JPH0539481Y2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0539481Y2 JPH0539481Y2 JP1985074126U JP7412685U JPH0539481Y2 JP H0539481 Y2 JPH0539481 Y2 JP H0539481Y2 JP 1985074126 U JP1985074126 U JP 1985074126U JP 7412685 U JP7412685 U JP 7412685U JP H0539481 Y2 JPH0539481 Y2 JP H0539481Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas analyzer
- sample gas
- sampling pump
- gas
- moisture
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
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- Sampling And Sample Adjustment (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本考案は、ガス分析計装置に係り、詳しくは、
ガス分析計と、試料ガスを吸引すると共に加圧し
て前記ガス分析計へ吸引するためのサンプリング
ポンプと、ガス分析計とサンプリングポンプとの
間にドレンセパレータとを備えて成るガス分析装
置において、前記サンプリングポンプからガス分
析計に至る試料ガス吸引流路におけるドレンの発
生を防止する技術に関する。
ガス分析計と、試料ガスを吸引すると共に加圧し
て前記ガス分析計へ吸引するためのサンプリング
ポンプと、ガス分析計とサンプリングポンプとの
間にドレンセパレータとを備えて成るガス分析装
置において、前記サンプリングポンプからガス分
析計に至る試料ガス吸引流路におけるドレンの発
生を防止する技術に関する。
第3図は、従来構成のガス分析装置の一例であ
る煙道排ガス分析装置の一般的全体構成を示し、
図示するように、試料ガストラツプ1、一次フイ
ルター2、一次ドレンセパレータ3、二次フイル
ター4等を介して、サンプリングポンプ5により
煙道C内から試料ガスとして排ガスを吸引して装
置内に取り入れるように構成されると共に、前記
サンプリングポンプ5には、キヤピラリー6、電
子冷却式二次ドレンセパレータ7、流量計8等が
介装されたガス分析計9への試料ガス供給流路A
と、その試料ガス供給流路Aにおける前記サンプ
リングポンプ5の直後から三方継手10を介して
分岐されると共に流量調節用ニードルバルブ付流
量計11が介装されているバイパス流路Bとが接
続され、もつて、前記サンプリングポンプ5によ
つて吸引導入されると共に加圧された試料ガスの
うちの所定量が前記ガス分析計9へ供給されるよ
うに構成されている。
る煙道排ガス分析装置の一般的全体構成を示し、
図示するように、試料ガストラツプ1、一次フイ
ルター2、一次ドレンセパレータ3、二次フイル
ター4等を介して、サンプリングポンプ5により
煙道C内から試料ガスとして排ガスを吸引して装
置内に取り入れるように構成されると共に、前記
サンプリングポンプ5には、キヤピラリー6、電
子冷却式二次ドレンセパレータ7、流量計8等が
介装されたガス分析計9への試料ガス供給流路A
と、その試料ガス供給流路Aにおける前記サンプ
リングポンプ5の直後から三方継手10を介して
分岐されると共に流量調節用ニードルバルブ付流
量計11が介装されているバイパス流路Bとが接
続され、もつて、前記サンプリングポンプ5によ
つて吸引導入されると共に加圧された試料ガスの
うちの所定量が前記ガス分析計9へ供給されるよ
うに構成されている。
上記のように構成された従来のガス分析装置に
おいては、前記サンプリングポンプ5の直前の一
次側における試料ガス中の水分は周囲の温度での
飽和水蒸気圧となつており、一方、そのサンプリ
ングポンプ5の二次側における試料ガスは加圧さ
