沿う姿勢になる。この状態
でシリンダ装置６６は停止し、次の被処理物の移
送まで待機状態になる。なお、シリンダ装置６６
の作動は、図外の制御装置により制御される。

他の従来装置として、第８図のように、昇降移
動体６４の上昇限および下降限度の位置で、レバ
ー７０にストツパ７６，７７を当接させることに
より支軸６７を回動させる構成のものもあつた
（特開昭57−60075号公報参照） （考案が解決しようとする課題） 第６図および第７図のコンベヤを備えた従来装
置では、昇降移動体６４の上昇限付近において、
レバー７０の回動速度が、全回動角度のうちの前
半が重力によりほぼ決定され、後半が昇降移動体
６４の下降速度によりほぼ決定されるので、被処
理物のほぼ水平方向に沿う移動速度が速すぎ、慣
性力により被処理物が係合体６９を中心として激
しく振動する結果、被処理物が落下したり、ある
いは処理槽６２への挿入に支障をきたすことがあ
つた。この問題は、昇降移動体６４の昇降速度を
非常に遅くすることにより、ある程度緩和するこ
とができるが、このようにすれば被処理物の移送
に非常に時間がかかり、処理能力が低下する。ま
た、カム板７２の上端部および下端部の円弧面に
沿つてローラ７１を移動させることにより支軸６
７を回動させる構成であるため、円弧面の分だけ
昇降のストロークが余分に必要になり、したがつ
て装置の高さが高くなる。

また第８図のコンベヤを備えた従来装置では、
昇降のストロークが余分に必要になるという問題
はないものの、ストツパ７６，７７により支軸６
７を回動させる構成であるため、被処理物の振動
が著しく、何等かの振動対策が不可欠となる。そ
こで、昇降移動体６４の上昇限付近においてシリ
ンダ装置６６の作動速度を大幅に低下させること
によりその解決を図つているが、このためにシリ
ンダ装置６６の空圧あるいは液圧回路に多数の電
磁弁等を配置し、それらを制御装置により高度に
制御しなければならず、製作コストが非常に高価
であつた。

（課題を解決するための手段） 上記課題を解決するため、本考案の浸漬処理装
置は、１列に配列されて被処理物を処理するため
の処理液を貯留する複数の処理槽と、これら処理
槽の側部にて隣接処理槽間に各々上下方向に沿つ
て配置された複数の支柱と、これら各支柱に上下
方向に沿つて固着された昇降案内体と、昇降駆動
装置により各別に駆動されて前記各昇降案内体に
沿つて所定距離昇降する複数の昇降移動体と、こ
れら各昇降移動体に前記処理槽の配列方向と直交
する水平方向に沿つて軸芯回りに所定角度回動自
在に支持された支軸と、これら各支軸に固定され
て前記昇降移動体の昇降により前記被処理物に係
合離脱可能な係合体と、前記各支軸から半径方向
外向きに突出するアームと、前記各昇降移動体に
取付けられて前記支軸の回動速度を調整可能に減
速させる可変ダンパー装置と、前記各昇降案内体
に前記支軸と平行な軸芯回りに回動自在に取付け
られて前記アームの先端が前記支軸に対して所定
距離上側に位置したときにアームに係合する第１
の係合爪と、前記各昇降案内体に前記支軸と平行
な軸芯回りに回動自在に取付けられて前記アーム
の先端が前記支軸に対して所定距離下側に位置し
たときにアームに係合する第２の係合爪と、前記
各支柱に固定されて前記昇降移動体が上昇限まで
上昇したときに前記第１の係合爪に当接してアー
ムとの係合を解除させる第１の係合解除部材と、
各支柱に固定されて前記昇降移動体が下降限まで
下降したときに前記第２の係合爪に当接してアー
ムとの係合を解除させる第２の係合解除部材と、
前記各支柱に取付けられて前記昇降移動体が上昇
限まで上昇したときに前記レバーを下向きに付勢
する第１の付勢体と、前記各支柱に取付けられて
前記昇降移動体が下降限まで下降したときに前記
レバーを上向きに付勢する第２の付勢体とを設け
た構成としたものである。

