JPH053959U - Semiconductor pressure sensor - Google Patents
Semiconductor pressure sensorInfo
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 温度特性の良好な半導体圧力センサを実現す
る。
【構成】 半導体からなる圧力センサチップと、該セン
サチップにダイアフラムを形成する凹部と、前記ダイア
フラムに設けられた歪み検出素子と、前記センサチップ
に一面側が接合され凹部と基準室を構成する基板とを具
備する半導体圧力センサにおいて、前記基板の一面側に
前記圧力センサチップに近接して設けられ半導体からな
る温度チップと、該温度チップに設けられた温度検出素
子とを具備したことを特徴とする半導体圧力センサであ
る。
(57) [Abstract] [Purpose] To realize a semiconductor pressure sensor with good temperature characteristics. A pressure sensor chip made of a semiconductor, a recess forming a diaphragm on the sensor chip, a strain detecting element provided on the diaphragm, and a substrate having one side bonded to the sensor chip and forming a recess and a reference chamber. A semiconductor pressure sensor comprising: a temperature chip made of a semiconductor provided on one surface side of the substrate in the vicinity of the pressure sensor chip; and a temperature detection element provided on the temperature chip. It is a semiconductor pressure sensor.
Description
【0001】[0001]
本考案は、特性の良好な半導体圧力センサに関するものである。 The present invention relates to a semiconductor pressure sensor having good characteristics.
【0002】[0002]
図10は、従来より一般に使用されている従来例の構成説明図である。 図において、1は半導体からなるセンサチップ、2はセンサチップ1にダイア フラム3を形成する凹部である。 4はダイアフラム3に設けられた歪み検出素子である。 5はセンサチップ1に一面側が接合され、凹部2と基準室6を構成するガラス よりなる基板である。 6はセンサチップ1に設けられた温度検出素子である。 FIG. 10 is an explanatory diagram of a configuration of a conventional example that is generally used in the past. In the figure, 1 is a sensor chip made of a semiconductor, and 2 is a recess for forming a diaphragm 3 in the sensor chip 1. Reference numeral 4 is a strain detecting element provided on the diaphragm 3. Reference numeral 5 is a substrate made of glass, one surface of which is bonded to the sensor chip 1 and which constitutes the recess 2 and the reference chamber 6. Reference numeral 6 is a temperature detection element provided in the sensor chip 1.
【0003】 以上の構成において、基準室6に基準圧Psが導入され、ダイアフラム3の外 表面には測定圧Pmが加えられる。測定圧Pmに対応した出力変化が歪み検出素 子4より得られることにより、測定圧Pmを測定することができる。 そして、温度検出素子6により温度が検出され、歪み検出素子4の検出値に対 して温度補償がなされる。In the above structure, the reference pressure Ps is introduced into the reference chamber 6, and the measurement pressure Pm is applied to the outer surface of the diaphragm 3. Since the output change corresponding to the measurement pressure Pm is obtained from the strain detection element 4, the measurement pressure Pm can be measured. Then, the temperature detection element 6 detects the temperature, and the detected value of the strain detection element 4 is temperature-compensated.
【0004】[0004]
しかしながら、この様な装置においては、歪み検出素子4にアルミニウム線が あるが、温度検出素子6にもアルミニウム線が存在する。このアルミニウム線は 、周囲温度の変化により、センサチップ1の半導体とアルミニウム線との熱膨脹 係数差により歪みが生じ、歪み検出素子4検出値に影響し、歪み検出素子4の温 度特性を悪くする。 また、圧力測定時のダイアフラム3の変形により発生した歪みが、温度検出素 子6に伝わり、温度変化が内にもかかわらず、温度検出素子6の出力が変化する 。 However, in such a device, although the strain detecting element 4 has an aluminum wire, the temperature detecting element 6 also has an aluminum wire. This aluminum wire is distorted due to a difference in thermal expansion coefficient between the semiconductor of the sensor chip 1 and the aluminum wire due to a change in ambient temperature, which affects the detection value of the strain detecting element 4 and deteriorates the temperature characteristic of the strain detecting element 4. .. Further, the strain generated by the deformation of the diaphragm 3 at the time of pressure measurement is transmitted to the temperature detection element 6, and the output of the temperature detection element 6 changes even though the temperature change is inward.
【0005】 本考案は、この問題点を、解決するものである。 本考案の目的は、温度特性が良好な半導体圧力センサを提供するにある。The present invention solves this problem. An object of the present invention is to provide a semiconductor pressure sensor having good temperature characteristics.