れているためにその試料ガス中の水分は露点は2
〜3℃程度低下することとなり、従つて、そのポ
ンプ5の二次側流路配管の内壁、特に、前記三方
継手10やキヤピラリー6においてドレンが発生
付着し易い傾向にある。
おいては、前記サンプリングポンプ5の直前の一
次側における試料ガス中の水分は周囲の温度での
飽和水蒸気圧となつており、一方、そのサンプリ
ングポンプ5の二次側における試料ガスは加圧さ
れているためにその試料ガス中の水分は露点は2
〜3℃程度低下することとなり、従つて、そのポ
ンプ5の二次側流路配管の内壁、特に、前記三方
継手10やキヤピラリー6においてドレンが発生
付着し易い傾向にある。
ところが、このように前記二次ドレンセパレー
タ7およびガス分析計9の上流部分においてドレ
ンが発生すると、キヤピラリー6の閉塞とか二次
ドレンセパレータ7の効率低下を招く原因となる
ばかりで無く、試料ガス中に含まれているSO2ガ
スなどのように溶解性の強い被測定ガスがその発
生したドレンに吸収されてしまつて測定誤差の原
因になる、といつた欠点が生ずる。かかる欠点を
解消するためには、前記三方継手10やキヤピラ
リー6を含む前記サンプリングポンプ5の直後の
二次側配管部分を加熱することが考えられるが、
その場合は、加熱設備が必要で装置全体の大型化
や製造コストアツプを招いたり、前記電子冷却式
二次ドレンセパレータ7の負荷の増大を招く、と
いつた新たな問題が生じてしまう不都合がある。
タ7およびガス分析計9の上流部分においてドレ
ンが発生すると、キヤピラリー6の閉塞とか二次
ドレンセパレータ7の効率低下を招く原因となる
ばかりで無く、試料ガス中に含まれているSO2ガ
スなどのように溶解性の強い被測定ガスがその発
生したドレンに吸収されてしまつて測定誤差の原
因になる、といつた欠点が生ずる。かかる欠点を
解消するためには、前記三方継手10やキヤピラ
リー6を含む前記サンプリングポンプ5の直後の
二次側配管部分を加熱することが考えられるが、
その場合は、加熱設備が必要で装置全体の大型化
や製造コストアツプを招いたり、前記電子冷却式
二次ドレンセパレータ7の負荷の増大を招く、と
いつた新たな問題が生じてしまう不都合がある。
本考案は、上記実情に鑑みてなされたものであ
つて、その目的は、比較的簡素でかつ安価に実施
できる構造改良によつて、前記サンプリングポン
プ5の二次側におけるドレンの発生を効果的に防
止せんとすることにある。
つて、その目的は、比較的簡素でかつ安価に実施
できる構造改良によつて、前記サンプリングポン
プ5の二次側におけるドレンの発生を効果的に防
止せんとすることにある。
上記目的を達成するために、本考案によるガス
分析装置は、冒頭に記載したように基本的構成を
有するものにおいて、サンプリングポンプとドレ
ンセパレータとの間に水分に対する良好な選択性
を有する半透膜製の細いパイプを設けてある、と
いう特徴を備えている。
分析装置は、冒頭に記載したように基本的構成を
有するものにおいて、サンプリングポンプとドレ
ンセパレータとの間に水分に対する良好な選択性
を有する半透膜製の細いパイプを設けてある、と
いう特徴を備えている。
かかる特徴構成故に発揮される作用は次の通り
である。
である。
即ち、上記本考案によるガス分析装置において
は、サンプリングポンプの二次側の試料ガス供給
流路内における試料ガス中の水分が、そのサンプ
リングポンプの加圧作用により結露し易い状態、
つまり、湿度が100%の臨界状態となつても、あ
るいは、その臨界状態を越えて幾分か結露してし
まつたとしても、その水分または結露した微小な
水滴は、外部の雰囲気(通常は大気であり湿度は
50〜70%)との間で生ずる浸透圧によつて、前記
試料ガス供給流路に形成された半透膜製のパイプ
の周壁部分を通過して外部へ放出されることとな
るため、従来のようにサンプリングポンプの二次
側の配管の内壁面や継手部分にドレンが発生して
付着することが無い。換言すれば、前記サンプリ
ングポンプの加圧作用に起因してその二次側にお
ける試料ガス中の水分の露点2〜3℃程度低下し
てしまつた分を、前記半透膜製のパイプを介して
その水分の一部をわずかながらでも外部へ放出す