（作用） 昇降移動体の上昇により被処理物は係合体に係
合して処理槽内から上昇する。昇降移動体が上昇
限に達すると、第１の係合解除部材が第１の係合
爪に当接してレバーと第１の係合爪との係合が解
除される。するとレバーは第１の付勢体により下
向きに付勢されて回動し、第２の係合爪と係合す
る。このレバーの回動により被処理物がほぼ水平
簿方向に移動するが、このとき、支軸の回動速度
は可変ダンパー装置により減速される。昇降移動
体が下降して下降限に近付くと、被処理物は隣接
処理槽に収容され、昇降移動体が下降限に達する
と、第２の係合解除部材が第２の係合爪に当接し
てレバーと第２の係合爪との係合が解除される。
するとレバーは第２の付勢体により上向きに付勢
されて回動し、第１の係合爪と係合して待機状態
に戻る。

（実施例） 以下、本考案の一実施例を第１図〜第５図に基
づいて説明する。

第４図は本考案の一実施例における浸漬処理装
置の概略全体構成図、第５図は処理槽の縦断側面
図で、１は１列に配列された複数の処理槽であ
り、これら処理槽１の一方の側部には、隣接処理
槽１間の各々にコンベヤ装置２が配置されてい
る。各処理槽１の両側壁には、上端にほぼ３角形
状の切欠部４が形成されており、この切欠部４に
被処理物５上端のバー６の両端部が嵌入すること
により、被処理物５が処理槽１内の処理液７に浸
漬された状態で支持されている。処理槽１内の処
理液７は、処理内容に対応してどの処理槽１にい
かなる種類の処理液７を貯留するかが決定され
る。したがつて処理内容に応じて各処理槽１にお
ける被処理物５の処理時間が決定される。

第１図は前記コンベヤ装置２の正面図、第２図
は同側面図で、理解を容易にするために１個のコ
ンベヤ装置２のみを示している。第１図および第
２図において、１０は処理槽１の一方の側部にて
隣接処理槽１間に各々配置された支柱であり、こ
れら支柱１０は、枠状でかつ上下方向に沿つて立
設されている。各支柱１０には、昇降案内体とし
ての相対向する１対のレール１１が上下方向に沿
つて固着されており、これらレール１１は昇降移
動体１２に回動自在に取付けられた複数の車輪１
３を案内している。昇降移動体１２には、処理槽
１の幅方向に沿う支軸１４が軸芯りに回動自在に
取付けられており、この支軸１４の一端部は昇降
移動体１２に固着されたブラケツト１５により支
持されている。支軸１４には、一端部および他端
部付近に被処理物５のバー６に係合離脱可能なほ
ぼＬ字状の係合体１６が固着されており、さらに
他端には半径方向外向きに突出するアーム１７が
固着されている。アーム１７の基端部は一部切欠
かれた円板状部１７ａに構成されており、昇降移
動体１２に一端側の爪部分が円板状部１７ａの切
欠部分に係合する第１の係合爪１８と第２の係合
爪１９とが処理槽１の幅方向に沿う軸芯回りに回
動自在に取付けられている。第１の係合爪１８の
回動中心は支軸１４よりも上側に位置し、第２の
係合爪１９の回動中心は支軸１４よりも下側に位
置しており、第１の係合爪１８はばね２０により
第２図の反時計回りの方向に付勢され、第２の係
合爪１９はばね２１により第２図の時計回りの方
向に付勢されている。支軸１４の他端部には、支
軸１４の回動に対して抵抗を与える可変ダンパー
装置２２が取付けられている。支柱１０の上端部
右端には、昇降移動体１２が上昇限まで上昇した
ときに第１の係合爪１８の他端部に当接して第１
の係合爪１８とアーム１７との係合を解除する第
１の係合解除部材２３が固着されており、支柱１
０の上下方向中央部右端には、昇降移動体１２が
下降限まで下降したときに第２の係合爪１９の他
端部に当接して第２の係合爪１９とアーム１７と
の係合を解除する第２の係合解除部材２４が固着
されている。支柱１０の上端部左端には、昇降移
動体１２が上昇限まで上昇したときにアーム１７
を下向きに付勢する第１の付勢体２５が取付けら
れており支柱１０の上下方向中央部左端には、昇
降移動体１２が下降限まで下降したときにアーム
１７を上向きに付勢する第２の付勢体２６が取付
けられている。第１の付勢体２５は、箱状のケー
シング２５ａと、このケーシング２５ａ内に収容
されたばね２５ｂと、このばね２５ｂにより付勢
されてケーシング２５ａの下端に形成された孔か
ら下向きに突出するロツド２５ｃとにより構成さ
れており、第２の付勢体２６は、箱状のケーシン
グ２６ａと、このケーシング２６ａ内に収容され
たばね２６ｂと、このばね２６ｂにより付勢され
てケーシング２６ａの上端に形成された孔から上
向きに突出するロツド２６ｃとにより構成されて
いる。昇降移動体１２は昇降駆動装置としての液
圧あるいは空圧のシリンダ装置２７のピストンロ
ツド２７ａの先端に取付けられており、シリンダ
装置２７は支柱１０の下半部に上下方向に沿つて
立設されている。