【0006】[0006]
この目的を達成するために、本考案は、半導体からなる圧力センサチップと、 該センサチップにダイアフラムを形成する凹部と、前記ダイアフラムに設けられ た歪み検出素子と、前記センサチップに一面側が接合され凹部と基準室を構成す る基板とを具備する半導体圧力センサにおいて、 前記基板の一面側に前記圧力センサチップに近接して設けられ半導体からなる 温度チップと、該温度チップに設けられた温度検出素子とを具備したことを特徴 とする半導体圧力センサを構成したものである。 In order to achieve this object, the present invention has a pressure sensor chip made of a semiconductor, a recess forming a diaphragm in the sensor chip, a strain detecting element provided in the diaphragm, and one surface of the sensor chip bonded to the sensor chip. In a semiconductor pressure sensor comprising a recess and a substrate forming a reference chamber, a temperature chip made of a semiconductor is provided on one surface side of the substrate in proximity to the pressure sensor chip, and a temperature detection provided on the temperature chip. A semiconductor pressure sensor comprising a device and a semiconductor pressure sensor.
【0007】[0007]
以上の構成において、基準室に基準圧が導入され、ダイアフラムの外表面には 測定圧が加えられる。測定圧に対応した出力変化が歪み検出素子より得られるこ とにより、測定圧を測定することができる。 そして、温度検出素子により温度が検出され、歪み検出素子の検出値に対して 温度補償がなされる。而して、温度検出素子と歪み検出素子とが別体に設けられ たので、アルミニウム線による悪影響がない。 以下、実施例に基づき詳細に説明する。 In the above structure, the reference pressure is introduced into the reference chamber, and the measurement pressure is applied to the outer surface of the diaphragm. Since the output change corresponding to the measurement pressure is obtained from the strain detecting element, the measurement pressure can be measured. Then, the temperature is detected by the temperature detecting element, and the detected value of the strain detecting element is temperature-compensated. Since the temperature detecting element and the strain detecting element are provided separately, there is no adverse effect due to the aluminum wire. Hereinafter, detailed description will be given based on examples.
【0008】[0008]
図1は本考案の一実施例の要部構成説明図である。 図において、第10図と同一記号は同一機能を表わす。 以下、第10図と相違部分のみ説明する。 FIG. 1 is an explanatory view of the main configuration of an embodiment of the present invention. In the figure, the same symbols as in FIG. 10 represent the same functions. Only parts different from FIG. 10 will be described below.
【0009】 11は、基板5の一面側に圧力センサチップ1に近接して設けられ、半導体か らなる温度チップである。 12は、温度チップ11にもうけられた温度検出素子である。。Reference numeral 11 is a temperature chip which is provided on one surface side of the substrate 5 close to the pressure sensor chip 1 and is made of a semiconductor. Reference numeral 12 is a temperature detecting element provided in the temperature chip 11. .
【0010】 以上の構成において、基準室に基準圧が導入され、ダイアフラムの外表面には 測定圧が加えられる。測定圧に対応した出力変化が歪み検出素子より得られるこ とにより、測定圧を測定することができる。 そして、温度検出素子により温度が検出され、歪み検出素子の検出値に対して 温度補償がなされる。而して、温度検出素子と歪み検出素子とが別体に設けられ たので、アルミニウム線による悪影響がない。In the above configuration, the reference pressure is introduced into the reference chamber, and the measurement pressure is applied to the outer surface of the diaphragm. Since the output change corresponding to the measurement pressure is obtained from the strain detecting element, the measurement pressure can be measured. Then, the temperature is detected by the temperature detecting element, and the detected value of the strain detecting element is temperature-compensated. Since the temperature detecting element and the strain detecting element are provided separately, there is no adverse effect due to the aluminum wire.
【0011】 この結果、 (1)温度検出素子6のアルミニウム線の、周囲温度の変化による歪みの発生が 、歪み検出素子4検出値に影響せず、歪み検出素子4の温度特性を悪くしない。 (2)圧力測定時のダイアフラム3の変形により発生した歪みが、温度検出素子 6に伝達されず、温度変化がないにもかかわらず、温度検出素子6の出力が変化 する事がない。 (3)センサチップ1と温度センサ11とは、同一の基板5に接合されているの で、センサチップ1と温度センサ11との温度差は、極めて小さいものが得られ る。As a result, (1) the occurrence of strain of the aluminum wire of the temperature detecting element 6 due to a change in ambient temperature does not affect the detected value of the strain detecting element 4 and does not deteriorate the temperature characteristics of the strain detecting element 4. (2) The strain generated by the deformation of the diaphragm 3 at the time of pressure measurement is not transmitted to the temperature detecting element 6 and the output of the temperature detecting element 6 does not change although the temperature does not change. (3) Since the sensor chip 1 and the temperature sensor 11 are bonded to the same substrate 5, the temperature difference between the sensor chip 1 and the temperature sensor 11 is extremely small.