ることによつて完全に補償することができる訳で
ある。
は、サンプリングポンプの二次側の試料ガス供給
流路内における試料ガス中の水分が、そのサンプ
リングポンプの加圧作用により結露し易い状態、
つまり、湿度が100%の臨界状態となつても、あ
るいは、その臨界状態を越えて幾分か結露してし
まつたとしても、その水分または結露した微小な
水滴は、外部の雰囲気(通常は大気であり湿度は
50〜70%)との間で生ずる浸透圧によつて、前記
試料ガス供給流路に形成された半透膜製のパイプ
の周壁部分を通過して外部へ放出されることとな
るため、従来のようにサンプリングポンプの二次
側の配管の内壁面や継手部分にドレンが発生して
付着することが無い。換言すれば、前記サンプリ
ングポンプの加圧作用に起因してその二次側にお
ける試料ガス中の水分の露点2〜3℃程度低下し
てしまつた分を、前記半透膜製のパイプを介して
その水分の一部をわずかながらでも外部へ放出す
ることによつて完全に補償することができる訳で
ある。
以下、本考案の各種実施例を図面(第1図ない
し第2図)に基いて説明する。
し第2図)に基いて説明する。
第1図は、本考案によるガス分析装置の一例で
ある煙道排ガス分析装置の全体構成を示し、図示
するように、煙道C内に挿入された試料ガストラ
ツプ1、一次フイルター2、接触冷却方式の一次
ドレンセパレータ3、二次フイルター4等を介し
て、サンプリングポンプ5により前記煙道C内か
ら試料ガスとしての排ガスを吸収して装置内に取
り入れるように構成すると共に、前記サンプリン
グポンプ5には、三方継手10を介して、ガス分
析計9へ至る試料ガス供給流路Aとそれを迂回す
るバイパス流路Bとを接続し、かつ、そのバイパ
ス流路Bには流量調節用ニードルバルブ付流量計
11を介装し、もつて、前記サンプリングポンプ
5によつて吸引導入されると共に加圧された試料
ガスのうちの所定量が前記ガス分析計9へ供給さ
れるように構成し、また、そのガス分析計9を通
過した分析済み試料ガスと前記バイパス流路Bを
通過した試料ガスとを共通の排気流路12へ導く
ように構成してある。
ある煙道排ガス分析装置の全体構成を示し、図示
するように、煙道C内に挿入された試料ガストラ
ツプ1、一次フイルター2、接触冷却方式の一次
ドレンセパレータ3、二次フイルター4等を介し
て、サンプリングポンプ5により前記煙道C内か
ら試料ガスとしての排ガスを吸収して装置内に取
り入れるように構成すると共に、前記サンプリン
グポンプ5には、三方継手10を介して、ガス分
析計9へ至る試料ガス供給流路Aとそれを迂回す
るバイパス流路Bとを接続し、かつ、そのバイパ
ス流路Bには流量調節用ニードルバルブ付流量計
11を介装し、もつて、前記サンプリングポンプ
5によつて吸引導入されると共に加圧された試料
ガスのうちの所定量が前記ガス分析計9へ供給さ
れるように構成し、また、そのガス分析計9を通
過した分析済み試料ガスと前記バイパス流路Bを
通過した試料ガスとを共通の排気流路12へ導く
ように構成してある。
そして、前記試料ガス供給流路Aにおける前記
三方継手10の直後の部分、つまり、従来はキヤ
ピラリーが設けられていた部分には、水分に対す
る良好な選択性を有する半透膜製の細いパイプH
を介装すると共に、その下流側には電子冷却式の
二次ドレンセパレータ7および流量計8を介装し
てある。前記半透膜製のパイプHは、例えばナフ
イオン(デユポン社の登録商標)などの材料で構
成され、そのパイプH内における加圧試料ガス
(湿度はほぼ100%)中の水分の分圧と、そのパイ
プHの周囲の雰囲気(この場合は大気でその湿度
は通常50〜70%)中の水分の分圧との差に基く浸
透圧に応じて、前記半透膜製パイプH内の加圧試
料ガス中の水分をそのパイプHの周壁を選択的に
通過させて周囲雰囲気(大気)中へ放出する作用
をなすものであり、従つて、その周囲雰囲気(大
気)の湿度が100%より小である限り、パイプH
内の加圧試料ガス中の水分は結露しない。なお、
図中、3A,7Aは夫々前記一次ドレンセパレー
タ3および二次ドレンセパレータ7用のドレンポ
ツトである。
三方継手10の直後の部分、つまり、従来はキヤ