前記可変ダンパー装置２２は、第３図のよう
に、円筒状のケーシング２８と、円筒状の一端部
が支軸１４の外周に嵌合固着されかつ円筒面の一
部を構成する他端面がケーシング２８の内周に摺
動可能に当接する回動板２９とにより構成されて
おり、ケーシング２８の内周には、円筒面の一部
を構成する先端面が回動板２９の一端部外周面に
当接する板状突出部３０が一体に突設されてい
る。板状突出部３０には、厚み方向に沿う貫通孔
３１が形成されていると共に、一端がケーシング
２８の外周面に開口しかつ他端が貫通孔３１に開
口する螺孔が半径方向に沿つて形成されており、
この螺孔にはボルト３２が螺合している。ケーシ
ング２８の内部は回動板２９と板状突出部３０と
により部屋３３と部屋３４とに区画されており、
部屋３３，３４には油等の液体が充填されてい
る。すなわち、支軸１４が例えば第３図の時計回
りの方向に回動すると、回動板２９が支軸１４と
一体に回動し、部屋３３内の液体が貫通孔３１を
通つて部屋３４に流入する。ここで貫通孔３１の
断面積は小さいので、液体の流れが規制され、支
軸１４の回動の抵抗になつて、支軸１４の回動速
度を減速させる。ボルト３２を進退させることに
より、貫通孔３１の実質的な断面積が変化し、支
軸１４の回動に対する抵抗力を可変することがで
きる。

次に作用を説明する。第１図および第２図の状
態では、昇降移動体１２は下降限に位置してお
り、被処理物５は第２図の左側の処理槽１内に浸
漬されている。また第１の係合爪１８はアーム１
７の円板状部１７ａに係合している。左側の処理
槽１での所定の処理時間が経過したときに、図外
の制御装置から図外の電磁弁に駆動信号が供給さ
れ、シリンダ装置２７のピストンロツド２７ａが
伸展する。これにより昇降移動体１２がレール１
１に案内されて上昇する。昇降移動体１２の上昇
により、係合体１６がバー６に下側から係合し、
被処理物５が昇降移動体１２と一体に上昇する。
このとき支軸１４には、被処理物５等に作用する
重力により第２図の反時計回りの方向に回動力が
作用するが、第１の係合爪１８と円板状部１７ａ
との係合により回動が阻止されている。昇降移動
体１２が上昇限近傍まで上昇すれば、アーム１７
の先端部がロツド２５ｃに当接し、ロツド２５ｃ
がばね２５ｂの付勢力に抗して上昇する。昇降移
動体１２が上昇限まで上昇すれば、第１の係合爪
１８の他端部が第１の係合解除部材２３に当接す
るので、第１の係合爪１８がばね２０の付勢力に
抗して第２図の時計回り方向に回動し、第１の係
合爪１８と円板状部１７ａとの係合が解除され
る。したがつて、アーム１７は被処理物５等に作
用する重力と第１の付勢体２５の付勢力とにより
第２図の反時計回りの方向に回動し、第２の係合
爪１９が円板状部１７ａに係合する。ここで、ア
ーム１７が水平方向に沿う姿勢になつた時点を越
えると、被処理物５等に作用する重力はアーム１
７を逆方向すなわち第２図の時計回りの方向に回
動させる力に切換わるが、この力に抗して第１の
付勢力２５によりアーム１７が下向きに付勢され
るので、アーム１７は第２図の反時計回りの方向
に所定角度回動する。アーム１７と係合体１６と
は支軸１４に固着されているので、アーム１７と
一体に係合体１６が回動し、これにより被処理物
５は第２図の左側の処理槽１の上方の位置から右
側のの処理槽１の上方の位置に移動する。このと
き、支軸１４の回動速度は可変ダンパー装置２６
により減速される。したがつて被処理物５に加わ
る衝撃が緩和され、被処理物５の振動は小さい。
第２の係合爪１９と円板状部１７ａとが係合した
ときに、制御装置から電磁弁に駆動信号が供給さ
れ、シリンダ装置１９のピストロツド１９ａが縮
退して昇降移動体１２と被処理物５とが一体に下
降する。このとき支軸１４には、被処理物５等に
作用する重力により第２図の時計回りの方向に回
動力が作用するが、第２の係合爪１９と円板状部
１７ａとの係合により回動が阻止されている。昇
降移動体１２の下降により被処理物５は第２図の
右側の処理槽１の内部に挿入される。昇降移動体
１２が下降限近傍まで下降すると、被処理物５の
バー６の両端部が処理槽１の切欠部４に嵌入し、
係合体１６はバー６から離脱する。昇降移動体１
２がさらに下降すると、アーム１７の先端部がロ
ツド２６ｃに当接し、ロツド２６ｃがばね２６ｂ
の付勢力に抗して下降する。昇降移動体１２が下
降限まで下降すれば、第２の係合爪１９の他端部
が第２の係合解除部材２４に当接するので、第２
の係合爪１９がばね２１の付勢力に抗して第２図
の反時計回り方向に回動し、第２の係合爪１９と
円板状部１７との係合が解除される。したがつ
て、アーム１７は係合体１６等に作用する重力と
第２の付勢体２６の付勢力とにより第２図の時計
回りの方向に回動し、第１の係合爪１８が円板状
部１７ａに係合する。ここで、アーム１７が水平
方向に沿う姿勢になつた時点を越えると、係合体
１６等に作用する重力はアーム１７を逆方向すな
わち第２図反時計回り方向に回動させる力に切換
わるが、この力に抗して第２の付勢体２６により
アーム１７が上向きに付勢されるので、アーム１
７は第２図の時計回りの方向に所定角度回動す
る。これにより第１図および第２図に示す待機状
態に戻る。