【0012】 したがって、温度検出素子12と歪み検出素子4とが別体に設けられたので、 アルミニウム線による悪影響がないので、温度特性の良好な半導体圧力センサが 得られる。Therefore, since the temperature detecting element 12 and the strain detecting element 4 are provided separately, there is no adverse effect due to the aluminum wire, and a semiconductor pressure sensor having good temperature characteristics can be obtained.
【0013】 図2〜図5に、本装置の製作の一実施例を示す。 (1)図2に示す如く、ガラス板Aに所定の形状の貫通穴Bを超音波加工具Cを 用いる超音波加工等により形成する。 (2)図3に示す如く、歪み検出素子4と温度検出素子12とを形成したウエハ ―Dをガラス板Aに取付ける。 (3)図4に示す如く、ガラス板Aとウエハ―Dとを陽極接合Eする。 (4)図5に示す如く、歪み検出素子4と温度検出素子12との間に溝Fを設け た後、所定の寸法で、ダイシングGする。2 to 5 show an embodiment of manufacturing the device. (1) As shown in FIG. 2, a through hole B having a predetermined shape is formed in a glass plate A by ultrasonic processing using an ultrasonic processing tool C or the like. (2) As shown in FIG. 3, the wafer D having the strain detecting element 4 and the temperature detecting element 12 formed thereon is attached to the glass plate A. (3) As shown in FIG. 4, the glass plate A and the wafer D are anodically bonded E. (4) As shown in FIG. 5, after forming the groove F between the strain detecting element 4 and the temperature detecting element 12, dicing G is performed with a predetermined dimension.
【0014】 図6〜図9は、本装置の他の製作実施例を示す。 (1)図6に示す如く、ガラス板Hに所定の形状の貫通穴Bを超音波加工具Cを 用いる超音波加工等により形成した後、個々の固体にダイシングする。 (2)図7に示す如く、歪み検出素子4を形成したウエハ―Iを形成した後、個 々の固体にダイシングする。 (3)図8に示す如く、温度検出素子12を形成したウエハ―Jを形成した後、 個々の固体にダイシングする。 (4)図9に示す如く、ガラス板Hとウエハ―I,Jとを陽極接合Kする。 本実施例においては、歪み検出素子4と温度検出素子12とを別工程で作るこ とが出来るので、製作が容易で、安価に作る事が出来る。6 to 9 show another manufacturing embodiment of the present device. (1) As shown in FIG. 6, a through hole B having a predetermined shape is formed in a glass plate H by ultrasonic processing using an ultrasonic processing tool C or the like, followed by dicing into individual solids. (2) As shown in FIG. 7, after the wafer I on which the strain detecting element 4 is formed is formed, it is diced into individual solids. (3) As shown in FIG. 8, after forming the wafer J on which the temperature detecting element 12 is formed, it is diced into individual solids. (4) As shown in FIG. 9, the glass plate H and the wafers I and J are anodically bonded K. In this embodiment, since the strain detecting element 4 and the temperature detecting element 12 can be manufactured in separate steps, they can be manufactured easily and at low cost.
【0015】[0015]
以上説明したように、本考案は、半導体からなる圧力センサチップと、該セン サチップにダイアフラムを形成する凹部と、前記ダイアフラムに設けられた歪み 検出素子と、前記センサチップに一面側が接合され凹部と基準室を構成する基板 とを具備する半導体圧力センサにおいて、 前記基板の一面側に前記圧力センサチップに近接して設けられ半導体からなる 温度チップと、該温度チップに設けられた温度検出素子とを具備したことを特徴 とする半導体圧力センサを構成した。 As described above, according to the present invention, a pressure sensor chip made of a semiconductor, a concave portion forming a diaphragm on the sensor chip, a strain detecting element provided on the diaphragm, and a concave portion having one surface joined to the sensor chip are formed. In a semiconductor pressure sensor including a substrate that constitutes a reference chamber, a temperature chip made of a semiconductor is provided on one surface side of the substrate in proximity to the pressure sensor chip, and a temperature detection element provided on the temperature chip. A semiconductor pressure sensor characterized in that it is provided is constructed.
【0016】 この結果、 (1)温度検出素子6のアルミニウム線の、周囲温度の変化による歪みの発生が 、歪み検出素子4検出値に影響せず、歪み検出素子4の温度特性を悪くしない。 (2)圧力測定時のダイアフラム3の変形により発生した歪みが、温度検出素子 6に伝達されず、温度変化がないにもかかわらず、温度検出素子6の出力が変化 する事がない。 (3)センサチップ1と温度センサ11とは、同一の基板5に接合されているの で、センサチップ1と温度センサ11との温度差は、極めて小さいものが得られ る。As a result, (1) the occurrence of strain in the aluminum wire of the temperature detecting element 6 due to a change in ambient temperature does not affect the detected value of the strain detecting element 4 and does not deteriorate the temperature characteristics of the strain detecting element 4. (2) The strain generated by the deformation of the diaphragm 3 at the time of pressure measurement is not transmitted to the temperature detecting element 6 and the output of the temperature detecting element 6 does not change although the temperature does not change. (3) Since the sensor chip 1 and the temperature sensor 11 are bonded to the same substrate 5, the temperature difference between the sensor chip 1 and the temperature sensor 11 is extremely small.