ピラリーが設けられていた部分には、水分に対す
る良好な選択性を有する半透膜製の細いパイプH
を介装すると共に、その下流側には電子冷却式の
二次ドレンセパレータ7および流量計8を介装し
てある。前記半透膜製のパイプHは、例えばナフ
イオン(デユポン社の登録商標)などの材料で構
成され、そのパイプH内における加圧試料ガス
(湿度はほぼ100%)中の水分の分圧と、そのパイ
プHの周囲の雰囲気(この場合は大気でその湿度
は通常50〜70%)中の水分の分圧との差に基く浸
透圧に応じて、前記半透膜製パイプH内の加圧試
料ガス中の水分をそのパイプHの周壁を選択的に
通過させて周囲雰囲気(大気)中へ放出する作用
をなすものであり、従つて、その周囲雰囲気(大
気)の湿度が100%より小である限り、パイプH
内の加圧試料ガス中の水分は結露しない。なお、
図中、3A,7Aは夫々前記一次ドレンセパレー
タ3および二次ドレンセパレータ7用のドレンポ
ツトである。
第2図は別の実施例にかかるガス分析装置置を
示す。
示す。
即ち、前記実施例においては、前記サンプリン
グポンプ5からガス分析計9へ至る試料ガス供給
流路Aの一部分のみを前記半透膜製パイプHで構
成したものを例示したが、この第2図に示すよう
に、前記試料ガス供給流路Aの実質的に前記サン
プリングポンプ5から二次ドレンセパレータ7ま
での全体を前記半透膜製パイプHで構成してもよ
い。
グポンプ5からガス分析計9へ至る試料ガス供給
流路Aの一部分のみを前記半透膜製パイプHで構
成したものを例示したが、この第2図に示すよう
に、前記試料ガス供給流路Aの実質的に前記サン
プリングポンプ5から二次ドレンセパレータ7ま
での全体を前記半透膜製パイプHで構成してもよ
い。
なお、本考案は、第1図ないし第3図に示され
ているバイパス流路Bを有しないガス分析装置に
も適用できることは言うまでもない。
ているバイパス流路Bを有しないガス分析装置に
も適用できることは言うまでもない。
上述したように、本考案に係るガス分析装置に
よれば、サンプリングポンプとドレンセパレータ
との間に水分に対する良好な選択性を有する半透
膜製の細いパイプを設けるという比較的簡素でか
つ安価に実施できる構造改良を施すのみでありな
がら、その半透膜製パイプ内における加圧試料ガ
ス中の水分の分圧とその周囲の雰囲気中の水分の
分圧との差に基く浸透圧によつて、前記試料ガス
中の余分な水分をその半透膜製のパイプの周壁部
分を通過させて外部へ放出させられるので、従来
生じがちであつたサンプリングポンプの二次側に
おけるドレンの発生ならびに配管の内壁面や継手
部分へのドレンの付着を効果的に防止でき、従つ
て、配管の閉塞とか、二次ドレンセパレータの効
率低下とか、試料ガス中に含まれているSO2ガス
などのように溶解性の強い被測定ガスのドレンに
よる吸収に起因する測定誤差の発生といつた従来
問題も一挙に解消できる、という優れた実用効果
が発揮されるに至つた。
よれば、サンプリングポンプとドレンセパレータ
との間に水分に対する良好な選択性を有する半透
膜製の細いパイプを設けるという比較的簡素でか
つ安価に実施できる構造改良を施すのみでありな
がら、その半透膜製パイプ内における加圧試料ガ
ス中の水分の分圧とその周囲の雰囲気中の水分の
分圧との差に基く浸透圧によつて、前記試料ガス
中の余分な水分をその半透膜製のパイプの周壁部
分を通過させて外部へ放出させられるので、従来
生じがちであつたサンプリングポンプの二次側に
おけるドレンの発生ならびに配管の内壁面や継手
部分へのドレンの付着を効果的に防止でき、従つ
て、配管の閉塞とか、二次ドレンセパレータの効
率低下とか、試料ガス中に含まれているSO2ガス
などのように溶解性の強い被測定ガスのドレンに
よる吸収に起因する測定誤差の発生といつた従来
問題も一挙に解消できる、という優れた実用効果
が発揮されるに至つた。
又、ドレンを除去する半透膜製の細いパイプが
直接外部の雰囲気下にあるために構造が至つて簡
単で装置全体をコンパクトとすることができると
共に製造コストの低減をはかることができる。
直接外部の雰囲気下にあるために構造が至つて簡