上記の如く、各コンベヤ装置２が制御装置によ
り制御されて、被処理物５を隣接する処理槽１に
移送することにより、自動的に浸漬処理が行われ
る。なお、各処理槽１における処理時間は、たと
えば初段の処理槽１が20秒、２段目の処理槽１が
40秒、３段目の処理槽１が60秒、４段目の処理槽
１が40秒等というように、処理内容に応じて予め
決まつており、制御装置はタイマー機能により所
定の処理時間を計測し、処理時間の経過毎に被処
理物５が順次次段の処理槽１に移送されるように
コンベヤ装置２を制御する。また初段の処理槽１
には、各処理槽１における処理時間のうち最長の
処理時間と同じ時間毎に新たな被処理物５が供給
される。例えば、処理槽１における処理時間が20
秒と40秒と60秒との３種類であるとすると、60秒
毎に初段の処理槽１に被処理物５が供給される。
このようにすれば、１つの処理槽１に２つの被処
理物５が供給されるという事態を生じることがな
く、最も効率的に浸漬処理を行なうことができ
る。

このように、支軸１４の回動速度を減速させる
調整可能な可変ダンパー装置２２を設けたので、
支軸１４の回動速度すなわち被処理物５の水平方
向の移動速度を、昇降移動体１２の昇降速度とは
無関係に所望の速度に設定することができ、した
がつて処理能力を低下させることなく移送中の被
処理物５の振動を低減させることができる。しか
も昇降移動体１２の上昇限の位置でアーム１７を
下向きに付勢する第１の付勢体２５と、昇降移動
体１２の下降限の位置でアーム１７を上向きに付
勢する第２の付勢体２６とを設けたので、第６図
および第７図の従来例と比較して、昇降移動体１
２のオーバーストロークが不要であることから、
装置の高さを低減できる。さらには第８図の従来
例のように、昇降移動体１２の昇降速度を精密に
制御して上昇限付近で減速させる場合と比較し
て、装置全体の製造コストを大幅に低減できる。