【0017】 したがって、温度検出素子12と歪み検出素子4とが別体に設けられたので、 アルミニウム線による悪影響がないので、温度特性の良好な半導体圧力センサが 得られる。 従って、本考案によれば、温度特性の良好な半導体圧力センサを実現すること が出来る。Therefore, since the temperature detecting element 12 and the strain detecting element 4 are provided separately, there is no adverse effect due to the aluminum wire, and a semiconductor pressure sensor having good temperature characteristics can be obtained. Therefore, according to the present invention, it is possible to realize a semiconductor pressure sensor having good temperature characteristics.
【図1】本考案の一実施例の要部構成説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram of a main part configuration of an embodiment of the present invention.
【図2】図1の製作説明図で、基板5の製作図である。2 is a production explanatory view of FIG. 1, and is a production drawing of a substrate 5. FIG.
【図3】図1の製作説明図で、歪み検出素子4と温度検
出素子12の製作図である。3 is a production explanatory view of FIG. 1, and is a production drawing of a strain detection element 4 and a temperature detection element 12. FIG.
【図4】図1の製作説明図で、ガラス板Aとウエハ―D
との陽極接合説明図である。FIG. 4 is a production explanatory view of FIG. 1, showing a glass plate A and a wafer D.
FIG.
【図5】図1の製作説明図で、ダイシング説明図であ
る。5 is a production explanatory diagram of FIG. 1, and is a dicing explanatory diagram. FIG.
【図6】図1の製作説明図で、ガラス板Hの製作図であ
る。6 is a production explanatory view of FIG. 1, and is a production drawing of the glass plate H. FIG.
【図7】図1の製作説明図で、ウエハ―Iの製作図であ
る。FIG. 7 is a production explanatory diagram of FIG. 1 and is a production diagram of the wafer-I.
【図8】図1の製作説明図で、ウエハ―Jの製作図であ
る。8 is a production explanatory diagram of FIG. 1, and is a production diagram of the wafer-J. FIG.
【図9】図1の製作説明図で、ガラス板Hとウエハ―
I,Jとの陽極接合説明図である。FIG. 9 is a production explanatory view of FIG. 1, showing a glass plate H and a wafer.
It is an explanatory view of anodic bonding with I and J.
【図10】従来より一般に使用されている従来例の構成
説明図である。 1…センサチップ 2…凹部 3…ダイアフラム、 4…歪み検出素子 5…基板 6…基準室 11…温度チップ 12…温度検出素子FIG. 10 is an explanatory diagram of a configuration of a conventional example that is generally used in the past. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Sensor chip 2 ... Recessed part 3 ... Diaphragm, 4 ... Strain detection element 5 ... Substrate 6 ... Reference chamber 11 ... Temperature chip 12 ... Temperature detection element
Claims (1)
成する基板とを具備する半導体圧力センサにおいて、 前記基板の一面側に前記圧力センサチップに近接して設
けられ半導体からなる温度チップと、 該温度チップに設けられた温度検出素子とを具備したこ
とを特徴とする半導体圧力センサ。Claims for utility model registration: 1. A pressure sensor chip made of a semiconductor, a recess for forming a diaphragm on the sensor chip, a strain detecting element provided on the diaphragm, and one side of the sensor chip bonded to the sensor chip. In a semiconductor pressure sensor comprising a concave portion and a substrate forming a reference chamber, a temperature chip made of a semiconductor is provided on one surface side of the substrate in proximity to the pressure sensor chip, and a temperature detection provided on the temperature chip. A semiconductor pressure sensor comprising an element.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5003591U JPH053959U (en) | 1991-06-28 | 1991-06-28 | Semiconductor pressure sensor |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5003591U JPH053959U (en) | 1991-06-28 | 1991-06-28 | Semiconductor pressure sensor |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH053959U true JPH053959U (en) | 1993-01-22 |
Family
ID=12847747
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5003591U Withdrawn JPH053959U (en) | 1991-06-28 | 1991-06-28 | Semiconductor pressure sensor |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH053959U (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008539811A (en) * | 2005-04-30 | 2008-11-20 | アエスキュラップ アーゲー | Implantable device for measuring intracranial pressure |
-
1991
- 1991-06-28 JP JP5003591U patent/JPH053959U/en not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008539811A (en) * | 2005-04-30 | 2008-11-20 | アエスキュラップ アーゲー | Implantable device for measuring intracranial pressure |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19950907 |