単で装置全体をコンパクトとすることができると
共に製造コストの低減をはかることができる。
第1図ないし第2図は本考案に係るガス分析装
置の具体的実施例を示し、第1図は模式的全体回
路構成図、第2図は別の実施例の要部の模式的回
路構成図である。また、第3図は従来技術を説明
するためのものであつて、従来構成のガス分析装
置の一般的な全体回路構成図を示している。 9……ガス分析計、5……サンプリングポン
プ、A……試料ガス供給流路、H……半透膜製の
パイプ。
置の具体的実施例を示し、第1図は模式的全体回
路構成図、第2図は別の実施例の要部の模式的回
路構成図である。また、第3図は従来技術を説明
するためのものであつて、従来構成のガス分析装
置の一般的な全体回路構成図を示している。 9……ガス分析計、5……サンプリングポン
プ、A……試料ガス供給流路、H……半透膜製の
パイプ。
Claims (1)
- ガス分析計と、試料ガスを吸引すると共に加圧
してガス分析計へ供給するためのサンプリングポ
ンプと、ガス分析計とサンプリングポンプとの間
にドレンセパレータとを備えて成るガス分析装置
において、上記サンプリングポンプとドレンセパ
レータとの間に水分に対する良好な選択性を有す
る半透膜製の細いパイプを設けてあることを特徴
とするガス分析装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985074126U JPH0539481Y2 (ja) | 1985-05-17 | 1985-05-17 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1985074126U JPH0539481Y2 (ja) | 1985-05-17 | 1985-05-17 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61189248U JPS61189248U (ja) | 1986-11-26 |
| JPH0539481Y2 true JPH0539481Y2 (ja) | 1993-10-06 |
Family
ID=30614131
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1985074126U Expired - Lifetime JPH0539481Y2 (ja) | 1985-05-17 | 1985-05-17 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0539481Y2 (ja) |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53111784A (en) * | 1977-03-11 | 1978-09-29 | Fuji Electric Co Ltd | Gas analyzer |
| JPS6035877Y2 (ja) * | 1979-06-08 | 1985-10-24 | 富士電機株式会社 | ガス分析装置 |
| JPS5623436U (ja) * | 1979-07-30 | 1981-03-03 | ||
| JPS6035878Y2 (ja) * | 1979-08-06 | 1985-10-24 | 富士電機株式会社 | ガス分析装置 |
| JPS5625250U (ja) * | 1979-08-06 | 1981-03-07 | ||
| JPS56101534A (en) * | 1980-01-18 | 1981-08-14 | Horiba Ltd | Dehumidifier in gas analyzing device |
-
1985
- 1985-05-17 JP JP1985074126U patent/JPH0539481Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61189248U (ja) | 1986-11-26 |
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