（別の実施例） 上記実施例においては、昇降移動体１２を昇降
させるために液圧あるいは空圧のシリンダ装置２
７を用いたが、本考案はこのような構成に限定さ
れるものではなく、シリンダ装置２７の代わりに
例えば電動機とラツクおよびピニオンあるいはチ
エーンあるいはスクリユー等を組合わせたものを
用いてもよい。また昇降する１本の可動枠に出退
自在に複数の係合突起を設け、昇降の必要な昇降
移動体１２のみを係合突起を突出させることによ
り引つ掛けて昇降させるように構成してもよい。

（考案の構成） 以上説明したように本考案によれば、可変ダン
パー装置を設けたので、昇降移動体の昇降速度を
精密に制御して上昇限付近で減速させる場合と比
較して装置全体の製造コストを大幅に低減できる
ものでありながら、アームの回動速度すなわち被
処理物の水平方向の移動速度を、昇降移動体の昇
降速度とは無関係に所望の速度に設定することが
できることから、処理能力を低下させることな
く、移送時における被処理物の振動を大幅に低減
させることができ、しかも昇降移動体の上昇限の
位置でアームを下向きに付勢する第１の付勢体
と、昇降移動体の下降限の位置でアームを上向き
に付勢する第２の付勢体とを設けたので、昇降移
動体のオーバーストロークが不要であることか
ら、装置の高さを低減でき、装置をコンパクトに
できる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本考案の一実施例における浸漬処理装
置に採用したコンベヤ装置の正面図、第２図は同
側面図、第３図は可変ダンパー装置の断面図、第
４図は本考案の一実施例における浸漬処理装置の
概略全体構成図、第５図は処理槽の縦断側面図、
第６図は従来の浸漬処理装置に採用されているコ
ンベヤ装置の正面図、第７図は同側面図、第８図
は別の従来の浸漬処理装置に採用されているコン
ベヤ装置の側面図である。 １……処理槽、５……被処理物、７……処理
液、１０……支柱、１１……レール（昇降案内
体）、１２……昇降移動体、１４……支軸、１６
……係合体、１７……アーム、１８……第１の係
合爪、１９……第２の係合爪、２２……可変ダン
パー装置、２３……第１の係合解除部材、２４…
…第２の係合解除部材、２５……第１の付勢体、
２６……第２の付勢体、２７……シリンダ装置
（昇降駆動装置）。

Claims (1)

【実用新案登録請求の範囲】
1. １列に配列されて被処理物を処理するための処
   理液を貯留する複数の処理槽と、これら処理槽の
   側部にて隣接処理槽間に各々上下方向に沿つて配
   置された複数の支柱と、これら各支柱に上下方向
   に沿つて固着された昇降案内体と、昇降駆動装置
   により各別に駆動されて前記各昇降案内体に沿つ
   て所定距離昇降する複数の昇降移動体と、これら
   各昇降移動体に前記処理槽の配列方向と直交する
   水平方向に沿つて軸芯回りに所定角度回動自在に
   支持された支軸と、これら各支軸に固定されて前
   記昇降移動体の昇降により前記被処理物に係合離
   脱可能な係合体と、前記各支軸から半径方向外向
   きに突出するアームと、前記各昇降移動体に取付
   けられて前記支軸の回動速度を調整可能に減速さ
   せる可変ダンパー装置と、前記各昇降案内体に前
   記支軸と平行な軸芯回りに回動自在に取付けられ
   て前記アームの先端が前記支軸に対して所定距離
   上側に位置したときにアームに係合する第１の係
   合爪と、前記各昇降案内体に前記支軸と平行な軸
   芯回りに回動自在に取付けられて前記アームの先
   端が前記支軸に対して所定距離下側に位置したと
   きにアームに係合する第２の係合爪と、前記各支
   柱に固定されて前記昇降移動体が上昇限まで上昇
   したときに前記第１の係合爪に当接してアームと
   の係合を解除させる第１の係合解除部材と、前記
   各支柱に固定されて前記昇降移動体が下降限まで
   下降したときに前記第２の係合爪に当接してアー
   ムとの係合を解除させる第２の係合解除部材と、
   前記各支柱に取付けられて前記昇降移動体が上昇
   限まで上昇したときに前記レバーを下向きに付勢
   する第１の付勢体と、前記各支柱に取付けられて
   前記昇降移動体が下降限まで下降したときに前記
   レバーを上向きに付勢する第２の付勢体とを設け
   たことを特徴とする浸漬処理装置。